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Si Tiの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 544件
Zr, Hf, (b) group includes V, Nb, Ta, and (c) group includes Si.例文帳に追加
a群:Ti、Zr、Hf、b群:V、Nb、Ta、c群:Si - 特許庁
The value of γp(%) satisfies 20 to 65%, which is calculated by formula (1): γp=420X[C]+470X[N]+23X[Ni]+12X[Cu]+7X[Mn]-11.5X([Cr]+[Si])-52X[Al]-49X[Ti]+189, wherein [ ] denotes mass%.例文帳に追加
γp =420X[C]+470X[N]+23X[Ni]+12X[Cu]+7X[Mn]-11.5X([Cr]+[Si])-52X[Al]-49X[Ti] +189 ……(1) 。 - 特許庁
The metal atom(s) is desirable to be one or more kinds among Si, Ti, Cr, Fe and Ni.例文帳に追加
金属原子は好ましくはSi、Ti、Cr、Fe、Niの1種以上である。 - 特許庁
Further, in the composition of the steel sheet, the content of Si is controlled to ≤0.3%, P to ≤0.02%, Ti to 0.01 to 0.5%, and Nb to 0.01 to 0.5%.例文帳に追加
さらに鋼板組成をSi:0.3%以下、P:0.02%以下、Ti:0.01〜0.5%、Nb:0.01〜0.5%とする。 - 特許庁
This Ti alloy for the human body has a composition containing, by weight, 0.2 to 2.3% Si and 0.002 to 0.3% Ca, and the balance Ti with inevitable impurities.例文帳に追加
生体用Ti合金を、重量基準でSi:0.2〜2.3%,Ca:0.002〜0.3%,残部Ti及び不可避不純物から成る組成とする。 - 特許庁
This method of forming metal wiring contains a step of cleaning the surface of a silicon substrate 10 that is exposed by a contact hole 12h, a step of forming a Ti-Si film on the structure obtained in the preceding step, and a step of forming a Ti-Si-N film 16 on the Ti-Si film 14.例文帳に追加
本発明は、コンタクトホール12hにより露出されたシリコン基板10の表面を洗浄する段階と、前段階で得られた構造物上にTi-Si膜を形成する段階と、前記Ti-Si膜14上にTi-Si-N膜16を形成する段階とを含んでなる金属配線形成方法である。 - 特許庁
METHOD FOR COATING Al-Si ALLOY ON SUBSTRATE OF Ti OR Ti ALLOY例文帳に追加
TiまたはTi合金基体に対するAl−Si合金の被覆法 - 特許庁
The common key generation unit 5 generates the common key from CHi, Ti and Si and stores it in a common key storage unit 6.例文帳に追加
共通鍵生成部5は、CHi、Ti及びSiから共通鍵を生成し、共通鍵記憶部6に蓄積する。 - 特許庁
At least one king of metal selected from the group consisting of Zn, Al, Si, Mg and Ti is made to be contained in the Sn plating layer in an amount of 1 mass% or less.例文帳に追加
前記SnめっきにZn, Al, Si, Mg, Tiのうちの1種以上の金属を1mass%以下含有させる。 - 特許庁
The Ti-containing oxide is exemplified by a double oxide of Ti and Si.例文帳に追加
Tiを含む酸化物は、例えばTiとSiとの複合酸化物である。 - 特許庁
The amounts of the inorganic fine particles externally added to the black toner and the color toner satisfy formulae (1) and (2), wherein Si(C), Ti(C), Si(Bk) and Ti(Bk) are explained in the specification.例文帳に追加
(式中、Si(C)、Ti(C)、Si(Bk)およびTi(Bk)は、明細書に記載の通りである。) - 特許庁
This cold rolled steel sheet excellent in composite formability has a composition containing, by weight, ≤0.0020% C, ≤0.05% Si, 0.05 to 0.35% Mn, ≤0.025% P, ≤0.01%例文帳に追加
重量%で、C:0.0020%以下、Si:0.05%以下、Mn:0.05〜0.35%、P:0.025%以下、S:0.01%以下、sol.Al:0.01〜0.06%、N:0.0020%以下、Ti:0.025〜0.045%を含有し、かつ、Ti^*/4C:1.4〜9.2(ただし、Ti^*=Ti-(48/14)N-(48/32)Sであり、Ti^*、Ti、C、N、Sは重量%)であり、さらに、下記(1)式、(2)式を満足することを特徴とする複合成形性に優れた冷延鋼板。 - 特許庁
In the expressions, C, N, Ni, Cu, Mn, Cr, Si, Al, Mo, and Ti each denote the content (mass%) of each element.例文帳に追加
γmax=420C+470N+23Ni+9Cu+7Mn-11.5Cr-11.5Si-52Al+189…式1γpot =700C+800N+10(Mn+Cu)+20Ni-9.3Si-6.2Cr-9.3Mo-74.4Ti-37.2Al+63.2…式2ここで、C、N、Ni、Cu、Mn、Cr、Si、Al、Mo、Tiは、それぞれの元素の含有量(質量%)を示す。 - 特許庁
The intermediate layer 14 is constituted of a non-magnetic alloy consisting essentially of Co and Cr and oxides of Al, Cr, Hf, Mg, Nb, Si, Ta, Ti, Zn and the like.例文帳に追加
中間層14はCoおよびCrを主原料とする非磁性合金と、Al, Cr, Hf, Mg, Nb, Si, Ta, Ti, Zr等の酸化物で構成される。 - 特許庁
Secret information sets S, T are dispersed by a threshold value dispersion method to obtain Si, Ti and the Si and a Ui (=g exponential (Ti/Si mod q)mod p) are delivered to terminal (i) (=1-5).例文帳に追加
秘密情報S,Tを閾値分散法により分散して、S_iとT_iを求め、S_iとu_i(=g^(T_i/S_i mod q)mod p)を端末i(=1〜5)に配送しておく。 - 特許庁
PRODUCTION OF SINGLE CRYSTAL Ti-Al-Si ALLOY例文帳に追加
単結晶状Ti−Al−Si系合金の製造方法 - 特許庁
The battery part is formed out of an aluminum material containing Fe of 0.50 mass% or less, Si of 0.50 mass% or less, Ti and B of 0.01 mass% or more and 0.10 mass% or less respectively, and also Ti and B of 0.15 mass% or less in total.例文帳に追加
Feを0.50質量%以下、Siを0.50質量%以下、TiとBをそれぞれ0.01質量%以上0.10質量%以下、かつTiとBを合計で0.15質量%以下含有するアルミニウム材で構成されることを特徴とする電池部品。 - 特許庁
High purity titanium is produced by using Ti in place of Si.例文帳に追加
SiをTiの置き換えれば、高純度チタンの製造法となる。 - 特許庁
The contact electrodes 16 contain Al atoms, Ti atoms, and Si atoms.例文帳に追加
コンタクト電極16はAl、TiおよびSi原子を含有する。 - 特許庁
An aluminum anodized coating is immersed into an aqueous solution containing the fluoro-complex salt of Zr, Si, Ti, Au, Ag, Co, Ni, Mo, Mn, Nb, Ta, W, Zn, Fe, Ir or Sc.例文帳に追加
アルミニウム陽極酸化皮膜を、Zr 、Si、Ti、Au、Ag、Co、Ni、Mo、Mn、Nb、Ta、W、Zn、Fe、Ir、又はScのフルオロ錯塩を含む水溶液に浸漬させることを特徴とする。 - 特許庁
When forming the films, the Ti film 7 reacts with the Al-Si alloy film 8 to form an Al-Ti-Si alloy film 11 on the interface thereof, and the Ti film 9 reacts with the Al-Si alloy film 8 to form an Al-Ti-Si alloy film 12 on the interface thereof.例文帳に追加
成膜時にTi膜7とAl−Si合金膜8との反応によりそれらの界面にAl−Ti−Si合金膜11が、Ti膜9とAl−Si合金膜8との反応によりそれらの界面にAl−Ti−Si合金膜12が形成される。 - 特許庁
Wherein, [Ti], [Si] and [C] respectively represent contents (mass%) of Ti, Si and C.例文帳に追加
[Ti]×16[Si]×(12−40[C])<0.38(%)…(1) 但し、[Ti],[Si]および[C]は、夫々Ti,SiおよびCの含有量(質量%)を示す。 - 特許庁
The steel bar moreover contains 0.10 to 2.5% Si and 0.25 to 2.0% Mn and suitably contains one or more kinds of Al, Ti, Ca, rare earth metals, V and Nb and/or one or more kinds of B, Cr, Cu, Ni and Mo.例文帳に追加
該鋼棒は、更にSi:0.10 〜2.5%とMn:0.25 〜2.0%を含み、適宜、Al、Ti、Ca、REM 、V 及びNb1種以上、及び/または、B 、Cr、Cu、Ni及びMoの1種以上を含有する。 - 特許庁
The steel bar further contains 0.10 to 2.5% Si and 0.25 to 2.0% Mn and suitably contains one or more kinds of Al, Ti, Ca, rare earth metals, V and Nb and/or one or more kinds of B, Cr, Cu, Ni and Mo.例文帳に追加
該鋼棒は、更にSi:0.10 〜2.5%、Mn:0.25 〜2.0%を含み、適宜、Al、Ti、Ca、REM 、V 及びNbの1種以上、及び/または、B 、Cr、Cu、Ni及びMoの1種以上を含有する。 - 特許庁
The steel bar further contains 0.10 to 2.5% Si and 0.25 to 2.0% Mn and suitably contains one or more kinds of Al, Ti, Ca, rare earth metals, V and Nb and/or one or more kinds of B, Cu, Ni and Mo.例文帳に追加
該鋼棒は、更に、Si:0.10 〜2.5%とMn:0.25 〜2.0%を含み、適宜、Al、Ti、Ca、REM 、V 及びNbの1種以上、及び/または、B 、Cu、Ni及びMoの1種以上を含有する。 - 特許庁
The above steel sheet contains suitable amounts of C, N, Ti, Nb, Mo, Cu, Ni, B, Mg, Si, Mn and S.例文帳に追加
以上の鋼板が、C,N,Ti,Nb,Mo,Cu,Ni,B,Mg,Si,Mn,Sの好適量を含有する。 - 特許庁
And it does not include an intermetallic compound formed from a plurality of elements selected from boride, nitride, and boride nitride of Al, Si, Co, and Ni, Ti, Al, Co, and Ni.例文帳に追加
そして、Al、Si、Co、Niの硼化物、窒化物、硼窒化物およびTi、Al、Co、Niから選ばれた複数の元素で形成された金属間化合物を含まない。 - 特許庁
C, Si, Mn, S, P, Al, Nb, Ti, N and B are incorporated into a steel, and the relation among Ti, Nb or B, C and N are set in a prescribed range.例文帳に追加
C,Si,Mn,S,P,Al,Nb,Ti,N,Bを含有し、Ti,NbまたはBと、C,Nとの関係を所定の範囲に設定する。 - 特許庁
The grains, constituting the inorganic compound film 2 consist of Co3O4 (spinel type) with solid solution of Si and Ti, and the intergranular phase consists of an amorphous oxide consisting of Co, Si, Ti and O.例文帳に追加
無機化合物膜2を構成する粒子はSi,Tiを固溶したCo_3O_4(スピネル型)であり、粒界相はCo,Si,Ti,Oからなる非晶質酸化物である。 - 特許庁
And it does not include an intermetallic compound formed from at least two elements selected from boride, nitride, and boride nitride of Al, Si, Co, and Ni, Ti, Co, and Ni.例文帳に追加
そして、Al、Si、Co、Niの硼化物、窒化物、硼窒化物およびTi、Co、Niから選ばれた少なくとも2種の元素で形成された金属間化合物を含まない - 特許庁
The quantity of hydrogen to be produced is increased when using particularly Ti, Si, Al, Ti-Nb, Ti-Fe, TiSi_2, Raney iron, ArSi_2, a Devard's alloy or the like as the mechanocatalyst.例文帳に追加
メカノ触媒2として、特にTi,Si,Al,Ti−Nb,Ti−Fe,TiSi_2 ,ラネー鉄,ZrSi_2 ,デバルタ合金などを用いると、水素の発生量が大きい。 - 特許庁
TIC BASE TI-SI-C-BASED COMPOSITE CERAMIC AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
TiC基Ti−Si−C系複合セラミックス及びその製造方法 - 特許庁
Ca, and the balance Fe with inevitable impurities, and at least satisfies inequality; Cr+3(Mo+Cu)≥20, inequality; Cr+3(Si+Mn+Al-Ti)≥20 and inequality; 0.037{(C+N)/(V+Ti+0.5Nb+0.5Zr)}+0.001≤0.01.例文帳に追加
(1)式;Cr+3(Mo+Cu)≧20、(2)式;Cr+3(Si+Mn+Al−Ti)≧20、(5)式;0.037{(C+N)/(V+Ti+0.5Nb+0.5Zr)}+0.001≦0.01 - 特許庁
The electric resistance welded tube for a machine structure has a chemical composition containing 0.30 to 0.50% C, ≤0.5% Si, 0.20 to 2.0% Mn, 0.005 to 0.05% sol.Al, and ≤0.005% N, and, if required, further containing Cr, B, and Ti.例文帳に追加
機械構造用電縫鋼管を、C:0.30〜0.50%,Si:0.5%以下,Mn:0.20〜 2.0%,sol.Al:0.005 〜0.05%,N:0.005%以下を含み、更に必要によりCr,B,Tiをも含有する化学組成に構成する。 - 特許庁
The contaminants contained in a Fischer-Tropsch product stream and comprising inorganic components such as Al, Co, Ti, Fe, Mo, Na, Zn, Si, and Sn, derived from a catalyst are removed through acidic aqueous stream.例文帳に追加
フィッシャー・トロプシュ生成物流に含まれる、触媒に起源するAl,Co,Ti,Fe,Mo,Na,Zn,Si,およびSnなど無機成分を含む汚染物を、酸性水溶により処理し汚染物を除去する。 - 特許庁
The magnetite particle comprises magnetite which contains Ti or Si, wherein Ti or Si exists inside the particle, Ti and Si do not substantially exist on the outermost surface of the particle and the elution quantity of each of Ti and Si in a pure water boiling test is ≤50 ppm to all particles.例文帳に追加
本発明のマグネタイト粒子は、Ti又はSiを含有し、これらが粒子の内部に存在しているとともに、粒子最表面にTi及びSiが実質的に存在していないマグネタイトからなり、純水煮沸試験によるTi及びSiの溶出量が、粒子全体に対してそれぞれ50ppm以下であることを特徴とする。 - 特許庁
Thus, a fourth metallic layer 22 made of Ti, Al, and Si is formed on the boundary of the Ti layer and the Al layer.例文帳に追加
これにより、Ti層とAl層との界面に、TiとAlとSiとからなる第4の金属層22が形成される。 - 特許庁
In the formula, A is Si, Ge, Ti, Zr, Al or Ga; and (x) is 1 to 6.例文帳に追加
式中、AはSi、Ge、Ti、Zr、AlまたはGaであり、xは1〜6である。 - 特許庁
Ti-Si ALLOY BASED TARGET MATERIAL, PRODUCTION METHOD THEREFOR AND FILM COATING METHOD例文帳に追加
Ti−Si合金系ターゲット材およびその製造方法ならびに皮膜コーティング方法 - 特許庁
The coating elements are one or more elements selected from Mg, Al, Co, K, Na, Ca, Si, Ti, Sn, V, Ge, Ga, B, As and Zr.例文帳に追加
コーティング元素は、Mg,Al,Co,K,Na,Ca,Si,Ti,Sn,V,Ge,Ga,B,As,Zrから選択される一つ以上の元素である。 - 特許庁
TIB2 BASE TI-SI-C-BASED COMPOSITE CERAMIC AND METHOD OF MANUFACTURING SINTERED COMPACT THEREOF例文帳に追加
TiB2基Ti−Si−C系複合セラミックス及びその焼結体製造方法 - 特許庁
The inorganic oxide is preferably an oxide of one element selected from Si, Ti, W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb and Mn or oxides of a combination of two or more elements.例文帳に追加
ここで、無機酸化物は、Si,Ti,W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb, Mnから選ばれるいずれか1種の酸化物、またはいずれか2種以上の組み合わせの酸化物であることが好ましい。 - 特許庁
The composition thereof comprises, by mass, 0.08 to 0.20% C, 0.2 to 1.0% Si, 0.5 to 2.5% Mn, ≤0.04% P, ≤0.005% S, ≤0.05% Al, 0.07 to 0.20% Ti and 0.20 to 0.80% V, and the balance Fe with inevitable impurities.例文帳に追加
成分組成は、mass%で、C:0.08%以上0.20%以下、Si:0.2%以上1.0%以下、Mn:0.5%以上2.5%以下、P:0.04%以下、S:0.005%以下、Al:0.05%以下、Ti:0.07%以上0.20%以下、V:0.20%以上0.80%以下を含有し、残部がFeおよび不可避的不純物からなる。 - 特許庁
The cold-rolled steel sheet has Fe oxide controlled to 10 mg/m^2 or less and Mn oxide in an amount of 1.0 or more by a mass ratio to the total oxides amount of Al, Ti and Si, on the surface of the steel sheet.例文帳に追加
鋼板表面におけるFe酸化物量が10mg/m^2以下で、かつ、Mn酸化物量の、Al、Ti、Siの各酸化物量の和に対する比が、質量比で1.0以上である冷延鋼板である。 - 特許庁
A command interpretation unit 3 specifies a channel name CHi, time Ti and private key Si under participation in a predetermined timing, notifies a common key generation unit 5 of them and instructs the generation of a common key CSi.例文帳に追加
コマンド解釈部3は、所定のタイミングで参加中のチャネル名CHi、時刻Ti及び秘密鍵Siを特定し、共通鍵生成部5に通知して共通鍵CSiの生成を指示する。 - 特許庁
The Mg-based ferrite material includes Li, Na, K, Pb, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al, Ga, Si, Ge, P, Sb, Bi, or their combinations, wherein the saturation magnetization is 30 to 80 emu/g and the dielectric breakdown voltage is 1.5 to 5.0 kV.例文帳に追加
本発明のMg系フェライト材料は、Li, Na, K, Rb, Cs, Ca, Sr, Ba, Y, La, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Al, Ga, Si, Ge, P, Sb, Bi, またはそれらの組み合わせを含み、飽和磁化が30〜80emu/gであり、絶縁破壊電圧が1.5〜5.0 kVである。 - 特許庁
The Al-Si alloy material comprises 5.5-8.0 wt.% Si, less than 0.1 wt.% Fe, 0.4-0.5 wt.% Mg, less than 0.2 wt.% Ti and the balance Al (with unavoidable impurities).例文帳に追加
Al−Si系合金材料は,5.5wt%≦Si≦8.0wt%,Fe<0.1wt%,0.4wt%≦Mg≦0.5wt%,Ti<0.2wt%および残部Al(不可避不純物を含む)よりなる。 - 特許庁
Simultaneously, the Ti layer is made into silicide by the diffusion of Si from the semiconductor substrate 12.例文帳に追加
このとき同時に、半導体基板12からのSiの拡散により、Ti層はシリサイド化される。 - 特許庁
The hard carbon film or the diamond-like carbon film may contain Si, Ti, Cr, and W.例文帳に追加
硬質炭素膜又はダイヤモンド様炭素膜は、Si、Ti、Cr、Wを含むことができる。 - 特許庁
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