「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

A hole 60 penetrating the insulating film is formed by making incident a pulse laser beam in the ultraviolet range on the position overlapping the internal layer pattern 51 of the insulating film 52 so as to make pulse energy density on the surface of the insulating film to become first pulse energy density.例文帳に追加

絶縁膜５２の、内層パターン５１と重なる位置に、該絶縁膜の表面におけるパルスエネルギ密度が第１のパルスエネルギ密度になるように紫外域のパルスレーザビームを入射させて、該絶縁膜を貫通する穴６０を形成する。 - 特許庁

In a base station 101, when a sector transmits to a terminal 106 in a front of a beam 201, only the sector performs transmission, and when transmission is made to a terminal 103 in a sector boundary off a direction of the beam 201, a different sector performs the transmission to the same terminal 103 using the same hopping pattern, and thus communication quality is improved without making the terminal 103 be conscious.例文帳に追加

基地局１０１は、セクタがビーム２０１正面の端末１０６へ送信する場合はそのセクタのみが送信を行い、ビーム２０１方向から外れたセクタ境界の端末１０３へ送信する場合は、別のセクタが同じホッピングパターンを用いて同じ端末１０３へ送信を行うことで、端末１０３に意識させることなく通信品質を向上する。 - 特許庁

To provide an electron beam (EB) drawing data generation method capable of extracting a graphic in a CP cut-away frame as a character pattern while suppressing an increase in computational complexity even if it is necessary to resize a graphic cell, when extracting the graphic in a character projection (CP) cut-away frame generated from a cell arrangement frame included in the graphic cell as a character pattern.例文帳に追加

図形セルに含まれるセル配置枠から生成されたＣＰ切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出する際に、図形セルに対してリサイズ処理を施す必要がある場合でも、計算量の増加を抑制したまま、ＣＰ切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして抽出することができる、ＥＢ描画データ生成方法を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing organic electroluminescence element provides an advantage that when forming the organic film layer pattern with LITI, the method for manufacturing organic electroluminescence element can adjust incident light having various modes with homogeneity by using the space light modulator, can produce the laser beam having a predetermined mode profile, and can form the organic film layer pattern without using a mask.例文帳に追加

ＬＩＴＩを用いて有機膜層パターンを形成するにおいて、空間光変調器を用いることで、多様な形態を持つ入射光を均質に調節することができ、所望の形態のプロファイルを持つレーザービームを形成することができ、マスクを使わなくても、有機膜層パターンを形成することのできる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供するという利点がある。 - 特許庁

The optical disk includes: a plurality of recording layers for recording or reproducing information; and the coma aberration correction pattern region which is formed near a surface on this side when viewed from a radiation direction of an optical beam from pickup recording or reproducing information on the recording layer and in which a periodical pattern for detecting the coma aberration amount of an optical simplex including the pickup is formed.例文帳に追加

光ディスクは、情報を記録または再生するための複数の記録層と、該記録層に情報を記録または再生するピックアップからの光ビームの照射方向から見て手前側の表面近傍に形成されかつピックアップを含む光学系単体のコマ収差量を検出するための周期的なパターンが形成されたコマ収差補正用パターン領域と、を備える。 - 特許庁

An image of the mark for detecting position of the base pattern of the substrate 1 is obtained by each image acquiring device 51 and the chuck 10 is moved by the stage in accordance with the position of the mark for detecting position of the base pattern of the substrate 1 detected by the image processing device 50 to position the substrate 1 before scanning the substrate 1 by the optical beams emitted from the optical beam irradiation device 20.例文帳に追加

各画像取得装置５１により基板１の下地パターンの位置検出用マークの画像を取得し、画像処理装置５０が検出した基板１の下地パターンの位置検出用マークの位置に応じて、ステージによりチャック１０を移動して、光ビーム照射装置２０からの光ビームにより基板１を走査する前の基板１の位置決めを行う。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device comprises processes of forming a polysilicon film 3 on an insulating film 2, irradiating the polysilicon film 3 with an inactive ion beam, introducing impurities into the polysilicon film 3, subjecting the polysilicon film 3 to a thermal treatment, and forming a polysilicon pattern 3a positioned on the insulating film 2 through a means of subjecting the polysilicon film 3 to pattern processing.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置の製造方法は、絶縁膜２上にポリシリコン膜３を形成する工程と、ポリシリコン膜３に不活性イオンを照射する工程と、ポリシリコン膜３に不純物を導入する工程と、ポリシリコン膜３を熱処理する工程と、ポリシリコン膜３をパターニングすることにより、絶縁膜２上に位置するポリシリコンパターン３ａを形成する工程と、を具備する。 - 特許庁

The data creation method for an electron beam projection photolithography machine is characterized by including a process of creating flat data by expanding the pattern data of a hierarchized mask, a process of performing profiling that extracts the profile line of the pattern on the flat data, and a process of extracting cells in which polygons have the same patterns and hierarchizing the cells.例文帳に追加

電子ビーム投影露光装置用のデータ作成方法において、階層化されたマスクのパターンデータを展開してフラットなデータを作成する工程と、このフラットなデータについてパターンの輪郭線を抽出する輪郭化処理を行う工程と、このフラットなデータから同一の形状のポリゴンを有するセルを抽出して階層化する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

In such a state that the scanning length due to the laser beam of the other semiconductor laser corresponding to the correction condition while changing the correction condition, a pattern image for confirmation is outputted and a correction condition used at the time of usual formation of image can be selected and set from the correction conditions corresponding to the respective outputted confirming pattern images.例文帳に追加

また、補正条件を変えながらその補正条件に応じて他の半導体レーザのレーザ光による走査長が補正された状態で、確認用パターン画像を出力し、出力された各確認用パターン画像にそれぞれ対応する補正条件の中から、通常の画像形成時に使用される補正条件を選択して設定することが可能である。 - 特許庁

This stereoscopic image display device has a display part where pixels whose positions are determined within a display surface of concave or convex shape when viewed from the observer are arranged in matrix, a two-dimensional pattern display means of displaying a two-dimensional pattern on the display surface of the display part, and a light beam control part which has a plurality of aperture parts or lenses and control light beams from the pixels.例文帳に追加

観測者からみて凹面状または凸面状の表示面内に位置が定められた画素がマトリクス状に配置される表示部と、２次元パターンを前記表示部の前記表示面に表示する２次元パターン表示手段と、複数の開口部または複数のレンズを有し前記画素からの光線を制御する光線制御部とを備えていることを特徴とする。 - 特許庁

A method for manufacturing an anti-glare film including a rugged fine pattern comprising discontinuous dots formed on a flexible support comprises at least: a step of supplying photosensitive image forming material onto the flexible support to form a photosensitive layer; and a step of exposing and developing the photosensitive layer with an active light beam to form the rugged fine pattern comprising the discontinuous dots.例文帳に追加

可撓性支持体上に、感光性画像形成材料を供給して感光層を形成する工程と、 前記感光層を活性光線で露光、現像して、不連続なドットからなる凹凸微細パターンを形成する工程と、 を少なくとも有することを特徴とする、可撓性支持体上に不連続なドットからなる凹凸微細パターンが形成されている防眩フィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, capable of reducing the change in a width of a line of a connecting part of a transferred pattern and effectively connecting a plurality of divided patterns in the case of forming the pattern of the semiconductor device, by transferring to a resist coating the wafer by using an electron beam exposure device by forming a plurality of the divided patterns on the mask.例文帳に追加

分割された複数のパターンをそれぞれのマスク上に形成し、ウエハ上に塗布したレジストに電子線露光装置を用いて転写して半導体装置のパターンを形成する際に、転写されたパターンの接続部の線幅変化を小さくし、かつ、分割された複数のパターンを確実に接続できるような半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The charged particle beam drawing method for exposing a pattern comprising a plurality of pixels on a substrate by scanning with charged particle beams has a step for generating an instruction value so that the exposure time of a pixel located at the edge of the pattern becomes smaller than that of other pixels, and a step for correcting the instruction value based on the instruction value of the pixel immediately before.例文帳に追加

【解決手段】 荷電粒子線を走査して基板上の複数のピクセルからなるパターンを露光する荷電粒子線描画方法において、前記パターンのエッジに位置するピクセルの露光時間が他のピクセルの露光時間よりも小さくなるように指令値を生成する生成ステップと、前記指令値を直前のピクセルの指令値に基づいて補正する補正ステップとを有する。 - 特許庁

In an electron beam aligning stencil mask in which membranes 11, 12 formed with patterns which should be transferred to an inductive substrate via through holes 21, 22 of a pattern form are supported by a support member, at least one pattern 41 out of the patterns formed with a single through hole is divided and disposed in a plurality of regions 11, 12.例文帳に追加

パターン状の貫通穴２１、２２により感応基板に転写すべきパターンが形成されたメンブレン１１、１２が支持部材により支持されてなる電子線露光用ステンシルマスクにおいて、単一の貫通孔により形成されるパターンのうち少なくとも一つのパターン４１が分割されて、複数の領域１１、１２に配置されていることを特徴とする電子線露光用ステンシルマスク。 - 特許庁

An insulation resist membrane is formed on the substrate, the surface ionized array pattern is formed on the resist membrane by irradiating the resist membrane with an electron beam, the dipolar ionic liposome is coupled to the surface ionized array pattern by an electrostatic interaction, and the fellow individual liposomes are kept under an isolated condition by electrostatic repulsion to prevent membrane fusion, breakage and aggregate formation.例文帳に追加

基板上に絶縁性レジスト膜を形成し、このレジスト膜に電子ビーム照射により表面イオン化した配列パターンを形成し、この表面イオン化した配列パターンに両性イオン性リポソームを静電相互作用により結合させ、かつ、個々のリポソーム同士は静電反発により、孤立状態に保たれ、膜融合、破壊、凝集体形成が防止されている。 - 特許庁

The mask for electron beam exposure comprises an electron shield film having a mask part 10 where a specified pattern to be transferred is formed, a film for supporting the electron shield film having through holes corresponding to the specified pattern, and a frame for supporting the supporting film on the outside of the mask part 10 wherein the electron shield film comprises a tantalum film 4 and the supporting film comprises a diamond film 3.例文帳に追加

本発明の電子線露光用マスクは、転写すべき所定パターンが形成されたマスク部１０を有する電子遮蔽膜と、所定パターンに対応する貫通孔を有し、電子遮蔽膜を支持する支持膜と、マスク部１０の外側で支持膜を支持する支持枠とを備え、電子遮蔽膜をタンタル膜４で構成し、支持膜をダイヤモンド膜３で構成した。 - 特許庁

A resist film 11 formed of chemically sensitized resist material is subjected to a first EB projection exposure 12A under the condition that a beam blur and a focus position are set at 20 nm and 2 μm, respectively, through the intermediary of a first mask 13 where a first mask pattern has been formed.例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１１に対して、第１のマスクパターンが形成された第１のマスク１３を介して、ビームブラー：２０ｎｍで且つ焦点位置：２μｍの条件で第１回目のＥＢプロジェクション露光１２Ａを行なう。 - 特許庁

To provide a transfer mask and a transfer mask blank capable of reducing a compressive stress and a crucial defect of a BOX layer generated in the transfer mask and having an excellent transfer accuracy, and a pattern exposure method of a charged particle beam using the transfer mask.例文帳に追加

転写マスクで発生するＢＯＸ層の圧縮応力及び致命的欠陥を低減し、優れた転写精度を有する転写マスク及び転写マスクブランク並びに転写マスクを用いた荷電粒子線のパターン露光方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To increase the visibility of the diagonally front road surface of a vehicle without generating large light distribution unevenness by a simple and low-cost lamp structure, in a vehicle headlamp which is constructed so as to enable light irradiation to form a low beam light distribution pattern.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンを形成するための光照射を行い得るように構成された車両用前照灯において、簡単かつ安価な灯具構成により、大きな配光ムラを発生させることなく車両斜め前方路面の視認性を高める。 - 特許庁

A negative type or positive type heat ray sensitive resin film layer (A), a sheet layer (B) transparent to heat rays and an energy beam sensitive film layer (C) containing a heat ray absorber are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面にネガ型もしくはポジ型感熱線性樹脂被膜層（Ａ）、熱線を透過するシート層（Ｂ）、及び熱線吸収剤を含有する感エネルギー線被膜層（Ｃ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

To provide a semiconductor device wherein a fuse region will not act as a barrier on arrangements of wiring in an LSI and on designing of an LSI pattern by preventing damages from being extended to the wiring layers located in a lower layer in the LSI when irradiating a laser beam on metal fuses to blow them.例文帳に追加

メタルヒューズにレーザービームを照射してブローする際に、下層のＬＳＩ内配線層にダメージが及ぶことを防止し、ヒューズ領域がＬＳＩ内配線の配置およびＬＳＩパターン設計上の障害とならない半導体装置を提供する。 - 特許庁

The signal processing part 104 processes a pattern of the interference fringe by the detecting signal 103 to calculate an error in the arrival direction of the capturing lase beam 101 to drive and control the mirror 106 by sending a driving control signal 102 to a mirror control driving circuit 107.例文帳に追加

信号処理部１０４は検出信号１０３による干渉縞のパターンを処理し、捕捉レーザビーム１０１の到来方向の誤差を計算し、駆動制御信号１０２をミラー制御駆動回路１０７に送りミラー１０６を駆動制御させる - 特許庁

To provide a laser beam marking device capable of marking every kind of marking pattern (in particular, novel font characters and original fonts) which is set up and inputted by a user on a work, and omitting any change of the software with respect to the novel font characters.例文帳に追加

本発明の目的は、ユーザによって設定入力されたあらゆるマーキングパターン（特に、新規なフォント文字やオリジナルフォント）をワークにマーキングすることが可能であり、新規な文字フォントに対してソフトウェアの変更を不要にできるレーザマーキング装置を提供することにある。 - 特許庁

The mask force device is releasably connected to the mask in order to provide an accelerating force to the mask so that a projection optical system in a lithographic apparatus may accurately project a pattern imparted by the patterning device onto a target portion of a substrate by using a radiation beam.例文帳に追加

マスク力デバイスは、リソグラフィ装置内の投影光学系が放射ビームを用いて基板のターゲット部分上にパターニングデバイスによって付与されるパターンを正確に投影できるように、加速力をマスクに提供するためにマスクに取外し可能に連結されている。 - 特許庁

The lighting fixture 1 generates illumination light of a light distribution pattern for a low-beam lamp and includes an LED light source 30 and a lens 10 serving as a light guide, the lens 10 being formed with an entrance surface 12, a reflecting surface 16, and an exit surface 18.例文帳に追加

車両用灯具１は、すれ違い光用の配光パターンの照明光を照射するもので、ＬＥＤ光源３０と、ライトガイドであるレンズ体１０とを備え、レンズ体１０には、入射面１２、反射面１６、出射面１８が形成されている。 - 特許庁

In the headlight for a vehicle, the light-emitting module 36 is provided with a light-emitting part 54, and a frame body 52 surrounding the light-emitting part 54 for zoning a light-emitting face 54a, and forms a low-beam light distribution pattern through a projection lens with light emitted from the light-emitting face 54a.例文帳に追加

車両用前照灯において、発光モジュール３６は、発光部５４と、発光面５４ａを画定するよう発光部５４を囲う枠体５２と、を有し、発光面５４ａから発せられる光で投影レンズを通じてロービーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁

To provide an intraoral imaging apparatus having an illumination field generator that forms an illumination beam having a contour fringe projection pattern when receiving light from a first light source and having a substantially uniform illumination field when receiving light from a second light source.例文帳に追加

第１の光源から光を受けたときに輪郭干渉縞投影パターンを有し、第２の光源から光を受けたときに実質的に一様な照明場を有する照明光線を形成する照明場発生器を有する口腔内撮像装置を提供する。 - 特許庁

A controller calculates fluctuation information of wavefront aberration of an optical system accompanying irradiation with an energy beam (step 222), and calculates adjustment data of the optical system based on the calculated fluctuation information of the wavefront aberration and information about a pattern (steps 208 to 216).例文帳に追加

制御装置が、エネルギビームの照射に伴う光学系の波面収差の変動情報を算出（ステップ２２２）、その算出された波面収差の変動情報と、パターンに関する情報とに基づいて、光学系の調整データを算出する（ステップ２０８〜２１６）。 - 特許庁

To form a light-distribution pattern for a low-beam having horizontal and slanted cutoff lines at a top end section while enhancing utilization efficiency of its light source light flux in a direct-projection type lighting lamp tool for a vehicle using an approximately rectangular light-emitting surface as a light source.例文帳に追加

略矩形状の発光面を光源とする直射型の車両用照明灯具において、その光源光束の利用効率を高めるようにした上で、上端部に水平および斜めカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

With a non-light-incident peripheral area (20s (L6, R6)) into which light from the front filament 18a is blocked from entering by the light shielding action of the outer shade 22, light from the rear filament 18b is reflected toward the center part of the high-beam distribution pattern to form a hot zone.例文帳に追加

このアウタシェード２２の遮光作用で前部フィラメント１８ａからの光が入射しない光非入射周縁領域（２０ｓ（Ｌ６、Ｒ６））により、後部フィラメント１８ｂからの光をハイビーム配光パターンの中心部へ向けて反射させ、ホットゾーンを形成する。 - 特許庁

This device is equipped with an array type search probe 3, a transmission/reception circuit 4, an addition amplifier 5, an evaluation circuit 6 for evaluating existence of a flaw based on a received signal, a delay circuit 7 for controlling a focused pattern of an ultrasonic beam of the array type search probe 3, and a control means 8.例文帳に追加

アレイ型探触子３、送受信回路４、加算アンプ５、受信信号に基づいて疵の有無を評価する評価回路６、アレイ型探触子３の超音波ビームの集束パターンを制御する遅延回路７と、制御手段８とを備える。 - 特許庁

To provide a method and a device for forming a thin film pattern, in which the performance in removal of residues after laser beam machining or depositions on a substrate is enhanced, a poor thin film is prevented from being generated by preventing the removed materials from being stuck again on the substrate and a step to manufacture the thin film is simplified.例文帳に追加

レーザ加工残渣または基板付着物の除去性能の向上と、除去物の基板への再付着を防止して薄膜の不良発生の防止を図り、さらに製造工程の簡素化を図った薄膜パターン形成方法とその装置を提供する。 - 特許庁

An inspection tool in an embodiment includes a light irradiation source generating scattered light including scattered light from the defects of a workpiece, which caused by guiding a light beam on the workpiece, scattered light according to a normal scattering pattern of the workpiece.例文帳に追加

検査ツールの実施形態は、光ビームをワークピース上に導くことによって、前記ワークピースの欠陥から散乱された光、および前記ワークピースの通常の散乱パターンにしたがって散乱された光を含む、散乱された光を発生する照射源を含む。 - 特許庁

The linear pattern is formed by sequentially discharging a liquid (16) containing a functional component and having the effect of curing by irradiation with active light beam toward a non-permeable medium (12) from an ink jet head (18), and mutually combining such landed droplets on the medium (12).例文帳に追加

機能性成分を含有し、活性光線の照射によって硬化する作用をもつ液体(16)を非浸透性の媒体(12)に向けてインクジェットヘッド(18)から順次吐出して、媒体(12)上でこれら着弾液滴同士を合一させて線状パターンを形成する。 - 特許庁

A filter arrangement selectively reduces transmittance of radiation through the second region of the patterning device, and reduces intensity of one or a plurality of images of the second pattern caused by a part of radiation beam which is indirectly incident on the second region of the patterning device.例文帳に追加

フィルタ機構は、パターニングデバイスの第２の領域を通して放射の透過率を選択的に減少させて、パターニングデバイスの第２の領域に間接的に入射する放射ビームの一部に起因する第２のパターンの１つまたは複数の像の強度を減少させる。 - 特許庁

To provide an industrially practical laser beam machining method for a transparent material capable of performing ablation machining of a fine pattern structure on the surface of a transparent material such as quartz glass at a low cost, in high quality and high precision using a laser of a single mode.例文帳に追加

シングルモードのレーザーを用いて、石英ガラスなどの透明材料の表面に微細なパターン構造のアブレーション加工を高速かつ安価に、高品質・高精度に形成し得る産業上実用的な透明材料のレーザー加工方法を提供する。 - 特許庁

To stabilize an uneven pattern equal to or smaller than a diffraction limit by specifying conditions for stably patterning a photoresist layer when utilizing a hyper-resolution for an exposure beam in a method for forming fine patterns with contrast enhancement photolithography.例文帳に追加

コントラスト増強フォトリソグラフィ法で微細パターンを形成する方法において、露光ビームに超解像を利用する際に、フォトレジスト層に安定したパターン形成を行なうための条件を規定することにより、回析限界以下の凹凸パターン形状を安定させる。 - 特許庁

To provide a transfer mask data correction system to obtain a transfer mask suitable to eliminate the troubles caused by the physical phenomenon which follows the etching or ion implantation and the electron beam lithography when manufacturing a mask pattern.例文帳に追加

エッチングやイオン注入等に伴う物理現象に起因した不都合、および、マスクパターンを製作する際の電子線描画に伴う物理現象に起因した不都合を解消に適した転写用マスクを得るための転写用マスクデータ補正装置を提供する。 - 特許庁

This method for manufacturing the antenna and antenna array having the desired beam width is applied to a polarization antenna for both single and double polarization and the radiation pattern of the radiation elements of the antenna is controlled and varied by arranging an adequately designed parasitic element nearby them.例文帳に追加

望ましいビーム幅でアンテナとアンテナ・アレイを製造する方法が、単一と二重の両方の偏波アンテナに適用されて、アンテナの放射素子の放射パターンを、それらの近くに適切に設計したパラスティック素子を配置することにより制御し変更する。 - 特許庁

The inspection system for the circuit pattern is provided with an electron beam visual inspection device, provided with a monitor for displaying the defect on a map; and an external visual inspection device for storing an image of the defect, and is constituted to display concurrently the map and the image of the defect on the monitor.例文帳に追加

また、回路パターンの検査システムは、マップに欠陥を表示するモニタを備えた電子線外観検査装置とこの欠陥の画像を記憶した外部外観検査装置とを備え、モニタにマップと欠陥の画像とを同時に表示する構成とする。 - 特許庁

Central intersection parts 6M and 6N at which the ends of beam band segments 6a-6d belonging to a complementary pattern zone of one quadrant meet each other, are omitted, to provide central membrane divisions 5A1, 5B1, 5B2 and 5C whose areas in plan view are larger than the surrounding membrane divisions.例文帳に追加

１つの象限の相補パターン区画に属する梁帯部セグメント６ａ〜６ｄの端部が出会う中央の交差部分６Ｍ，６Ｎを欠落させ、周囲のメンブレン分割領域よりも平面視野内での面積が大きい中央メンブレン分割領域５Ａ１，５Ｂ１，５Ｂ２，５Ｃを有する． - 特許庁

To increase the visibility of the diagonally front road surface of a vehicle without generating large light distribution unevenness by a simple and low-cost lamp structure, in a vehicle headlamp which is constructed so as to be capable of light irradiation to form a low beam light distribution pattern.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンを形成するための光照射を行い得るように構成された車両用前照灯において、簡単かつ安価な灯具構成により、大きな配光ムラを発生させることなく車両斜め前方路面の視認性を高める。 - 特許庁

A negative type or positive type visible light sensitive resin film layer (A), a sheet layer <B) transparent to visible light and an energy beam sensitive film layer (C) containing a visible light absorber are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面にネガ型もしくはポジ型可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、及び可視光線吸収剤を含有する感エネルギー線被膜層（Ｃ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

To solve the problems of a performance-improving the technique for microfabrication of a semiconductor element or the like that uses ultraviolet radiation, excimer laser light, an electron beam or the like, and to provide a positive photosensitive composition, having high sensitivity and high resolution and satisfying a good pattern profile.例文帳に追加

紫外線、エキシマレーザー光、電子線等を使用する半導体素子等の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度かつ高解像性、良好なパターン形状を満足するポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

In the pattern correcting method, two slits 24 of predetermined distance are formed, by having a laser beam irradiated to both sides of a rib lost defect 22 in a rib 21 formed on a glass substrate 20, to eliminate the defective section between the slits 24 with a scratch needle 51.例文帳に追加

このパターン修正方法では、ガラス基板２０上に形成されたリブ２１のリブ欠け欠陥２２の両側にレーザ光を照射して所定間隔の２つのスリット２４を形成し、スクラッチ針５１によって２つのスリット２４間の欠陥部を除去する。 - 特許庁