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beam patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2381件
In an electron beam lithographic device, the primary pattern is drawn on beam conditions under which a normal pattern is formed, and the secondary pattern is drawn by defocusing the beam to a prescribed amount.例文帳に追加
電子線描画装置では、一次パターンを通常のパターン形成時のビーム条件で描画し、二次パターンを所定量デフォーカスさせて描画する。 - 特許庁
PATTERN DEFINITION DEVICE FOR MASKLESS PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
マスクレス粒子ビーム露光装置用パターン規定デバイス - 特許庁
The beam-setting pattern is composed of one basic pattern and a plurality of deformed patterns that uses the beam-control data of the basic pattern.例文帳に追加
このビームセッティングパターンは、1つの基本パターンと、この基本パターンのビーム制御データを用いた複数の変形パターンからなる。 - 特許庁
PATTERN WIDTH MEASURING DEVICE, PATTERN WIDTH MEASURING METHOD, AND ELECTRON BEAM EXPOSING DEVICE例文帳に追加
パターン幅測長装置、パターン幅測長方法、及び電子ビーム露光装置 - 特許庁
ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, MICRO-PATTERN DRAWING SYSTEM AND IRREGULAR PATTERN CARRIER例文帳に追加
電子ビーム描画方法、微細パターン描画システムおよび凹凸パターン担持体 - 特許庁
NEW-TYPE PATTERN LITHOGRAPHY METHOD FOR PARTICLE BEAM PROCESSING例文帳に追加
粒子ビーム処理のための新型のパターン画定法 - 特許庁
PATTERN FORMATION AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
パターン形成方法及び荷電粒子ビーム露光装置 - 特許庁
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, BEAM PATTERN LIMITING APERTURE, AND DESIGN METHOD THEREOF例文帳に追加
電子ビーム描画装置並びにビームパターン限定アパーチャ及びその設計方法 - 特許庁
A picture pattern is drawn on a base plate of stainless steel, and the picture pattern is cut off by a laser beam.例文帳に追加
ステンレスの基板に絵柄を描き、レーザー光線で絵柄を分断する。 - 特許庁
The pattern forming device functions to pattern a sectional face of the radiation beam.例文帳に追加
パターン形成デバイスは、放射ビームの断面にパターンを付与するべく機能する。 - 特許庁
The control unit switches between the light distribution pattern for the right side high beam and the light distribution pattern for the left side high beam via a formation state of a light distribution pattern for a low beam.例文帳に追加
制御部は、右片ハイ用配光パターンおよび左片ハイ用配光パターン間で切り替えを実行する際、ロービーム用配光パターンの形成状態を経由させる。 - 特許庁
PATTERN DIMENSION MEASURING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE例文帳に追加
パターン寸法測定方法、及び荷電粒子線装置 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
荷電粒子線描画装置及びパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN GENERATION METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM-DRAWING APPARATUS例文帳に追加
パタン作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁
GENERATING METHOD OF EXPOSURE PATTERN DATA AND CHARGED-BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加
露光パターンデータの生成方法と荷電ビーム露光装置 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING APPARATUS例文帳に追加
パターン形成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁
MASKLESS PARTICLE BEAM DEVICE FOR EXPOSING PATTERN ON SUBSTRATE例文帳に追加
パターンを基板上に露光するマスクレス粒子ビーム装置 - 特許庁
ELECTRON BEAM DEVICE AND PATTERN EVALUATION METHOD USING THIS例文帳に追加
電子線装置及びこれを用いたパターン評価方法 - 特許庁
FRAMEWORK AND SAWING PATTERN SYSTEM FOR POST AND BEAM CONSTRUCTION METHOD例文帳に追加
軸組及びポスト・アンド・ビーム工法における木取りシステム - 特許庁
MASK FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE AND METHOD OF DESIGNING PATTERN THEREOF例文帳に追加
電子線露光用マスク及びそのパターン設計方法 - 特許庁
(3) The outline pattern is cured by an ultraviolet beam at the step S4.例文帳に追加
(3)その輪郭パターンを紫外線で硬化する(S4)。 - 特許庁
METHOD FOR INSPECTING PATTERN SHAPE OF TRANSFER MASK FOR ELECTRON BEAM例文帳に追加
電子線用転写マスクのパターン形状の検査方法 - 特許庁
The antenna system includes a coverage antenna 2 with a coverage beam pattern; and an auxiliary antenna 3 with an auxiliary beam pattern.例文帳に追加
アンテナシステムは、カバレッジビームパターンを備えたカバレッジアンテナ2と、補助ビームパターンを備えた補助アンテナ3とを含む。 - 特許庁
A beam of radiation is supplied by the lighting system, and the beam is processed in pattern forming by the pattern forming apparatus.例文帳に追加
照明システムによって放射のビームが供給され、パターン形成機器によってビームがパターン形成される。 - 特許庁
To provide a vehicular headlight switchable between a low beam light distribution pattern and a high beam light distribution pattern.例文帳に追加
ロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンとを切り替え可能な車両用前照灯を提供する。 - 特許庁
At this time, moire fringes are generated by the interference pattern by an incident light beam and the interference pattern by a diffracted light beam.例文帳に追加
このとき、入射光による干渉パターンと回折光による干渉パターンとによりモアレ縞が発生する。 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING DATA FOR PATTERN IN-BATCH CELL PROJECTION TO ELECTRON BEAM AND METHOD FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE例文帳に追加
図形一括電子線露光用データ処理方法及び電子線露光方法 - 特許庁
To provide a vehicular headlight capable of improving light-distribution accuracy of a high beam light-distribution pattern and a low beam light-distribution pattern (a light-distribution pattern for a daytime running light).例文帳に追加
ロービーム用配光パターンおよびハイビーム用配光パターン(デイタイムランニングライト用配光パターン)の配光精度を向上させること。 - 特許庁
However, a laser beam generated from the laser beam source is a coherent light beam and, therefore, a spectral pattern is formed.例文帳に追加
しかし、レーザ光源から発生するレーザビームはコヒーレントな光ビームであるため、スペクトルパターンが発生してしまう。 - 特許庁
To provide an antenna device for forming the second beam pattern of a different frequency, beam shape or beam-scanning angle in a short time, after forming a first beam pattern in the antenna device, using digital beam forming.例文帳に追加
ディジタルビームフォーミングを用いたアンテナ装置において第1のビームパターンを形成後、周波数やビーム形状、ビーム走査角度等が異なる第2のビームパターンを短時間で形成するアンテナ装置を得る。 - 特許庁
METHOD FOR DIVIDING PATTERN FOR EXPOSING ELECTRON BEAM, COMPLEMENTARY DIVISION MASK AND METHOD FOR EXPOSING ELECTRON BEAM例文帳に追加
電子線露光用のパターン分割方法、相補分割マスクおよび電子線露光方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, UNEVEN PATTERN CARRIER, AND MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加
電子ビーム描画方法、電子ビーム描画装置、凹凸パターン担持体および磁気ディスク媒体 - 特許庁
An electron beam is then irradiated and the pattern 18 is inspected.例文帳に追加
次に、電子ビームを照射してパターン18を検査する。 - 特許庁
CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, RESIZING DEVICE FOR PATTERN DIMENSIONS, CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD AND RESIZING METHOD OF THE PATTERN DIMENSIONS例文帳に追加
荷電粒子ビーム描画装置、パターン寸法のリサイズ装置、荷電粒子ビーム描画方法及びパターン寸法のリサイズ方法 - 特許庁
FORMING METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING PARTIAL-BATCH PATTERN例文帳に追加
荷電粒子線描画用部分一括パターンの作成方法 - 特許庁
PATTERN DRAWING DEVICE GENERATING CONTROL SIGNAL FOR BEAM SCANNING例文帳に追加
ビーム走査の制御信号を生成するパターン描画装置 - 特許庁
VERIFICATION METHOD OF IMAGE DRAWING PATTERN AND ELECTRON-BEAM WRITING APPARATUS例文帳に追加
描画パターンの検証方法および電子線描画装置 - 特許庁
A high/low switching type lighting fixture 20 is capable of applying the light by switching the high beam distribution pattern and the low beam distribution pattern.例文帳に追加
ハイ/ロー切替式灯具20は、ハイビーム配光パターンとロービーム配光パターンとを切り替えて照射可能である。 - 特許庁
An image forming part uses the beam to form the security pattern.例文帳に追加
画像形成部は、ビームを用いてセキュリティパターンを形成する。 - 特許庁
POLARIZATION BEAM SPLITTER WITH HOLOGRAM PATTERN, AND OPTICAL PICKUP DEVICE例文帳に追加
ホログラムパターン付き偏光ビームスプリッタ及び光ピックアップ装置 - 特許庁
AUTOMATIC AIMING CHANGE SYSTEM OF HEADLIGHT IMPROVING BEAM PATTERN例文帳に追加
ビームパターンを改善するヘッドライトの自動照準変更システム - 特許庁
DEVICE AND METHOD TO REDUCE STRENGTH OF LASER BEAM INTERFERENCE PATTERN例文帳に追加
レーザビームの干渉パターン強度低減装置及び方法 - 特許庁
CHARGE BEAM DEVICE AND METHOD OF MEASURING INCLINATION ANGLE OF PATTERN例文帳に追加
荷電ビーム装置及びパターンの傾斜角度測定方法 - 特許庁
CHARACTER PATTERN EXTRACTING METHOD, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD, AND CHARACTER PATTERN EXTRACTING PROGRAM例文帳に追加
キャラクタパターン抽出方法、荷電粒子ビーム描画方法、及びキャラクタパターン抽出プログラム - 特許庁
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