「PHASE SHIFT」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an advanced phase shift lithography and attenuated phase shift mask for narrow track width D write pole definition.例文帳に追加

改良された位相シフトリソグラフィと、狭いトラック幅Ｄの書き込み極を画定するためのハーフトーン位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask and a phase shift mask blank capable of high precision patterning and high in acid resistance and reliability.例文帳に追加

高精度のパターニングが可能で、かつ、耐酸性及び信頼性の高い位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

In the MMI light distributors 110, 120, the phase shift of the two kinds of light is transmitted in zero, since there is reciprocal phase shift of -λ/4.例文帳に追加

また、相反的位相変位であるλ／4があるので、MMI光分配器(110、120)では、二つの光の位相変位が０になって伝わる。 - 特許庁

To provide a wireless apparatus which attains transmission by both of a PSK (Phase Shift Keying) and an ASK (Amplitude Shift Keying) by using one phase modulation means.例文帳に追加

一つの位相変調手段でＰＳＫ及びＡＳＫの両方の送信を可能にさせた無線装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for a phase shift mask which is capable of surely detecting the defect, more particularly microdefects of the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥、特に微小欠陥を正確に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

When a phase shift type photomask blank is required, a phase shift layer is formed between the film forming substrate and the light shielding film.例文帳に追加

フォトマスクブランクを位相シフト型のものとする場合には、成膜用基板と遮光性膜との間に位相シフト層を成膜する。 - 特許庁

In a method of forming a pattern, multiple exposures are effected, using a Levenson phase shift mask 10 and a half-tone phase shift mask 20, respectively.例文帳に追加

パターン形成方法において、レベンソン位相シフトマスク１０、ハーフトーン位相シフトマスク２０のそれぞれで多重露光を行う。 - 特許庁

To obtain a correction method for the characteristics of a halftone phase shift mask which is capable of correcting the transmittance and phase difference characteristic of the halftone phase shift mask to the desired transmittance and phase difference.例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスクの透過率及び位相差特性を、所望の透過率及び位相差に補正することができるハーフトーン位相シフトマスクの特性の補正方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR ENHANCING POSITIVE (CLEAR FIELD) PHASE SHIFT MASK (TRANSPARENT PHASE SHIFT MASK WITH OPAQUE APERTURE) WITH BORDER REGIONS AROUND PHASE 0 REGION AND PHASE 180 REGIONS例文帳に追加

位相０領域及び位相１８０領域の周辺の境界領域を用いてポジ型（ＣＦ：ｃｌｅａｒｆｉｅｌｄ）位相シフトマスク（不透明な開口を有する透明な位相シフトマスク）の向上を図る方法 - 特許庁

The phase correction device executes phase correction by combining a phase shifter 14 capable of executing phase shift of a fine amount but of which the shiftable phase amount is small and a π/2 phase shifter 18 capable of executing phase shift of a rough amount (e.g. a π/2 unit) but of which the shiftable phase amount is large.例文帳に追加

微細な量の位相シフトが可能であるがシフト可能な位相量が小さい位相シフタ１４と、粗い量（例えばπ／２単位）の位相シフトのみが可能であるがシフト可能な位相量が大きいπ／２位相シフタ１８とを組み合わせて位相補正を行う。 - 特許庁

To reconstruct the prototype using linear phase shift values, the speech coder produces phase parameters of the reference prototype, generates a set of linear phase shift values associated with the prototype, and composes a phase vector from the phase parameters and the linear phase shift values across multiple frequency bands.例文帳に追加

線形位相シフト値を使用してプロトタイプを再構成するために、スピーチコーダは基準プロトタイプの位相パラメータを生成し、そのプロトタイプに関連した１組の線形位相シフト値を発生させ、位相ベクトルを位相パラメータおよび線形位相シフト値から複数の周波数帯域にわたって構成する。 - 特許庁

To provide a method for determining process alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask to be used for the manufacture of a semiconductor device, and to provide a method for determining photoresist pattern alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask.例文帳に追加

半導体装置の製造で用いられる位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時の処理アライメントの決定方法、位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時のフォトレジストパターンアライメントの決定方法を提供する。 - 特許庁

The phase of the phase shift filter P coincides with the phase of G/(1+GH) within the range of ±90° within a limited band.例文帳に追加

位相シフトフィルタＰの位相は制限された帯域内でＧ／（１＋ＧＨ）の位相と±９０度の範囲内で一致する。 - 特許庁

A white defect in a halftone phase shift mask or a recessed phase defect in a Levenson type phase shift mask is corrected to match the phase by depositing an electron beam CVD film 6 having high transmittance and a high phase effect such as tetramethoxysilane or the like.例文帳に追加

透過率が高く位相効果のあるテトラメトキシシラン等の電子ビームCVD膜６でハーフトーン型位相シフトマスクの白欠陥やレベンソン型位相シフトマスクの凹型の位相欠陥を位相が合うように修正する。 - 特許庁

A current phase shift arithmetic unit 87 calculates the phase shift β of each phase current Iu, Iw based on the inductance mismatching of each phase on the basis of instantaneous current values Iu1, Iw1, Iu2 and Iw2 of each phase in rotational angles θ_1, θ_2.例文帳に追加

電流位相ずれ演算部８７は各相のインダクタンス不整合に基づく各相電流Ｉｕ，Ｉｗの位相ずれβを回転角度θ_１，θ_２での各相の瞬時電流値Ｉｕ１，Ｉｗ１，Ｉｕ２，Ｉｗ２に基づき算出する。 - 特許庁

The phase correction apparatus includes a weight factor estimate circuit for estimating a weight factor corresponding to the phase shift in the subcarriers, calculates the average of phase shifts by a value obtained by multiplying the weight factor by the phase shifts, and corrects the phase shift.例文帳に追加

サブキャリアの位相ずれに対応した重み係数を推定する重み係数推定回路を備え、位相ずれにその重み係数を乗積した値により位相ずれの平均値を算出し、位相補正する。 - 特許庁

The halftone phase shift mask blank 10B has a phase shift film 2, containing metal and silicon and having a phase shift function, a light-shielding film 3 and a resist film 4 formed, in this order on a transparent substrate 1.例文帳に追加

透明基板１上に、金属と珪素とを含み位相シフト機能を有する位相シフト膜２と、遮光膜３と、レジスト膜４とがこの順に形成されたハーフトーン型位相シフトマスクブランク１０Ｂである。 - 特許庁

The reflective photomask comprises: a phase shift part 9; a reflection part 11 located at the outside of the phase shift part 9; and a half absorption part 12 located between the phase shift part 9 and the reflection part 11.例文帳に追加

反射型フォトマスクは、位相シフト部９と、位相シフト部９の外側に位置する反射部１１と、位相シフト部９と反射部１１との間に位置する半吸光部１２とを備えている。 - 特許庁

In the distributed feedback semiconductor laser having a phase shift in a grating, a phase shift amount of the phase shift is set to (8/40)Λ to (9/40)Λ (Λ is twice as much as grating interval).例文帳に追加

回折格子に位相シフト部を備える分布帰還型半導体レーザにおいて、位相シフト部の位相シフト量を（８／４０）Λ〜（９／４０）Λ（Λは回折格子間隔の２倍）に設定する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask blank which has at least a phase shift film and a metal-containing film on a substrate and has an enhanced adhesive strength between the phase shift film and the metal-containing film.例文帳に追加

基板上に、少なくとも位相シフト膜とメタル含有膜を有する位相シフトマスクブランクであって、該位相シフト膜と該メタル含有膜の密着性を向上した位相シフトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

The phase shift mask blank has a phase shift film deposited on a substrate, the phase shift film containing metals and silicon and deposited by discharging both of a silicon target and a metal silicide target or the like at a time by sputtering.例文帳に追加

および、基板上に位相シフト膜が設けられ、位相シフト膜は金属及びシリコンを含み、スパッタ法でシリコンターゲットと、金属シリサイド等のターゲットを同時に放電させて成膜された位相シフトマスクブランク。 - 特許庁

Phase is detected from the carrier waves of a receiving signal by a phase detecting section 101, and phase in which a phase shift between detecting phase and natural phase transmitted by a polyphase phase modulation system is minimized is selected by a phase selecting section 102.例文帳に追加

位相検出部１０１で受信信号の搬送波から位相を検出し、位相選択部１０２で検出位相と多相位相変調方式で送信する固有の位相との位相ズレが最小の位相を選択する。 - 特許庁

To shift the phase of a PN code string of a long period by a compact and simple phase shifting device.例文帳に追加

周期の長いＰＮ符号列をコンパクトで簡単な位相シフト装置で位相シフトさせる。 - 特許庁

To improve the precision in measuring the phase difference of exposure light, in a phase-shift mask inspection method.例文帳に追加

位相シフトマスクの検査方法において露光光の位相差の計測精度を向上させること。 - 特許庁

The checkerboard array comprises alternating phase-shift regions R that have a relative phase difference of 180 degrees.例文帳に追加

このチェッカーボードアレイは、１８０度の位相差を有する交互位相シフト領域Ｒを有している。 - 特許庁

Then, a phase shift unit 260 shifts the phase according to the frequency of the input signal S5.例文帳に追加

２６０は移相ユニットであり、入力信号Ｓ５の周波数に応じて位相を変移する。 - 特許庁

To provide a phase difference electron microscope capable of alleviating the dimensional requirement of a phase shift element.例文帳に追加

位相シフト素子の寸法上の要件を軽減する位相差電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

LINE SWITCHING PHASE SHIFTER, MULTI-BIT PHASE SHIFT CIRCUIT INCLUDING IT AND PHASED ARRAY ANTENNA例文帳に追加

線路切換型移相器、それを含む多ビット移相回路およびそれを用いたフェーズドアレイアンテナ - 特許庁

A phase shift filter and the direct down conversion receiver which performs phase compensation are provided.例文帳に追加

本発明は、位相シフトフィルタおよび位相補償を行うダイレクトダウンコンバージョン受信機を提供する。 - 特許庁

The phase of the signal Vin generated from the oscillation circuit 15 is shifted by a phase-shift circuit 20.例文帳に追加

発振回路１５から出力された信号Ｖｉｎの位相を移相回路２０で可変する。 - 特許庁

A phase-shift mask has a checkerboard array and a sub-resolution assist phase pattern surrounding the checkerboard array.例文帳に追加

チェッカーボードアレイ及びこれを囲むサブレゾリューション・アシスト位相パターンを備える位相シフトマスクである。 - 特許庁

The phase shifter 50 performs phase shift of an input signal, on the basis of switching between LPF and HPF.例文帳に追加

移相器５０は、ＬＰＦとＨＰＦ間の切替に基づいて入力信号を移相する。 - 特許庁

A phase shifter 60 applies phase shift to the output signals of adders, and the output signals are added by an adder 70.例文帳に追加

移相器60は加算器の出力信号に位相シフトを施し、加算器70で加算する。 - 特許庁

PSK (Phase Shift Keying) shows good bit-error rate characteristics and makes multi-phase modulation available. 例文帳に追加

PSK（位相偏移キーイング）は良好なビット誤り率特性を示し、多位相変調を可能にする。 - コンピューター用語辞典

A frequency change detecting circuit 13 detects the shift of the frequency of a system power source, and controls the quantity of phase shift of the phase shifter, according to the quantity of this frequency shift.例文帳に追加

周波数変化検出回路１３は系統電源の周波数のずれを検出し、この周波数ずれ量に応じて移相器の移相量を制御する。 - 特許庁

POWER AMPLIFIER EMPLOYING THIN FILM FERROELECTRIC PHASE SHIFT ELEMENT例文帳に追加

薄膜強誘電性位相シフト素子を採用した電力増幅器 - 特許庁

METHOD FOR FABRICATING PHASE SHIFT MASK, PROXIMITY EFFECT CORRECTION DEVICE AND PROGRAM例文帳に追加

位相シフトマスクの製造方法、近接効果補正装置およびプログラム - 特許庁

To enhance the process margin of exposure using a phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクを用いた露光処理のプロセスマージンを向上させる。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクおよびその製造方法およびパターン転写方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF CONDENSING ELEMENT, CONDENSING ELEMENT AND PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

集光素子の製造方法、集光素子および位相シフトマスク - 特許庁

The phase shift of the first signal (RF) is executed in the mixer (1).例文帳に追加

該第１信号（ＲＦ）の移相は該ミキサー（１）で実行される。 - 特許庁

To provide a 2PSK(two phase shift keying) demodulator whose circuit configuration is simple.例文帳に追加

回路構成が簡単である２ＰＳＫの復調器を提供する。 - 特許庁

FORMING METHOD AND FORMING DEVICE OF IMAGE CONTRAST BY PHASE SHIFT例文帳に追加

位相シフトによる画像コントラストの形成方法および形成装置 - 特許庁

LEVENSON PHASE SHIFT MASK AND FINE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスク及びこれを用いた微細パターン形成方法 - 特許庁