「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

A predetermined region is thereby scanned by an electron beam to acquire an image; a plurality of regions are selected from the image; respective pattern pitches are measured; and scanning distortion is calculated from the measurement result, and corrected.例文帳に追加

このために電子ビームで所定の領域を走査して画像を取得し、当該画像から複数の領域を選択し、夫々のパターンピッチを計測し、該計測結果から走査歪み量を算出して補正する。 - 特許庁

To provide a pattern formation apparatus which dries flying droplets by irradiating the flying droplets with a laser beam and is improved in drying efficiency and landing precision for flying droplets.例文帳に追加

飛行中の液滴にレーザ光を照射して飛行中の液滴を乾燥させるパターン形成装置において、飛行中の液滴の乾燥効率と着弾精度を向上させたパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal laser marker which employs an optical system realizing printing in a wide range using a small polarization beam splitter nonetheless can keep satisfactory contrast even in the outer circumferential part of a printed pattern.例文帳に追加

広範囲の印字を小さな偏光ビームスプリッタを用いて実現する液晶レーザマーカの光学系にもかかわらず、印字されたパターン外周部もコントラストを良好に保つことが出来る液晶レーザマーカを提供すること。 - 特許庁

The headlight device control ECU increases or decreases the illuminance of the high-beam light distribution pattern according to a distance r from one's own vehicle to the vehicle ahead, and an angle formed between the advance direction of one's own vehicle and the advance direction of the vehicle ahead.例文帳に追加

前照灯装置制御ＥＣＵは、自車から前走車までの距離ｒと、自車の進行方向と前走車の進行方向とのなす角度とに応じてハイビーム用配光パターンの照度を増減させる。 - 特許庁

To provide a charge beam writing device, a pattern writing method and a memory medium which enables superior writing performance by reducing a color aberration and lessening the influence of a space charge effect by using charged beams of low acceleration.例文帳に追加

低加速の荷電ビームを用いて色収差が小さく空間電荷効果の影響が少なく描画性能に優れた荷電ビーム描画装置およびパターン描画方法並びに記録媒体を提供する。 - 特許庁

The prescribed laser beam 9 is transmitted successively by a cover glass 23 and a covering layer 8 from the outer part of a wrist watch and is applied to a marking layer 72 of dial 7 and the marking 10 such as desired letter, sign, figure and pattern is applied.例文帳に追加

腕時計の外部から、所定のレーザ光９を、カバーガラス２３および被覆層８を順次透過して文字板７のマーキング層７２に照射し、例えば所望の文字、記号、図形、模様等のマーキング１０を施す。 - 特許庁

The beam length index is given by an approximate expression including as a parameter a pixel pitch found corresponding to the kind of a stepper used to pattern the pixels and the heat conductivity of the material of the wire 6.例文帳に追加

梁長指数は、温度分解能の式に基づいて、画素のパターニングに用いられるステッパの種類及び配線６の材料の熱伝導率に応じて求められた、画素ピッチをパラメータとする近似式で与えられる。 - 特許庁

The antennas of the adaptive array base station 1 forms a transmission directivity pattern facing a beam and a null to a desired signal source and an interference signal source based on reception weight and the terminal or base station 2 measures a DU ratio.例文帳に追加

アダプティブアレイ基地局１は、受信ウェイトに基づき所望信号源および干渉信号源にビームおよびヌルを向ける送信指向性パターンを形成し、端末または基地局２はＤＵ比を測定する。 - 特許庁

To provide a charged particle applied technique using an electrostatic chuck device which is capable of restraining an eddy current flowing through its chuck electrode from affecting an electron beam so as to improve a pattern in positional accuracy.例文帳に追加

静電吸着装置の吸着用電極に流れる渦電流が電子ビームに与える影響を低減し、パターン位置精度を向上させ得る静電吸着装置を用いた荷電粒子応用技術を提供する。 - 特許庁

The pattern area CP of the reticle 2 is exposed at both ends in an X direction while both the ends of the illumination beam IB in the X direction are moved by a pair of movable blind members 33A, 33B.例文帳に追加

レチクル２のパターン領域ＣＰのＸ方向の両端においては、一対の可動ブラインド部材３３Ａ、３３Ｂによって照明ビームＩＢのＸ方向両端を画しつつパターン領域ＣＰを露光する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining device which can correctly machine a pattern continuously connected in the second face or the third face to a machining object of various types of many fields such as an ID card, and to provide an ID card.例文帳に追加

ＩＤカードのような多面からなる加工対象物に対し、２面または３面に連続して繋がるパターンを、正確に加工することを可能にするレーザー加工装置及びＩＤカードを提供する。 - 特許庁

The body 111 has a slot plate 113, and a main beam 115 of a directional radiation pattern is set tilted at a tilt angle of θ from the vertical direction 114 with respect to a plane P1 of the plate 113.例文帳に追加

スロットアレーアンテナ本体１１１は、スロット板１１３を有し、このスロット板１１３の面Ｐ１に対して垂直方向１１４からチルト角θだけ傾いた方向の放射指向性の主ビーム１１５が設定される。 - 特許庁

A surface of an Si substrate 1 is coated with a chemical amplification type positive resist agent 12 having such property that the glass transition temperature rises by irradiation with an electron beam, and thus the resist pattern 12a is formed of the resist agent 12.例文帳に追加

Ｓｉ基板１の表面に、電子ビームの照射でガラス転移温度が上昇する性質を有する化学増幅型ポジレジスト剤１２を塗布し、このレジスト剤１２によるレジストパターン１２ａを形成する。 - 特許庁

A fluctuation amount of base line of a mark detecting system is estimated with an interrupting process on the basis of the information about irradiation of the lighting beam radiated to a reticle on which a pattern is formed and the predetermined model formula.例文帳に追加

パターンが形成されたレチクルに対して照射される照明光の照射に関する情報と、所定のモデル式とに基づいて、割り込み処理によりマーク検出系のベースラインの変動量を推定する。 - 特許庁

To provide a mask member that allows execution of film-formation according to an opening pattern of the mask member, even when each beam part is arranged between opening parts, and to provide an organic EL device manufacturing method that uses the same.例文帳に追加

開口部間に梁部を配置した場合でも、マスク部材の開口パターンどおりに成膜を行うことのできるマスク部材、およびこのマスク部材を用いた有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A charged particle beam system is provided, wherein when a sample has repeated cells, a scale pattern corresponding to the cells is created and superimposed on an image of the iterative cells of the sample, thereby specifying a target cell.例文帳に追加

本発明の荷電粒子ビーム装置では、試料が繰り返しセルを有するとき、セルに対応したスケールパターンを生成し、それを試料の繰り返しセルの画像に重畳させることにより、目的セルを特定する。 - 特許庁

To provide an optical encoder capable of obtaining desired precision by regulating the relation among the necessary phase precision, distance between index scale and main scale, divergent angle of a parallel light beam, and a period of a periodic pattern.例文帳に追加

必要位相精度と、インデックススケールとメインスケールとの距離と、平行光線のビーム発散角度と、周期パターンの周期との関係を規定することにより、所望の精度をもつ光学式エンコーダ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device of a critical-dimension measuring scanning electron microscope (CD-SEM) or the like, measuring accurately a pattern dimension on a photomask for nanoimprint by a retarding voltage application system.例文帳に追加

リターディング電圧印加方式によってナノインプリント用フォトマスク上のパターン寸法を正確に測定することができる微小寸法測定走査電子顕微鏡（CD-SEM）等の荷電粒子線装置を提供することにある。 - 特許庁

To effectively aim at prevention of glare on an on-coming driver at rainy-day running, while securing enough brightness of a low-beam light distribution pattern in a projector type headlight for a vehicle equipped with a liquid crystal shutter.例文帳に追加

液晶シャッタを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンの明るさを十分に確保した上で、雨天走行時における対向車ドライバのグレア防止を効果的に図る。 - 特許庁

A control method or a control apparatus is provided for the wireless network wherein a plurality of wireless stations each including an antenna having a sector pattern with a prescribed beam width are provided and wireless communication is executed among the wireless stations.例文帳に追加

それぞれ所定のビーム幅を有するセクタパターンを有するアンテナをそれぞれ含む複数の無線局を備え、各無線局間で無線通信を行う無線ネットワークのための制御方法又は制御装置である。 - 特許庁

In order to improve the field effect mobility of the TFT, the scanning direction of a laser beam is made to substantially coincides with a channel length direction in a thin film transistor, in a pattern of the second region formed through etching.例文帳に追加

エッチングで形成される第２半導体領域のパターンは、ＴＦＴにおける電界効果移動度を向上させるために、レーザービームの走査方向と薄膜トランジスタにおけるチャネル長方向とを概略一致させる。 - 特許庁

To enable a lighting lamp fitting for a vehicle equipped with a light-emitting element and a translucent member to form a low-beam light distribution pattern having horizontal and slanted cutoff lines and to form the cutoff lines clearly.例文帳に追加

発光素子および透光部材を備えた車両用照明灯具において、水平および斜めカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成可能とし、そのカットオフラインを鮮明に形成可能とする。 - 特許庁

In the charged-particle beam exposure device transferring the pattern of the reticle on a sensitive substrate, the damaged site of the reticle is detected by a position measuring means measuring the position of the reticle.例文帳に追加

レチクルのパターンを感応基板上に転写する荷電粒子線露光装置において、前記レチクルの位置測定を行う位置測定手段により、前記レチクルの破損部位の検出を行うことを特徴とする。 - 特許庁

In the GLV 18, a voltage is selectively applied to a part of the bridge parts 18A in response to the film pattern to deform the selected bridge parts 18A, and thereby, the irradiated energy beam is controlled to be diffracted.例文帳に追加

ＧＬＶ１８では、一部の架橋部１８Ａに対して薄膜パターンに応じて選択的に電圧が印加され、選択された架橋部１８Ａが変形することによって、照射されたエネルギービームが回折制御される。 - 特許庁

The operation system 4 positions the substrate 1 relatively to the projection system 3, projects the patterning radiation beam on a target portion of the substrate 1, and adjusts pattern data based upon the detection result to perform temperature compensation.例文帳に追加

作動システム４により基板１を投影システム３に対して位置決めし、パターン化放射線ビームを基板１の目標部分上に投影し、検出結果に基づいてパターンデータを調整して温度補償する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask blank and a halftone phase shift mask having proper chemical resistance and light resistance and ensuring accurate pattern drawing without a charge-up phenomenon on patterning a resist film by electron beam lithography.例文帳に追加

耐薬品性、耐光性が良好で、レジスト膜に対して電子線描画してパターニングする際にも、チャージアップせずに正確なパターン描画ができるハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming device which irradiates a flying droplet with a laser beam to dry it and suppresses the positional deviation of impact position without reducing the evaporation amount of evaporation components.例文帳に追加

飛行中の液滴にレーザ光を照射して該液滴を乾燥させるパターン形成装置において、蒸発成分の蒸発量を損なうことなく着弾位置の位置ずれを抑制するパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device having a fine pattern which exceeds the conventional limit of conventional fine work by succeeding previously established i-beam exposure technology as it is and correcting etching technology.例文帳に追加

既に確立されたｉ線露光技術はそのまゝ継承してエッチング技術を小修正することで、従来の微細加工の限界を越える微細パターンを有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The coded images are acquired while scanning the object with a laser beam pattern, and the flash images are acquired, while illuminating the object with a set of light sources at different locations in the vicinity of the camera, one by one for each light source.例文帳に追加

符号化画像は、レーザービームパターンで物体を走査しながら取得され、フラッシュ画像は、カメラに近い異なる場所にある一組の光源で物体を照らしながら各光源につき１枚ずつ取得される。 - 特許庁

To enable a lighting lamp fitting for a vehicle equipped with a light-emitting element and a translucent member to form a low-beam light distribution pattern having horizontal and slanted cutoff lines and to enhance freedom of a lamp fitting layout.例文帳に追加

発光素子および透光部材を備えた車両用照明灯具において、水平および斜めカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成可能とし、かつ、灯具レイアウトの自由度を高める。 - 特許庁

The apparatus is also provided with a beam combiner 115 adapted to direct and combine at least a portion of the second plurality of spatially coherent radiation beams onto a surface of a substrate to form an interference pattern.例文帳に追加

さらに、干渉パターンを形成するために、第２の複数の空間コヒーレント放射ビームの少なくとも一部を基板の表面の方向に向け、かつ、結合するように適合されたビームコンバイナ１１５を備えている。 - 特許庁

Respective light distribution patterns formed of the optical units 4a to 4d are set by changing the curvature of the projector lens 7, and the low beam light distribution pattern is formed by synthesizing these light distribution patterns.例文帳に追加

各光学ユニット４ａ〜４ｄで形成される夫々の配光パターンは投影レンズ７の曲率を変えることで設定され、それら配光パターンの合成によってすれ違いビーム用配光パターンが形成される。 - 特許庁

The antenna pattern 2 can be constituted of a coil, and can also be constituted by applying fine processing such as etching and laser beam machining to a conductor film formed on the surface of the insulating layer 4.例文帳に追加

アンテナパターン２は、巻線をもって構成することもできるし、絶縁層４の表面に形成された導体膜に例えばエッチングやレーザビーム加工等の微細加工を施すことにより構成することもできる。 - 特許庁

By irradiating the plane waveguide type optical circuit with an ultraviolet laser beam 50 through a phase grating mask 30, the diffraction grating 25 is formed in the core layer 20 (figure 1 (d)) by the refractive index modulation pattern.例文帳に追加

そして、この平面導波路型光回路に対して、位相格子マスク３０を介して紫外レーザ光５０を照射して、屈折率変調パターンによる回折格子２５をコア層２０内に形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁

The two-dimensional hologram pattern 200 as the diffraction grating for generating the Laguerre-Gaussian Beam is fabricated based on flow lines of a two-dimensional perfect fluid uniformly gushing from a gushing source in a uniform stream to the surroundings.例文帳に追加

ラゲールガウシアンビーム生成用回折格子としてのホログラム２次元パターン２００は、一様な流れの中におかれた湧源から周囲に一様に湧き出す２次元完全流体の流線に基づいて作製されている。 - 特許庁

To provide a laser irradiation apparatus which improves a laser beam efficiency and quality of an organic film layer pattern to be transferred and reduces damages to an organic film layer, and to provide a method for manufacturing an organic electroluminescence element using the same.例文帳に追加

レーザービーム効率及び転写される有機膜層パターンの質が向上させ、有機膜層の損傷も減少されるレーザー照射装置及びそれを用いた有機電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The reticle 2 for projecting a light is subjected to dark-field illumination, and the scattering light from a first reticle pattern is guided to an object lens 4 via a beam splitter 3, collimated at the object lens 4, and projected to an autocollimator mirror M.例文帳に追加

投光用レティクル２が暗視野照明され、第１レティクルパターンからの散乱光が、ビームスプリッタ３を介して対物レンズ４に導かれ、対物レンズ４でコリメートされた散乱光は、オートコリメータミラーＭに投影される。 - 特許庁

To provide a development-loading measuring method for eliminating the influence due to fogging at electron beam exposure to perform optimization of developing conditions, even for a photomask having a dense pattern region.例文帳に追加

密なパターン領域を持つフォトマスクであっても、電子線露光時のｆｏｇｇｉｎｇの影響を排し、現像条件の最適化を行うことが出来る現像ローディング測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thereby the light-dark contrast at the boundary line of a light distribution pattern for passing beam is mitigated by the up facing deflecting bundle of beams which passes the condenser lens 18 and is radiated forward from the lens element 18s.例文帳に追加

これにより、集光レンズ１８を透過してレンズ素子１８ｓから前方へ照射される上向き偏向光線束によりすれ違いビーム用配光パターンの明暗境界線の明暗比を緩和させる。 - 特許庁

This aligner is provided with an illuminating optical system which illuminates a mask 51 having a pattern to be transferred on a wafer 91, and a projection optical system which projects a charged particle beam which has passed the mask 51 on the wafer 91.例文帳に追加

本露光装置は、ウエハ９１上に転写すべきパターンを有するマスク５１を照明する照明光学系と、マスク５１を通過した荷電粒子線をウエハ９１上に投影する投影光学系を備える。 - 特許庁

A cutoff line CL1, CL2 is formed by reflecting light from a light source 18a toward a part close to an elbow point E of a low beam light distribution pattern P by means of a region 20a1 close to a lower-end edge of a reflecting surface 20a.例文帳に追加

反射面２０ａの下端縁近傍領域２０ａ１により、光源１８ａからの光をロービーム配光パターンＰのエルボ点Ｅ近傍部分へ向けて反射させてカットオフラインＣＬ１、ＣＬ２を形成する。 - 特許庁

Only a pattern (shaded parts in Figure 4 (b)) inside a cell which is frequently used is collectively transferred through an aperture, and a peripheral part of the cell (shaded parts in Figure 4 (c)) is transferred through a usual variable formation beam drawing.例文帳に追加

多数回使用されるセルの内部のパターン（図４（ｂ）の斜線部）に対してのみアパーチャを用いた一括転写を行い、セルの周辺部（図４（ｃ）の斜線部）は従来の可変成形ビーム描画を行う。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies few development defects as well as high sensitivity, high resolution and a good pattern shape when an active ray or radiation, particularly an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線の使用に対して、高感度、高解像性、良好なパターン形状に加えて、現像欠陥の特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Therefore, the light distribution pattern for low beam can be displaced to the driver's own lane side as a whole without sacrificing the diffusion angle of the driver's own lane side, and the hot zone can be formed to center a position to the driver's own lane.例文帳に追加

そしてこれにより、自車線側の拡散角を犠牲にすることなく、ロービーム用配光パターンを全体的に自車線側に変位させ、そのホットゾーンも自車線寄りの位置を中心として形成する。 - 特許庁

To obtain a scratch card capable of preventing a dishonest act such that the card is used by reading printed data, such as a pattern, lettering or the like, employing a means transmitting visible beam or the like without removing or separating a scratch layer.例文帳に追加

スクラッチ層を削除、剥離することなく、可視光等を透過するような手段を用いて、図柄・文字等の印刷データを読み取って使用するような不正行為を防止することができるスクラッチカードを得る。 - 特許庁