「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

This forming method of a chip breaker includes a process of forming a three-dimensional shaped chip breaker pattern 24 on the surface 26 of the hard sintered body made of diamond and/or cubic boron nitride by revolving and moving a beam spot P around an illumination axis at high speed, using a Femtosecond pulsed laser 30.例文帳に追加

本発明のチップブレーカの形成方法は、フェムト秒パルスレーザ３０を用いて、そのビームスポットＰをビームの照射軸周りに高速で公転させながら移動させることでダイヤモンド及び／又は立方晶窒化硼素からなる硬質焼結体表面２６に三次元形状のチップブレーカパターン２４を形成することを特徴とする。 - 特許庁

A transparent glass substrate 7 formed with a transparent conductive membrane is placed and set on a stage, and a laser beam is irradiated on the transparent conductive membrane formed on the transparent glass substrate 7 corresponding to an electrode pattern for one cell through a mask 5 with a hole formed having a part corresponding to a discharge gap 11 formed at a center.例文帳に追加

透明導電性膜が形成された透明ガラス基板７をステージ上に載置し、１セル分の電極パターンに対応し、放電ギャップ部１１に対応する部分が中央部に設けられた孔が形成されているマスク５を介して、透明ガラス基板７上に形成された透明導電性膜にレーザ光を照射する。 - 特許庁

To provide a proximity effect correction mask required for correcting proximity effect occurring on the periphery of an adjoining pattern drawn by using a partial collective exposure mask precisely by a partial collective exposure method, to provide a proximity effect correction method employing that mask, and to provide an electron beam exposure device performing proximity effect correction.例文帳に追加

部分一括露光用マスクを用いて描画した隣接するパターンの周辺部に生ずる近接効果を、部分一括露光法によって精度良く補正するために必要な近接効果補正用のマスク、そのマスクを用いた近接効果の補正方法及び近接効果の補正を行う電子ビーム露光装置を提供すること。 - 特許庁

A holding means holds a processed surface of a substrate downward, a film is formed by spraying a gas supplied from a gas supplying means through a gas introduction means on the laser irradiation point with radiating the laser beam on the processed surface downward from the substrate, and corrects the clear defect of the pattern film on the substrate.例文帳に追加

保持手段で基板の加工面を下向きに保持し、基板の下方から基板の加工面に対してレーザ光を照射するとともに、ガス供給手段から供給されるガスをガス導入手段を通じて基板のレーザ照射部に吹き付けて、基板上に膜を形成し、基板上のパターン膜の白欠陥を修正する。 - 特許庁

When the wireless communication route is established in between the transmission destination, the wireless device transmits data DATA to the transmission destination via the data channel different from the control channel by using a beam pattern, in which radio field intensity is maximum when receiving the communication permission CTS, and receives an acknowledgement ACK from the transmission destination.例文帳に追加

そして、無線装置は、送信先と無線通信経路が確立されると、通信許可ＣＴＳを受信したときの電波強度が最大であるビームパターンを用いて制御チャネルと異なるデータチャネルを介して送信先へデータＤＡＴＡを送信し、送信先から確認応答ＡＣＫを受信する。 - 特許庁

An electromagnetic wave shielding material manufacturing method comprises the first step of collecting a laser beam onto a conductive sheet constituted by forming a conductive layer comprising a conductive substance on a first base, removing the conductive layer, and forming a conductive pattern; and the second step of filling a portion between the conductive patterns with resin.例文帳に追加

第１の基材上に導電性物質を含んでなる導電性層を形成してなる導電性シートに、レーザを集光させて前記導電性層を除去し、導電性パターンを形成する第１の工程と、前記導電性パターン間に、樹脂を充填する第２の工程とを含む電磁波遮蔽材の製造方法。 - 特許庁

To provide a polymer which has excellent transparency, excellent dry etching resistance and excellent solubility in organic solvents, to provide a chemical amplification type resist composition suitable for far infrared light excimer laser lithography, electron beam lithography and the like, and to provide a method for forming a pattern with the chemical amplification type resist composition.例文帳に追加

優れた透明性と高いドライエッチング耐性とを有し、有機溶媒に対する溶解性にも優れた重合体、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィーや電子線リソグラフィー等に好適な化学増幅型レジスト組成物、および、この化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A photosensitive composition containing a compound for generating an acid by irradiation with a beam of active light or a radiation, a specific basic compound having a polar group, a specific basic compound having no polar groups, and a specific surfactant, and a pattern forming method using the same are provided.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、極性基を有する特定の塩基性化合物、極性基を有さない特定の塩基性化合物、及び、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The control circuit 8 adjusts and controls the level adjusting means 45 based on the operation result by the operation circuit 7, and therefore the receiving power level is corrected based on a beam pattern shape characteristic of the antenna 1, and the target reflected signal level can be captured in a dynamic range in a receiver and detected.例文帳に追加

制御回路８は、演算回路７による上記演算結果に基づき、レベル調整手段４５を調整制御するので、アンテナ１固有のビームパターン形状に基づき受信電力レベルが補正され、目標反射信号レベルを受信機におけるダイナミックレンジ内に捕らえて検出することができる。 - 特許庁

Thereby, the stamper for the optical disk is formed by forming at least the phase change layer consisting essentially of the sulfide or the oxide of the transition metal or the mixture thereof on a flat substrate and condensing and irradiating the laser beam on the phase change layer corresponding to a signal pattern of the optical disk.例文帳に追加

したがって、平坦な基板上に少なくとも遷移金属の硫化物又は酸化物、あるいはこれらの混合物を主成分とする相変化層を形成し、該相変化層に光ディスクの信号パターンに対応してレーザ光を集光照射することで、光ディスク用スタンパの作製が可能となる。 - 特許庁

In the respective pixels 10 of the spatial light modulator PPM, a movable mirror 11 which forms a projection beam modulator element and a mirror actuator 13 are fitted on one side of a substrate 16, and a pixel control circuit device 15 for setting the modulation element according to a desired pattern is fitted on the other side.例文帳に追加

この光空間変調器ＰＰＭの各画素１０は、投影ビーム変調素子を形成する可動ミラー１１およびミラーのアクチュエータ１３が基板１６の片側に取付けてあり、その反対側に変調素子を所望のパターンに従ってセットするための画素制御回路装置１５が取付けてある。 - 特許庁

By these respectively additional reflectors 20, when the mirror member 18 is at a second position (illustrated position), one part of light heading toward a reflecting face 16a of the reflector 16 from the light-emitting element 14 is shielded, and reflected forward toward an optical axis Ax side, and brightness increase of a hot zone of the light distribution pattern for the high beam is realized.例文帳に追加

そして、これら各付加リフレクタ２０により、ミラー部材１８が第２位置（図示の位置）にあるとき、発光素子１４からリフレクタ１６の反射面１６ａへ向かう光の一部を遮蔽して、これを前方へ向けて光軸Ａｘ寄りに反射させ、ハイビーム用配光パターンのホットゾーンの明るさ増大を図る。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a process to deposit a thin film 12 on the surface of a base material 11, a process to form an exposing position reference mark 21 having the particular shape on the thin film, a process to form a resist layer 13 on the thin film and exposing position reference mark and a process to execute pattern exposure of the resist layer using an electron beam drawing apparatus.例文帳に追加

基体11の表面に薄膜12を堆積する工程と、薄膜上に特定の形状を有する露光位置参照マーク21を形成する工程と、薄膜及び露光位置参照マーク上にレジスト層13を形成する工程と、レジスト層を電子ビーム描画装置を用いてパターン露光を行う工程とを有する。 - 特許庁

A plurality of domains having patterns similar in shapes (similar domains) are extracted from SEM images of low resolutions which are picked up while suppressing the irradiation energy of an electron beam, and an image of one pattern of a high resolution is formed from a plurality of image data on the domains by image restoration processing.例文帳に追加

電子線の照射エネルギーを抑えて撮像した低分解能なＳＥＭ画像から形状が類似するパターンを持つ領域（類似領域）を複数抽出し、複数の前記領域の画像データから画像復元処理により一枚の高分解能な前記パターンの画像を生成することを特徴とする。 - 特許庁

For the deviation amount from a prescribed reference position of the other land part 14 relative to the one land part 14 across the insulating substrate 12 such as a flexible substrate, position correction of moving the position of the other land part 14 in the direction of reducing the deviation amount is performed, and a circuit pattern is drawn by a laser beam.例文帳に追加

フレキシブル基板等の絶縁基板１２を挟んで、一方のランド部１４に対する他方のランド部１４の、所定の基準位置からのずれ量に対して、前記ずれ量を減少させる方向に、他方のランド部１４の位置を移動させる位置補正を行って、レーザ光による回路パターンの描画を行う。 - 特許庁

When a pattern arranged symmetric with respect to a rotating shaft on a sample is observed automatically or measured in accordance with procedures defined beforehand, a template image, an image at an observing point or a measurement point, or a view area which is to be a scanning area of a charged particle beam is made rotated by an angle which is automatically calculated from the coordinates on the sample.例文帳に追加

試料上に回転軸対称に配置されたパターンを、予め定めた手順に従って自動的に観察又は計測する際、テンプレート画像、観察点若しくは計測点の画像又は荷電粒子線の走査範囲である視野領域を、試料上の座標から算出した角度だけ自動的に回転させる。 - 特許庁

The device comprises a infrared lamp 41 which irradiates a substrate for treatment W with a light beam to heat the substrate W and a mask M placed between the infrared lamp 41 and the substrate W, made of copper which reflects wavelength of irradiated light with apertures Ma of prescribed pattern.例文帳に追加

処理基板Ｗに向けて照射光を照射することで処理基板Ｗを昇温させる赤外線ランプ４１と、赤外線ランプ４１と処理基板Ｗとの間に配置され、照射光の波長に対し反射する銅材で形成されるとともに所定のパターンで開口部Ｍａが形成されたマスクＭとを備えている。 - 特許庁

The light diffusing film made of polycarbonate resin has a thickness of 30 to 200 μm and an unevenness pattern on at least one of its surfaces, birefringence (absolute value of retardation) of ≤30 nm, total light beam transmissivity of ≥90%, and haze (cloudness degree) of ≥50%.例文帳に追加

ポリカーボネート樹脂より形成された厚さ３０〜２００μｍのフィルムであって、その少なくとも一面に凹凸形状の模様を有し、且つ複屈折（リターデーションの絶対値）が３０ｎｍ以下、全光線透過率が９０％以上およびヘーズ（曇り度）が５０％以上であるポリカーボネート樹脂製光拡散フィルム。 - 特許庁

To provide an illumination lamp for vehicle to form a variable light distribution pattern for high beam in which, when running on a flat straight road, the front visibility of its own driver is enhanced without giving glare to a preceding vehicle driver or the like, and in other running situations, it does not give botheration to the own driver.例文帳に追加

ハイビーム用の可変配光パターンを形成する車両用照明灯具において、平坦な直線路を走行する際には、前走車ドライバ等にグレアを与えてしまうことなく自車ドライバの前方視認性を高める一方、それ以外の走行状況下においては自車ドライバに煩わしさを与えてしまわないようにする。 - 特許庁

In this pattern defect inspection device, the quantity change in the ultraviolet laser beam is detected during inspection, to thereby determine the existence of an influence on the inspection, and service life prediction and abnormality of the light source are detected, and the inside of an optical system is cleaned, to thereby ensure prolongation of service life and long-term reliability of optical parts.例文帳に追加

検査中に紫外レーザ光の光量変動を検出して検査への影響の有無を判定し、かつ光源の寿命予測と異常を検知するとともに、光学系の内部を清浄化して光学部品の寿命延長と長期信頼性を確保するようにしたパターン欠陥検査装置である。 - 特許庁

The method of patterning the conductive polymer includes a step of forming a conductive polymer layer 220 on a substrate 210, a step of arranging a shadow mask 230 on the conductive polymer layer, and a step of irradiating the conductive polymer layer with the particle beam 240 charged with a charge through the shadow mask and forming an insulating layer and the pattern layer of the conductive polymer.例文帳に追加

基板210上に伝導性高分子層220を形成する工程と、伝導性高分子層上にシャドーマスク230を配列する工程と、シャドーマスクを通じて電荷を帯びた粒子ビーム240を伝導性高分子層に照射して、絶縁層及び伝導性高分子のパターン層を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition simultaneously satisfying sensibility, high resolution, a pattern profile, line edge roughness and dry etching resistance, particularly in lithography using an electron beam, an X-ray or EUV light as an exposure light source, as well as a resist film and a patterning method using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、高解像性、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A mask blank substrate has a conductive light-shielding body 12 that is opaque to exposure light for forming a pattern by a process including charge beam lithography, formed on one main surface of a substrate 11 transparent to exposure light, and the entire surface of the substrate 11 including four corners on the main surface is coated with a conductive material.例文帳に追加

露光光に対して透明な基板１１上の一主面に荷電ビームリソグラフィーを含むプロセスによりパターンを形成するための露光光に対して不透明な導電性の遮光体１２を形成したマスクブランクス基板であって、基板１１の一主面上の４隅を含む全面がく導電性材料で覆われている。 - 特許庁

Then, by combination of light from the low beam filament 18a which is reflected by each of a plurality of reflection elements 20c formed at the reflection face 20 of the reflector 20, two nearly spot-like distribution patterns PA, PB are formed at the mutually separated positions in right and left direction as the rainy weather running light distribution pattern PR.例文帳に追加

そして、リフレクタ２０の反射面２０ａに形成された複数の反射素子２０ｓの各々で反射したロービーム用フィラメント１８ａからの光の組合せにより、雨天走行時用配光パターンＰＲとして、左右方向に互いに離れた位置に２つの略スポット状の配光パターンＰＡ、ＰＢを形成する。 - 特許庁

Thereby, a low beam light distribution pattern P is formed such that a horizontal cutoff line CL1 on the oncoming lane side formed by reflected light from its own lane side reflective area 20aR is lowered relatively to a horizontal cutoff line CL2 on its own lane side formed by reflected light from an oncoming lane reflective area 20aL.例文帳に追加

これにより、対向車線反射領域２０ａＬからの反射光により形成される自車線側の水平カットオフラインＣＬ２に対して、自車線側反射領域２０ａＲからの反射光により形成される対向車線側の水平カットオフラインＣＬ１が段下がりとなったロービーム配光パターンＰを得る。 - 特許庁

In the reflecting surface 24a of a reflector 24, a part of a reflective region 24a1 contributing to formation of the opposing lane side horizontal cutoff line of a light distribution pattern for the low beam is formed as a reflecting surface 24e for condensation to reflect light from a light source 22a toward the vicinity of the rear side focus F of a projection lens 28.例文帳に追加

リフレクタ２４の反射面２４ａにおいて、ロービーム用配光パターンの対向車線側の水平カットオフラインの形成に寄与する反射領域２４ａ１の一部を、光源２２ａからの光を投影レンズ２８の後側焦点Ｆ近傍へ向けて反射させる集光用反射面２４ｅとして構成する。 - 特許庁

To restrain light distribution unevenness in case a low-beam light distribution pattern with a right-and-left unlevel cutoff lines are to be formed by a lamp tool unit of a projector type using a light-emitting diode as a light source.例文帳に追加

車両用前照灯の灯具ユニットとして、発光素子を光源とするプロジェクタ型の灯具ユニットを採用した場合において、その発光素子が、互いに車幅方向に隣接するようにして配置された複数の発光チップを有する構成となっている場合においても、配光ムラの発生を抑制する。 - 特許庁

The method for manufacturing has the part body forming process in which the molded articles are each irradiated with the laser beam to cut it into a required shape and to form a plurality of the part bodies, and the fitting and arranging process in which a plurality of the part bodies are each fitted and arranged so as to turn them into a specified pattern in a receiving tray.例文帳に追加

本発明の製造方法は、前記成型品それぞれに、レーザー光を照射して所望形状に切断し、複数の部分体を形成する部分体形成工程と、受皿内において、前記複数の部分体を所定の模様となるようにそれぞれ嵌合配置する嵌合配置工程とを有している。 - 特許庁

A body casing 4 is provided with a sample liquid circulation system 1 having a dispersion bath 11 connected to a flow cell 15 through a circulating passage 14 and a measuring system 2 for emitting laser beam to a sample liquid carried in the flow cell 15 to measure the particle size distribution of the sample on the basis of the diffracted light pattern at that time.例文帳に追加

分散バス１１とフローセル１５とを循環流路１４を介して接続した試料液循環系１と、フローセル１５内を流れる試料液に対してレーザ光を照射し、そのときの回折光パターンに基づいて試料の粒度分布を測定する測定系２とを本体筐体４に設ける。 - 特許庁

To provide a vehicle head lamp device with a lighting fixture unit whose light source is a discharge lamp, which can form a light distribution pattern for a low beam without hindrance utilizing instant lighting property of a semiconductor light emitting element, even in case that power control or the like is not employed for shortening a starting time of the discharge lamp after its starting.例文帳に追加

放電灯を光源とする灯具ユニットを備えた車両用前照灯装置において、放電灯の起動後に始動時間を短縮するための電力制御等を行わなくとも、半導体発光素子の瞬時点灯性を利用してロービーム用配光パターンの形成に支障を来たさないようにする。 - 特許庁

In measuring the film transmittance of a fine pattern and the like of a light-semitransmitting film formed on a transparent substrate, light of a measurement wavelength is converged on the light-semitransmitting film to be a measurement object so as to be the smallest diameter (beam waist) and transmitted, and the whole transmitted light is subsequently collected in an integrating sphere and is detected by a detector.例文帳に追加

透明基板上に形成された半透光膜の微細パターン等の膜透過率の測定において、測定対象物となる半透光膜に、測定波長の光が最も小さなスポット径（ビームウエスト）となるように集光させて透過させた後、その透過光を全て積分球に取り込んでディテクタで検出する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for forming spacers which is of high resolution and of high sensitivity even when radiation for exposure practically contains no beam with wavelength <350 nm, and which easily forms the spacers excellent in various performances such as a pattern shape, compression strength, rubbing resistance, and adhesion to a transparent substrate.例文帳に追加

３５０ｎｍ未満の波長を実質的に含まない放射線による露光でも、高解像度、高感度であり、かつパターン形状、圧縮強度、ラビング耐性、透明基板との密着性等の諸性能に優れたスペーサーを容易に形成することができるスペーサー用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Thermal distribution 11 corresponding to a desirable pattern is given to a raw material substrate 10, which is formed by adding a second material composed of a catalyst metal such as iron (Fe) in a first material formed of a semiconductor of silicon (Si) with radiation of the energy beam 12 using a diffraction grating 13 to melt a surface of the raw material substrate.例文帳に追加

シリコン（Ｓｉ）などの半導体からなる第１の物質中に、鉄（Ｆｅ）などの触媒金属からなる第２の物質が添加された素材基板１０に対して、回折格子１３を用いたエネルギービーム１２の照射により所望のパターンに応じた熱分布１１を与え、素材基板１０の表面を溶融させる。 - 特許庁

The coupling efficiency is determined by calculating the intensity of the laser beam emitted from the semiconductor device and an intensity passing through the light-receiving section coupled with the semiconductor laser device in a dot shape, respectively, by using an equipment such as a far field pattern measuring device or the like which can measure the characteristics of the semiconductor laser device with relatively ease.例文帳に追加

遠視野像測定装置などの比較的容易に半導体レーザ素子の特性が測定できる装置を用い、半導体レーザ素子から出されるレーザ光の光強度および、半導体レーザ素子と結合させる受光部における受光部を通過する光強度のそれぞれをドット状に算出し、結合効率を求める。 - 特許庁

The wireless base station equipment 3 employs SDMA (spatial division multiple access) method in which a plurality of antenna elements 11a, 11b, and 11c are used to form beam of the radiation pattern having different directivity for each user terminal, and the same channel is simultaneously assigned to a plurality of user terminals for communication.例文帳に追加

無線基地局装置３は、複数のアンテナ素子１１ａ，１１ｂ，１１ｃを用いてユーザ端末毎に指向性の異なる放射パターンのビームを形成し、複数のユーザ端末に対して同時に同じチャネルを割当てて通信を行う空間分割多重接続（ＳＤＭＡ：Spatial Division Multiple Access）方式の無線基地局装置である。 - 特許庁

In an embodiment, the method includes a step of acquiring information about the shift in the characteristics and a step of determining a desired change in phase to compensate at least partially for the shift in the characteristics to be applied to at least part of a radiation beam used to apply a pattern feature to a substrate.例文帳に追加

一実施形態では、この方法には、特性のずれに関連する情報を得る工程と、基板にパターンフィーチャを加えるために使用される放射ビームの少なくとも一部に加えられる、特性のずれを少なくとも部分的に補償することになる所望の位相変化を決定する工程が含まれている。 - 特許庁

The headlight system 20 has at least one first light source 32, at least one second light source 36, and a first lens system 48 with at least one lens operably related to at least one first light source 32 so as to prepare a spread (widening) section of the desired beam pattern.例文帳に追加

本発明のヘッドライトシステム（20）は、少なくとも１つの第１の光源（32）と、少なくとも１つの第２の光源（36）と、所望のビームパターンのスプレッド（広がり）部分を提供するよう少なくとも１つの第１の光源（32）と作動的に関連している少なくとも１つのレンズを備えた第１のレンズ系（48）とを有する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method of extracting the parameters of an exposure light intensity distribution function optimal for correcting exposure data on a proximity effect so as to form a pattern of high dimensional accuracy, in accordance with exposure data corrected on a proximity effect on the basis of an exposure light intensity distribution function.例文帳に追加

露光強度分布関数に基づいて近接効果補正処理を行った露光データに従って露光を行う荷電粒子ビーム露光方法に関し、露光データの近接効果補正処理に最適な露光強度分布関数のパラメタを抽出し、寸法精度の高いパターンを作成することができるようにする。 - 特許庁

Thus, diffraction light of the second laser beam from a hologram pattern 29 is entirely made incident on only an area in which a projecting adhesive at the projecting surface 32 does not exist to prevent degrading of the S/N ratio of a signal output from the optical monitor 26 to correctly detect the light quantity of the output of a second light source 22.例文帳に追加

こうして、ホログラムパターン２９からの第２レーザ光の回折光を、総て突出面３２のはみ出し接着剤が存在しない領域のみに入射させて、光モニタ２６から出力される信号のＳ/Ｎ比の低下を防止し、第２光源２２の出力光量を正確に検出する。 - 特許庁

When performing an angle measurement processing on an arrival signal by an interferometer system, the angle measurement processing device receives the arrival signal by a plurality of antenna elements for angle measurement in an antenna part, obtains the reception level received by one of the antenna elements and the reception level received in a sum pattern as a synthesized beam, and compares them.例文帳に追加

インターフェロメータ方式により到来する信号の測角処理を行う際に、到来する信号を空中線部内の測角用の複数のアンテナ素子で受信し、その中の１つのアンテナ素子で受信した受信レベルと、合成ビームとして和のパターンにより受信した受信レベルとを取得して、これらを比較する。 - 特許庁

To provide a beam splitter and an optical device applying it, capable of confirming the light-receiving surface of the reflected light side and setting the light-receiving surface at a desired position, even if a pattern where plural metal surfaces are arrayed is formed on the surface of a light-transmission substrate or the joined surface of prisms.例文帳に追加

光透過性基板の表面又はプリズムの接合面において、複数の金属面を配列したパターンを形成しても、この反射光側の受光面を確認することができ、受光面を所望の位置に設定することができるビームスプリッタとそれを応用した光学装置を提供すること。 - 特許庁

This method for checking the electronic image of the pattern of a mask 30 is provided to expose an electronic image by irradiating a sample 100 to check with an electron beam transmitted through the mask, and to detect the electronic image on the sample 100 to check to form image data, and to compare the normal image data with the checked image data to detect defects.例文帳に追加

マスク３０のパターンの電子像を検査する方法であって、マスクを通過した電子ビームを検査用試料１００に照射して電子像を露光し、検査用試料１００上の電子像を検出して検査画像データを形成し、正規画像データと検査画像データを比較して欠陥を検出する。 - 特許庁

The method for obtaining the stencil mask 100 comprises steps of forming an indium oxide thin film 11 on the supporting substrate 1 comprising a silicon wafer to manufacture the substrate 10 for the stencil mask, forming an opening 31 in the supporting substrate 1 by pattern-processing the supporting substrate 1 and the indium oxide thin film 11, and forming a charged beam transmitting hole 12 in the indium oxide thin film 11.例文帳に追加

シリコンウェハーからなる支持基板１上に酸化インジウム薄膜１１を形成してステンシルマスク用基板１０を作製し、支持基板１及び酸化インジウム薄膜１１をパターニング処理して支持基板１に開口部３１、酸化インジウム薄膜１１に荷電ビーム透過孔１２を形成してステンシルマスク１００を得る。 - 特許庁

An exposure system projects a mask pattern onto a photosensitive substrate using a fluorine excimer laser as a light source, where the beam of the excimer laser whose wavelengths are in a wavelength range of vacuum ultraviolet rays are used as an exposure light, and an optical axis aligning means in which visible light or infrared beams emitted from the fluorine excimer laser at the same time are used is provided.例文帳に追加

フッ素エキシマレーザを光源とし、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、前記フッ素エキシマレーザ光の真空紫外域の波長を露光光とし、前記フッ素エキシマレーザ光が同時に発光する可視光または赤外光を用いた光軸合わせ手段を設ける。 - 特許庁

To solve the problems of a performance enhancing technique in microfabrication of a semiconductor device and to provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good line edge roughness particularly in microfabrication of a semiconductor device using an electron beam or X-ray.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に電子線又はＸ線を用いた半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁