「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

In a projector 10, a light source 30 generating a projection light for projecting a striped pattern to the object is provided and a light beam deflection part 4, splitting the light from the light source 30 into a plurality of slit-shape light beams L1 to L4 by deflecting the light direction from the light source 30 corresponding to the radiation angle from the light source 30, is provided.例文帳に追加

投影装置１０には、対象物に縞状パターンを投影するための投影光を発生させる光源３０が設けられるとともに、その光源３０からの放射角度に対応して光源３０からの光の進行方向を偏向することにより、光源３０からの光を複数のスリット状の光束Ｌ１〜Ｌ４に分割する光線偏向部４が設けられる。 - 特許庁

In the transfer step, ferroelectric films 24b respectively formed by parts of the ferroelectric layer 124c are transferred by irradiating the second substrate 40 with the laser beam LB of a light intensity distribution PI which is set to transfer only a part corresponding to a predetermined pattern of the ferroelectric films 24b in the ferroelectric layer 124c from the other surface side thereof.例文帳に追加

転写工程では、強誘電体層１２４ｃのうち強誘電体膜２４ｂの所定パターンに対応する部分のみを転写するように設定した光強度分布ＰＩのレーザ光ＬＢを第２の基板４０の上記他表面側から照射することにより、それぞれ強誘電体層１２４ｃの一部からなる強誘電体膜２４ｂを転写する。 - 特許庁

To realize a verification method of proximity effect correction in electron beam image drawing wherein verification by a real image drawing member is omitted and accurate verification can be performed, by fetching and verifying correction quantity of a proximity effect operating unit which is prepared for preventing proximity effect which exerts influence upon mutual patterns by pattern density at the time of real image drawing, in the course of real image drawing.例文帳に追加

実描画時のパターン密度により図形相互に影響を与える近接効果を防止するために準備される近接効果演算ユニットの補正量を実描画途中で取りだし、検証することにより、実描画材料による検証を省略して正確な検証を行うことができる電子ビーム描画における近接効果補正の検証方法を実現する。 - 特許庁

The pixel electrode 12 for reflection is formed steps of forming a stopper layer 15 consisting of a conductive material over a substrate 40 so as to cover a pixel electrode for transmission 10, forming a conductive reflecting film on the surface of the stopper layer 15 and removing selectively the pertinent conductive reflecting film and the pertinent stopper layer 15 while irradiating the conductive reflecting film with the laser beam having a prescribed pattern.例文帳に追加

透過用画素電極１０を被覆するよう基板４０上に導電性材料からなるストッパ層１５を成膜し、このストッパ層１５の表面に導電性反射膜を成膜し、この導電性反射膜に所定パターンのレーザ光を照射し、当該導電性反射膜およびストッパ層１５を選択的に除去し、反射用画素電極１２を形成する。 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction analyzing technique capable of simply acquiring the X-ray diffraction pattern equipped with the local structural data of a sample having a non-uniform crystal structure in a laboratory or on the spot by reducing the damping of intensity in a light path until the X-ray beam emitted from an X-ray tube arrives at a sample to the utmost.例文帳に追加

Ｘ線管から出射されたＸ線ビームが試料に到達するまでの光路における強度の減衰を極力小さくすることにより、不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を備えるＸ線回折図形を、実験室や現場で短時間且つ簡単に取得することを可能とするＸ線回折分析技術を提供する。 - 特許庁

The shape of the electric field direction of the beam pattern of the primary radiator is made asymmetrical through interference between an electromagnetic wave emitted from the patch antenna 16 fed via the feeder 22 that is the slot line converted from the tip and an electromagnetic wave emitted from the feeder 22 leaked to the front side of the dielectric board 10 via the dielectric exposure 18.例文帳に追加

給電線路２２のスロット線路に変換された先端部２２ａを介して給電されるパッチアンテナ１６からの放射電磁波と、誘電体露出部１８を介して誘電体基板１０の表面側に漏れだす給電線路２２からの放射電磁波とが干渉することによって、一次放射器のビームパターンは、電界方向の形状が非対称なものとなる。 - 特許庁

The pattern formation method comprises the steps of: forming a resist film on a semiconductor substrate; forming the antistatic film on the resist film; exposing an electron beam to the resist film; peeling the antistatic film by using peeling liquid with a temperature of 30°C or more and 35°C or less; and performing a development to the resist film to form predetermined patterns.例文帳に追加

パターン形成方法が、レジスト膜を半導体基板上に形成する工程、前記レジスト膜上に帯電防止膜を形成する工程、前記レジスト膜に対して電子線を露光する工程、温度３０℃以上３５℃以下の剥離液を用いて前記帯電防止膜を剥離する工程、および前記レジスト膜に対して現像を行い所定のパターンを形成する工程とを含む。 - 特許庁

A pattern shape evaluation system detects secondary electrons generated from a sample by irradiating a converged electron beam and processes the detected signals in which the detected signal waveform is divided into a plurality of areas according to changes in the amount of the signals and the three-dimensional shape of the sample is evaluated quantitatively from the sizes of the divided areas.例文帳に追加

収束させた電子線の照射により試料から発生した二次電子を検出し、この検出した信号を演算処理するように構成したパターン形状評価システムにおいて、検出した信号波形を、信号量の変化量に基づいて複数の領域に分割し、分割された領域の大きさにより試料の立体形状を定量評価する。 - 特許庁

This positive type photosensitive composition containing a polymer compound having a structure expressed by a specific general formula at its terminal, a photoacid-forming agent for forming an acid by the irradiation of an active beam of light or a radiation, the polymer compound used for the positive type photosensitive composition, the method for producing the polymer composition and the method for forming the pattern by using the positive type photosensitive composition are provided.例文帳に追加

末端に特定の一般式で表される構造を有する高分子化合物及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に使用される高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びそのポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The electron beam aligner comprises means 11 for making a decision whether a positional shift is generated or not between a target pattern position and an actual writing position on a writing substrate 14 between start and end of multiplex writing, and means 12 for performing a corrective operation of the writing position during remaining multiplex writing such that the positional shift is cancelled.例文帳に追加

多重描画の開始から終了までの間に発生した描画基板１４上での実際の描画位置と目標パターン位置との位置ずれ量の有無を判定する位置ずれ量判定手段１１と、位置ずれ量を打ち消すように、多重描画に含まれる残りの多重描画の間に描画位置の補正操作を行う補正操作手段１２とを設けた。 - 特許庁

A metal dispersion liquid containing metal nano fine particles having about 0.5 nm to 200 nm particle size is applied onto the entire surface of a substrate and dried, locally irradiated with a laser beam emitting light at 300 nm to 550 nm wavelength to couple the metal fine particles to draw a wiring pattern, and cleaned to remove the metal dispersion liquid in an unnecessary part to form desired wiring on the substrate.例文帳に追加

粒径が０．５ｎｍ〜２００ｎｍ程度の金属ナノ微粒子を含む金属分散液を、基板全面に塗布乾燥し、３００ｎｍ〜５５０ｎｍの波長の光を発生するレーザビームを局所的にあて金属微粒子を結合させることによって配線パターンをえがき洗浄して不要部分の金属分散液を除去し所望の配線を基板上に形成する。 - 特許庁

A Cu electroless-plating layer 22 is formed by electroless plating on the surface of an ABS-resin molding 21, the Cu electroless-plating layer 22 is irradiated with a laser beam and worked into a specified pattern, and bright plating is applied on the remaining Cu electroless-plating layer with an Ni electroless-plating layer 23 and an Au electroless-plating layer 24 to form a printed part 25.例文帳に追加

所定形状のＡＢＳ樹脂成形体２１の表面に、無電解めっきにより無電解Ｃｕめっき層２２を形成し、該無電解Ｃｕめっき層２２にレーザ光を照射して所定パターンに加工した後、残った無電解Ｃｕめっき層の上に、無電解Ｎｉめっき層２３および無電解Ａｕめっき層２４による光沢めっき処理を施し、印字部２５を形成する。 - 特許庁

To provide an exposure device and an exposure method that can correct in a simple way and in a short period of time deformation of a drawing pattern of an object of drawing that may occur in a light beam system, or to provide a display panel board manufacturing apparatus or a display panel board manufacturing method that can achieve a high throughput by using the exposure device or the exposure method.例文帳に追加

本発明は、光ビーム方式において発生する被描画体の描画パターンの変形を簡単な方法で、短時間で補正できる露光装置及び露光方法を提供する、あるいは、本発明の露光装置または露光方法を用いることでスループットの高い表示用パネル基板製造装置または表示用パネル基板製造方法を提供することである。 - 特許庁

In the manufacturing method for an ink-jet head for forming an electrode in a desired pattern by forming an insulated part by a laser process in a metallic film formed on a substrate surface comprising a head chip, the laser process is executed with a condition that a laser beam is directed at least twice to the same portion of a part to be processed.例文帳に追加

ヘッドチップを構成する基板表面に形成された金属膜にレーザー加工によって絶縁部を形成することにより所望パターンの電極形成を行うインクジェットヘッドの製造方法において、前記レーザー加工は、被加工部の同一個所に対して２回以上レーザー光が照射される場所が存在する条件で行うことを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。 - 特許庁

A method of manufacturing the printed wiring board comprises processes of forming a conductor circuit by pattern electroplating, with a metal foil 8 on top of insulation resin as a power supply layer, the thickness of the metal foil being 2.0 μm or below; and forming a hole 10 for interlayer connection by first forming a mask hole on the top of the metal foil and then irradiating a laser beam thereon.例文帳に追加

絶縁樹脂上にある金属箔８を給電層としてパターン電気めっきにより導体回路を作製する工程を有するプリント配線板の製造方法において、金属箔の厚みが２．０μｍ以下であり、金属箔上にマスク穴を形成した後にレーザー照射をすることで層間接続用の穴１０を形成する工程を有するプリント配線板の製造方法である。 - 特許庁

At least a part of the implementation process comprises a step of determining a configuration of a plurality of individually controllable elements that would be necessary to create in a radiation beam a pattern which is sufficient to implement the desired shape or size of the constituent part of the device when creating the constituent part of the device.例文帳に追加

望ましい形状又はサイズは、デバイスの構成部分が作成される材料の層の測定された特性に関連し、実施工程の少なくとも一部は、デバイスの構成部分を作成する時にデバイスの構成部分の望ましい形状又はサイズを実施するのに十分なものであるパターンを放射ビーム内に形成するのに必要な複数の個別に制御可能な素子の構成を決定するステップを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of a printed wiring board includes a step S11 for forming an insulation resin layer containing inorganic filler at a content of 30 wt% or higher, a step S12 for forming a conductor on the insulation resin layer, and a step S14 for forming a conductor pattern on the insulation resin layer by irradiating the conductor with a laser beam thereby dividing the conductor or narrowing the width of the conductor.例文帳に追加

プリント配線板の製造方法が、３０ｗｔ％以上の含有率で無機フィラーを含む絶縁樹脂層を形成すること（ステップＳ１１）と、絶縁樹脂層上に導体を形成すること（ステップＳ１２）と、レーザ光を導体に照射することによって、導体を分断し又は導体の幅を細くすることで絶縁樹脂層上に導体パターンを形成すること（ステップＳ１４）と、を含む。 - 特許庁

A lithography device comprising a substrate table that holds a substrate, a projection system so configured as to project a radiation beam whose pattern is formed on the substrate, a liquid feed system so configured as to feed liquid into a space among the projection system, the substrate and the substrate table, and a ring so disposed as to cover a gap between the substrate and the substrate table and to come into contact with the substrate and the substrate table.例文帳に追加

基板を保持する基板テーブルと、基板上にパターン形成された放射ビームを投影するように構成された投影システムと、投影システムと基板と基板テーブルとの間の空間に液体を提供するように構成された液体供給システムと、基板と基板テーブルとの間のギャップを覆うように設けられ、基板および基板テーブルと接触するリングとを含むリソグラフィ装置。 - 特許庁

To provide a pattern arrangement method for stencil masks which previously executes the optimum arrangement circuit patterns from a design stage so as to allow the efficient selection of the circuit patterns arranged on the stencil masks used for direct electron beam drawing technique and draws the circuit patterns of high throughput on a wafer with the least possible correction and exchange of the stencil masks and a method for manufacturing semiconductor integrated circuits using the same.例文帳に追加

本発明は、電子ビーム直接描画技術に用いられるステンシルマスクに配置される回路パターンを効率的に選択できるように、あらかじめ設計段階から回路パターンの最適配置を行うとともに、ステンシルマスクの修正や交換がなるべく少なくスループットの高い回路パターンをウエハー上に描画するステンシルマスクのパターン配置方法およびそれを用いた半導体集積回路製造方法を得る。 - 特許庁

In detecting defects in a TFT array on a TFT substrate by applying a voltage to the TFT array and detecting secondary electrons obtained by irradiation with an electron beam, the voltage pattern of applying the voltage to the source and/or the gate of the TFT is set to such characteristics parameters as increase a leak current due to an internal leak in the TFT depending on the voltage level and/or the timing of application.例文帳に追加

ＴＦＴ基板のＴＦＴアレイに対して電圧を印加し、電子線照射により得られる二次電子を検出してＴＦＴアレイの欠陥を検出するＴＦＴアレイの欠陥検出において、ＴＦＴのソースおよび／又はゲートへの電圧を印加する電圧パターンにおいて、電圧値および／又は印加時期によってＴＦＴの内部リークによるリーク電流を増加させる特性パラメータに設定する。 - 特許庁

The electron beam aligner comprises an area density map creation means 3 that divides a fixed region irradiated with electron beams by a mesh, obtains the ratio of a pattern area to be applied to the divided region to the area of each divided region, and creates an area density map; and a proximity-effect correction means 2 for correcting the amount of exposure of electron beams, by referring to the area density map.例文帳に追加

電子ビーム露光装置は、電子ビームが照射される一定の領域をメッシュにより区分けし、各区分けされた領域の面積に対する該区分けされた領域に照射される予定のパターン面積の比率を求めて面積密度マップを作成する面積密度マップ作成手段３と、面積密度マップを参照して電子ビームの露光量を補正する近接効果補正手段２とを有する。 - 特許庁

This fine pattern forming device is provided with a discharging means 1 which discharges the liquid materials to the substrate 2, a varying means which relatively changes the positional relation between the discharging means 1 and the substrate 2, and a laser-condensing means 5 which condenses a laser beam 15 on flying liquid discharged from the discharging means or the neighborhood of the surface of the liquid materials applied to the substrate.例文帳に追加

微細パターンを形成する装置としては、液体材料を基板２に向けて吐出する吐出手段１と、吐出手段１と基板２との位置関係を相対的に変化させる可変手段とを備え、吐出手段から吐出した飛翔中の液体または基板に塗布された液体材料の表面近傍に対してレーザ光１５を集光させるレーザ集光手段５とを設けたものである。 - 特許庁

The method for recording essential information in an optical disk involves: heating recording layers 33a, 33b above the temperature of crystallization by radiating a beam according to a photoelectrically converted signal to the recording layers 33a, 33b; and slowly cooling the heated recording layers 33a, 33b to the temperature of crystallization or below to form a pattern of crystalline and amorphous marks.例文帳に追加

光ディスクの固有情報記録方法は、固有情報を記録するために、光電変換された信号によって光ディスクの記録膜３３ａ，３３ｂにビームを照射して、前記記録膜３３ａ，３３ｂを結晶化温度以上まで加熱し、前記加熱された記録膜３３ａ，３３ｂを結晶化温度以下に徐冷させ結晶質のマーク３０ａ，３０ｂを形成させ、結晶質及び非晶質のマークの配列パターンをなさしめる。 - 特許庁

To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a polymer useful as a resist material, or the like, especially the polymer as the resist material suitable for a fine processing using an ArF excimer laser or an electron beam, to provide a method for producing the same, to obtain a resist composition by using the same, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

レジスト材料等の構成成分樹脂として有用な有機溶剤への溶解性に優れた重合体、このような重合体の製造方法、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィー、中でも波長２５０ｎｍ以下の光、特にＡｒＦエキシマレーザー光、および電子線リソグラフィー等に対して高感度でドライエッチング耐性に優れる好適なレジスト組成物、ならびに、このレジスト組成物を用いた高精度で微細なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The device 1 for dividing trapezoid of a variable forming electron beam exposure system is provided with a discriminating means 11 which discriminates the presence of a pair of dividing lines which are faced to each other at an interval smaller than a prescribed size in a combination of dividing lines forming the optimum dividing pattern.例文帳に追加

可変成形型電子ビーム露光装置における台形分割装置１は、最適な分割パターンを形成する分割線の組合せにおいて、所定の大きさよりも小さい間隔で互いに対向するような分割線対が存在するか否かを判定する判定手段１１と、判定手段１１で分割線対が存在すると判定されたとき、分割線対に直交するストッパー線を新たに設定し、このストッパー線を用いて台形分割すべき図形を分割する第１の分割手段１２と、を備える。 - 特許庁