「Ega」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

"Kojiki" describes that 'Misasagi (Imperial mausoleum) is located on Mofushi Hill in Ega, Kawachi Province.' 例文帳に追加

『古事記』に「御陵は河内国の恵賀（えが）の裳伏（もふし）岡にあり」と記す。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

He was entombed in Ega no nagano no kita no misasagi (mausoleum). 例文帳に追加

恵我長野北陵（えがのながののきたのみささぎ）に葬られた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In EGA optimization simulation, an alignment processing parameter is optimized through the use of the result of EGA simulation using the measurement result of the first wafer alignment (EGA measurement) and the result of EGA simulation using the measurement result of the second wafer alignment (EGA measurement) (steps S38, S39, S42, S43).例文帳に追加

ＥＧＡ最適化シミュレーションにおいて、１回目のウエハアライメント（ＥＧＡ計測）の計測結果を用いてのＥＧＡシミュレーションの結果と、２回目のウエハアライメント（ＥＧＡ計測）の計測結果を用いてのＥＧＡシミュレーションの結果と、を用いてアライメント処理パラメータが最適化される（ステップＳ３８、Ｓ３９、Ｓ４２，Ｓ４３）。 - 特許庁

In EGA optimization simulation, the alignment processing parameters are optimized while taking account of the linewidth variation of a pattern formed, using results of EGA simulation performed using measurement results of first time wafer alignment(EGA measurement), and results of EGA simulation performed using measurement results of second time wafer alignment(EGA measurement) (steps S38, S39, S42, S43).例文帳に追加

ＥＧＡ最適化シミュレーションにおいて、第１回目のウエハアライメント（ＥＧＡ計測）の計測結果を用いてのＥＧＡシミュレーションの結果と、第２回目のウエハアライメント（ＥＧＡ計測）の計測結果を用いてのＥＧＡシミュレーションの結果と、を用いて、形成されたパターンの線幅変動も考慮して、アライメント処理パラメータが最適化される（ステップＳ３８、Ｓ３９、Ｓ４２，Ｓ４３）。 - 特許庁

In the position measuring method of this invention, when wafer alignment is conducted for two search shots and eight EGA shots, the two search shots are made common with shot to EGA shot, and the same common mark of the alignment mark is used in the search measurement and the EGA measurement.例文帳に追加

本発明の位置計測方法では、２箇所のサーチショットと８箇所のＥＧＡショットを対象としてウエハアライメントを行う際に、２箇所のサーチショットはＥＧＡショットとの共用ショットとし、アライメントマークもサーチ計測とＥＧＡ計測とで同一の共用マークを用いる。 - 特許庁

His Misasagi (Imperial mausoleum) is on the hill of Mofushi at Ega in Kafuchi (Minamikawachi-gun, Osaka Prefecture). 例文帳に追加

御陵は川内（かふち）の恵賀の裳伏（もふし）の岡にあり（大阪府南河内郡）。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In Nihonshoki, it is recorded as 'Nagano no Misasagi in Kawachi Province,' and in Kojiki, it is recorded that 'misasagi (Imperial mausoleum) is at Nagae in Ega of Kawachi.' 例文帳に追加

日本書紀に「河内国長野陵」、古事記には「御陵は河内の恵賀（えが）の長江にあり」とする。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In the paragraph on Shoryoryo (the Bureau for managing imperial mausoleums) in "the Engishiki" (an ancient book for codes and procedures on national rites and prayers), there appears Ega no Mofushi no oka Mausoleum. 例文帳に追加

『延喜式』諸陵寮に恵我藻伏崗陵（えがのもふしのおかのみささぎ）。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Takara and his troops saw that in the distance from Takayasu-no-ki Castle, and went down to the west of Ega-no-gawa River to fight against the Karakuni's troops. 例文帳に追加

財らは高安城からこの様子を遠望して、衛我河の西に出撃して戦った。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

that modify keyboard bindings and the EGA graphics table and employ the "user mapping" font table in the console driver. 例文帳に追加

このようなユーティリティを利用することにより、コンソールドライバにおけるキーボードと EGA グラフィックテーブルの割り当てを変更し、"ユーザ割り当て(user mapping)"フォントテーブルを使用することができる。 - JM

Console support for KOI8-R is available under Linux through user-mode utilities that modify keyboard bindings and the EGA graphics table, and employ the "user mapping" font table in the console driver. 例文帳に追加

Linux での KOI8-R のコンソールサポートは、ユーザモードのユーティリティで実現されている。 これはキーボードの割り当てと EGA グラフィックテーブルを変更し、コンソールドライバのフォントテーブルに "ユーザ割り当て" を行う。 - JM

The display panel has an image output circuit for outputting a temporarily holding CV signal or an EGA signal to a liquid crystal panel 110 by temporarily holding the CV signal or the EGA signal out of a WVGA signal and the CV signal or the EGA signal input at different timing and being matched with output timing to the liquid crystal panel 110 of the WVGA signal.例文帳に追加

異なるタイミングで入力されるＷＶＧＡ信号とＣＶ信号又はＥＧＡ信号のうちＣＶ信号又はＥＧＡ信号を一時的に保持すると共に、ＷＶＧＡ信号の液晶パネル１１０への出力タイミングに合わせて一時的に保持したＣＶ信号又はＥＧＡ信号を液晶パネル１１０へ出力する画像出力回路を有する。 - 特許庁

In a step 403, the reference vector map of a correction quantity vector when performing an EGA treatment by using all of the measured values of candidate marks on an EGA measuring shot region, is prepared; in a step 407, the vector map of the correction quantity vector when performing the EGA treatment for each of combinations excluding the portion of the number of expected skip shots, is prepared.例文帳に追加

ステップ４０３において、ＥＧＡ計測ショット領域の候補のマークの計測値をすべて用いてＥＧＡ処理を行ったときの補正量ベクトルの基準ベクトルマップを作成し、ステップ４０７において、予想跳びショット数分除いた組合せについてそれぞれＥＧＡ処理を行ったときの補正量ベクトルのベクトルマップを作成する。 - 特許庁

An EGA measurement result and mark signal waveform data, etc. are provided from the exposure apparatus and a measuring instrument to the simulator (steps S505, S508).例文帳に追加

また、露光装置及び測定機器からシミュレータに、ＥＧＡ計測結果及びマーク信号波形データ等を提供する（ステップＳ５０５、Ｓ５０８）。 - 特許庁

In each shot area 31n on a wafer W, search marks 32X and 32Y and EGA marks 33X and 33Y are formed.例文帳に追加

ウエハＷ上の各ショット領域３１_n にサーチマーク３２Ｘ，３２Ｙ、及びＥＧＡマーク３３Ｘ，３３Ｙが形成されている。 - 特許庁

Specifically, if the error is out of a predetermined range based on EGA (Enhanced Global Arrayment) superposition accuracy, it is judged that a measurement error is present.例文帳に追加

具体的には、この誤差が、ＥＧＡ重ね合わせ精度に基づく所定の範囲内にない場合には、計測エラーが生じていると判定する。 - 特許庁

The signal photographed with the optical system for fine is stored, and is read and used in EGA measurement after search measurement.例文帳に追加

ファイン用光学系で撮像した信号は記憶しておき、サーチ計測後のＥＧＡ計測の際に読み出して使用する。 - 特許庁

The process time of the alignment measurement is shortened by the moving time and the photographing time of the two shots in the EGA measurement.例文帳に追加

ＥＧＡ計測の時に２箇所のショットの移動時間と撮像時間分、アライメント計測の処理時間を短縮することができる。 - 特許庁

Then, in a step 409, correlation coefficients between vector maps are calculated, and the combination that the correlation coefficient is lower than a threshold after a step 411 and also residual errors in the EGA treatment are reduced is employed as the combination of the shot region used for the EGA treatment.例文帳に追加

そして、ステップ４０９において、ベクトルマップ間の相関係数を算出し、ステップ４１１以降で、その相関係数が閾値よりも低い組合せで、ＥＧＡ処理の残留誤差が低減されている組合せを、ＥＧＡ処理に用いるショット領域の組合せとして決定する。 - 特許庁

An alignment detection system is used to detect an alignment mark (EGA mark or search mark) formed on a wafer under a plurality of illumination conditions and a plurality of imaging conditions.例文帳に追加

アライメント検出系を用いてウエハ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件及び結像条件で検出される。 - 特許庁

An alignment mark system is used to detect an alignment mark (EGA mark or search mark) formed on a wafer under a plurality of illumination conditions or a plurality of imaging conditions.例文帳に追加

アライメント検出系を用いてウエハ上に形成されたアライメントマーク（ＥＧＡマーク又はサーチマーク）が複数の照明条件又は複数の結像条件で検出される。 - 特許庁

Thereby the output circuit for outputting the WVGA signal and the CV signal or the EGA signal on the liquid crystal panel 110 is made common to reduce circuit scale.例文帳に追加

これによれば、ＷＶＧＡ信号とＣＶ信号又はＥＧＡ信号とを液晶パネル１１０へ出力する出力回路を共通化でき、回路規模を縮小化できる。 - 特許庁

EGA operation is performed by using the design values of a plurality of sample shots SA_1 to SA_8 set on a wafer 8 and the measured values and their positional information to calculate an error vector indicating an alignment error.例文帳に追加

ウエハ８上に複数設定されたサンプルショットＳＡ_１〜ＳＡ_８の設計値とその位置情報の計測値とを用いてＥＧＡ演算を行い、アライメント誤差を示す誤差ベクトルを算出する。 - 特許庁

In order to prevent the accuracy deterioration due to the omission, the coordinate system which positions the wafers is corrected correspondingly to the positional deviations of the EGA marks 33X and 33Y measured by performing sample shots B1 and B2.例文帳に追加

これによる精度低下を防止するために、サンプルショットＢ１，Ｂ２において計測されるＥＧＡマーク３３Ｘ，３３Ｙの位置ずれ量に応じて、ウエハを位置決めする座標系を補正する。 - 特許庁

In step ST6, a B-layer is exposed using enhanced global alignment while the EGA(enhanced global alignment) rejecting function is being used for the purpose of removing an abnormal data.例文帳に追加

ステップＳＴ６では、異常データを除去するためのＥＧＡリジェクト機能を使用しつつエンハンスグローバルアライメントを用いてＢレイヤの露光を行う。 - 特許庁

For the wafers after the n-th wafer, the position coordinates of all shots for which the linear components of the misalignment are corrected by EGA are calculated (step 120).例文帳に追加

一方、ｎ枚目以降のウエハについては、ＥＧＡにより位置ずれ量の線形成分を補正した全ショットの位置座標を算出する（ステップ１２０）。 - 特許庁

In a step 411, the logarithm likelihood PL(M) with penalty of a model M following a parameter a_jk calculated by performing an EGA arithmetic operation is calculated only from this time measurement result measured in a step 405.例文帳に追加

ステップ４１１では、ステップ４０５で計測された今回の計測結果のみによりＥＧＡ演算を行って算出されたパラメータａ_jkに従うモデルＭのペナルティ付き対数尤度ＰＬ（Ｍ）を算出する。 - 特許庁

For a first wafer, the positions of the EGA marks 33X and 33Y are measured by performing sample shots B1-B8 after the positions of the search marks 32X and 32Y are measured in shot areas A1-A3.例文帳に追加

１枚目のウエハに対してはショット領域Ａ１〜Ａ３でサーチマーク３２Ｘ，３２Ｙの位置を計測した後、サンプルショットＢ１〜Ｂ８でＥＧＡマーク３３Ｘ，３３Ｙの位置を計測する。 - 特許庁

An EGA operation is performed using this scaling correction value and the measured values of all sample shot SA_1 to SA_9, and there is asked for a transformation matrix which converts the design value of the shot region on the wafer 8 into the coordinate value which should be used for the alignment.例文帳に追加

このスケーリング補正値と、全サンプルショットＳＡ_１〜ＳＡ_９の計測値とを用いてＥＧＡ演算を行って、ウエハ８上のショット領域の設計値を実際に位置合わせすべき座標値に変換する変換行列を求める。 - 特許庁

By determining the number of shots for assigning sample shots from shots S1 to S32, an array of the sample shots, degree of regression analysis used for calculation of a displacement model about a substrate alignment mark PAM based on a temperature distribution on upper surface of a first holding section 26, and by executing EGA processing, the array of the shots S1 to S32 is estimated.例文帳に追加

ＥＧＡの処理条件として、ショットＳ１〜Ｓ３２からサンプルショットに指定するショットの数と、サンプルショットの配置と、基板アライメントマークＰＡＭの変位モデルの算出に用いる回帰分析の次数とを、第１保持部２６上面の温度分布に基づいて決定し、ＥＧＡ処理を実行してショットＳ１〜Ｓ３２の配列を推定する。 - 特許庁