「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

Reflected light of a laser beam radiated from a radiating device 14 from an area of a road surface is photographed by a camera 12, and the luminance of reflected light and a reflection pattern are extracted from an image of the area photographed by the camera 12 by a data extraction circuit 17.例文帳に追加

照射装置１４から照射したレーザ光の路面のエリアからの反射光をカメラ１２で撮影し、カメラ１２で撮影したエリアの画像から反射光輝度および反射パターンをデータ抽出回路１７で抽出する。 - 特許庁

To provide a lighting fixture for vehicle of projector type having a light-emitting element as a light source in which appearance of spectral colors due to chromatic aberration in the vicinity of the upper part of a cut-off line in a low-beam light distribution pattern is effectively suppressed.例文帳に追加

発光素子を光源とするプロジェクタ型の車両用照明灯具において、ロービーム用配光パターンにおけるカットオフラインの上方近傍に、色収差による分光色が現れてしまうのを効果的に抑制する。 - 特許庁

A light source turning part 20 moves the light-emitting module 24 closer to a second focus of the substantial spheroid and allows light from the light-emitting module 24 to be directly incident on the projection lens 12 to form a high beam light distribution pattern.例文帳に追加

光源回転部２０は、発光用モジュール２４を略回転楕円面の第２焦点近傍に移動させ、発光用モジュール２４からの光を投影レンズ１２に直接入射させ、ハイビーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁

A plurality of surface patterns having a boundary wherein a reflection characteristic of light or electron beam at a light shielding film surface varies are disposed as dedicated patterns for measuring mask position accuracy on the light shielding film in the device pattern forming region of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクのデバイスパターン形成領域の遮光膜に、遮光膜表面での光線又は電子線の反射特性が変化する境界を持つ表面パターンをマスク位置精度測定専用パターンとして複数配置しておく。 - 特許庁

To provide an optically controlled phase array antenna which easily creates light intensity distribution of an arbitrary form on the front-side focusing plane of a Fourier transform lens at a high speed, and easily generates an array antenna radiation beam of a desired pattern.例文帳に追加

フーリエ変換レンズの前側焦点面上に任意の形状の光強度分布を容易にかつ高速に生成し所望のパターンのアレーアンテナ放射ビームを容易に生成する光制御型フェーズドアレーアンテナを提供する。 - 特許庁

In ultraviolet light reflected on the micro-mirror device, ultraviolet light contributed to pattern exposure straightly moves down, passes through the 1/4 wavelength plate again to become a P wave, is transmitted through the polarization beam splitter approximately in 100%, and moves down.例文帳に追加

マイクロミラーデバイスで反射する紫外光の内、パターン露光に寄与する紫外光は真っ直ぐに下方に進み、再度、１／４波長板を通過することでＰ波となり、偏光ビームスプリッタを１００％近く透過し下方に進む。 - 特許庁

The aperture member 20 shapes the formed far field pattern in the main scanning direction and the subscanning direction and the shaped beam is led to a recording film F via a 2nd lens 22 and a 3rd lens 24, where the image is recorded.例文帳に追加

結像されたファーフィールドパターンは、アパーチャ部材２０によって主走査方向および副走査方向にビーム整形された後、第２レンズ２２および第３レンズ２４を介して記録フイルムＦに導かれることで、画像の記録が行われる。 - 特許庁

A predetermined area of an optical disk exclusively for reproduction wherein contents data and the like are recorded by a rugged pit pattern is irradiated with a light beam having high output to melt a reflection film, a pit is imitatively formed and discrimination data or the like are added.例文帳に追加

凹凸のピットパターンによってコンテンツデータ等が記録されている再生専用の光ディスクの所定領域に高出力の光ビームを照射して反射膜を溶かし、擬似的にピットを形成し、識別データ等を追記する。 - 特許庁

The light source units 60 are provided in a lamp body 14 that is a light body through a support member 15, and light from the respective light source units 20, 40, 60 is superposed to form the low beam light distribution pattern in front of a vehicle.例文帳に追加

これらの光源ユニット６０は、支持部材１５を介して灯体であるランプボティ１４に設けられており、各光源ユニット２０，４０，６０からの光が重ね合わせられて車両前方にロービーム配光パターンが形成される。 - 特許庁

This reduces the size of an image of the light source 18a formed by reflected light from the region 20a1 close to the lower-end edge, thus a sufficient amount of light is secured for a part close to the cutoff line in the low-beam light distribution pattern P.例文帳に追加

これにより下端縁近傍領域２０ａ１からの反射光により形成される光源１８ａの像のサイズを小さなものとし、ロービーム配光パターンＰにおけるカットオフライン近傍部分の光量を十分に確保する。 - 特許庁

A path division section 104 divides input image data into image data for each of a plurality of times of scanning by using a mask pattern which is formed from the gap of scanning position of a light beam from each light emitting element of a recording means.例文帳に追加

パス分割処理部104は、記録手段の各発光素子の光ビームの走査位置のずれ量に基づき作成されたマスクパターンを使用して、入力された画像データを複数回走査の各走査用の画像データに分割する。 - 特許庁

When a light source 101 irradiates a light beam toward a cone mirror 102, light is reflected in a radial pattern in the direction of an angle of 90° by a reflecting part of a conical surface 104, including at least a top part 103 of the cone mirror 102.例文帳に追加

光源１０１からコーンミラー１０２に向けて光ビームが照射されると、前記光はコーンミラー１０２の少なくとも頂部１０３を含む円錐面１０４の反射部によって９０度方向に放射状に反射される。 - 特許庁

A thin metal layer 35 is provided on the pattern of the template 30 to be transferred, and the template 30 is brought into contact with the printable medium 34 and irradiated with a beam 37 of a laser 36 through the printable medium and a holder 31 holding it.例文帳に追加

テンプレート３０の転写すべきパターンの上に薄い金属層３５が設けてあり、このテンプレート３０を印写可能媒体３４に接触させ、それとそれを保持するホルダ３１を通してレーザ３６のビーム３７で照射する。 - 特許庁

A reflecting surface segment 860 for improving the visibility of a corner on the road shoulder side and the visibility from a long distance is formed on an upper part of a fan-shaped part 85, out of a reflecting surface 4, forming a luminous intensity distribution pattern of a low beam for the road shoulder side.例文帳に追加

反射面４のうち、ロービームの路肩側の配光パターンを形成する扇形部分８５の上方部分に、路肩側コーナー視認性及び遠方視認性向上用反射面セグメント８６０が設けられている。 - 特許庁

An active energy-beam setting resin composition [1] is poured in a mold with unevenness, and exposed to be hardened and the hardened body is released from the model to obtain the housing for the plane image display device which has an uneven pattern reverse to that of the mold.例文帳に追加

凹凸を有する鋳型に、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物［Ｉ］を流し込み、露光して硬化させた後、該硬化物を鋳型から剥離して該鋳型と逆の凹凸パターンを成形してなる平面画像表示装置用筐体。 - 特許庁

To provide an electron beam lithographic method and machine, and a mark-recording method, which can form a fine recording mark or a pattern of a semiconductor element more accurately, under the control of a light exposure quantity.例文帳に追加

露光量制御に基づいて、微小な記録マークあるいは半導体素子のパターンをより正確に形成することができるようにした電子線描画方法およびその装置並びにマーク記録方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for speeding up inspection with high resolution for a technique in inspecting defects, foreign materials, residues, and steps, etc., using electron beam for a pattern on a wafer in a manufacturing process for a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

In order to write patterns having the arrangement period varied, periodic pattern data are used to form patterns having the period varied by superposing a minute variation signal on the deflector of an electron beam exposure device.例文帳に追加

また、このような配列周期が変動するパターンを描画するために、電子ビーム露光装置の偏向器に微小な変動信号を重畳することで、周期的パターンデータを用いて変動する周期のパターンを形成できる。 - 特許庁

An image forming system includes an image receiving structure containing a tunable-resistivity material; and an energy source to emit an energy beam to the image receiving structure to program the tunable-resistivity material in a pattern.例文帳に追加

可調整抵抗材料を含む画像受容構造と、可調整抵抗材料をパターン状にプログラムすべく画像受容構造にエネルギービームを放射するエネルギー源と、を含む画像形成システムにより上記課題を解決する。 - 特許庁

To improve the accuracy of measuring the displacement of solder by previously calculating correction data composed of a difference between the height of resist and the height of a conductive pattern and correction data composed of the dyeing amount of solder to a laser beam.例文帳に追加

レジストの高さと導電性パターンの高さとの高低差からなる補正データやレーザビームに対する半田の染み込み量からなる補正データを予め算出することにより、半田の変位量の測定精度の向上を図る。 - 特許庁

Therefore, the intensity center of the far field pattern in the horizontal direction does not vary with the optical output variation and the laser beam which is stable in shape can be obtained by absorption of light distributed outside the groove 15 by the semiconductor.例文帳に追加

そのため、溝部１５より外側に分布する光の半導体による吸収により、光出力変化に伴う水平方向の遠視野像の強度中心が変動せず、且つ形状が安定したレーザ光を得ることができる。 - 特許庁

To provide an optical disk recording/reproducing device which sets a standard waveform of a laser beam for each recording pattern, and calculates a correction value which corrects a gap between the emitted light waveform detected by a front monitor and the standard waveform.例文帳に追加

各記録パターンに対してレーザ光の基準波形を設け、フロントモニタの検出による発光波形と前記基準波形とのズレを補正する補正値の算出を行うことができる光ディスク記録再生装置を提供する。 - 特許庁

Consequently, constituent substances, such as atoms and molecules, of a metal film and a piezoelectric substance layer of the functional layer FL on the substrate 1 are scattered and removed, due to collision of the ion beam to etch the functional layer FL in the desired pattern shape.例文帳に追加

これにより、基板１上の機能層ＦＬの金属膜と圧電体層の原子や分子等の構成物質がイオンビームの衝突により飛散して除去され、機能層ＦＬが所望のパターン形状にエッチングされる。 - 特許庁

To provide a flat panel display and a method of fabricating the same that can form a transfer layer pattern at a desired position on a substrate by irradiating the accurate position on the substrate with a laser beam even if the substrate deforms.例文帳に追加

基板変形が発生した場合にも基板上の正確な位置にレーザービームを照射して基板上の希望する位置に転写層パターンを形成することができる平板表示装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A reference lighting time specifying section 104 specifies the reference lighting time of each block from the dark potential distribution and a medium sensitivity distribution of a photoreceptor drum, a light amount distribution relative to the main scanning direction of a laser beam and the output dither pattern.例文帳に追加

基準点灯時間特定部１０４は、感光体ドラムの暗電位分布、及び中間感度分布、レーザービームの主走査方向に対する光量分布、並びに出力ディザパターンから各ブロックの基準点灯時間を特定する。 - 特許庁

The frequency adjusting apparatus is provided with a shutter 14 in which ion beams B are applied to a wafer 10 through a mask hole 15a of a pattern mask 15 and ion beam irradiation time of a target element is adjusted by selectively opening/closing the predetermined mask hole.例文帳に追加

パターンマスク１５のマスク穴１５ａを介してウエハ１０に対してイオンビームＢを照射すると共に、所定のマスク穴を選択的に開閉し、ねらいの素子のイオンビーム照射時間を調整するシャッタ１４を設ける。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative type pattern free of swelling and excellent in resolution while having a chemical structure transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser beam and having high dry etching resistance.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線領域において透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

A sensitive material on the mask blank is multistage-patterned by prescribed frequency on the basis of the data under prescribed conditions (focal depth and beam diameter) and the mask blank is developed and rinsed to obtain a three-dimensional sensitive material pattern.例文帳に追加

そのデータに基づいて、マスクブランクス上の感光性材料を所定の条件（焦点深度、ビーム径）で所定の回数だけ多数回（多段階）描画し、そのマスクブランクスを現像・リンスして三次元の感光性材料パターンを得る。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method capable of improving the sensitivity without deteriorating the resolution in lithography of a resist film with an ArF excimer laser, an F_2 excimer laser, an EUV, an electron beam, and the like.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ_２エキシマレーザー、ＥＵＶ又は電子線等によるレジスト膜のリソグラフィーにおいて、解像性を損なわずに感度を向上させることができるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供できる。 - 特許庁

A figure pattern consisting of a plurality of (e.g. four) concentric circles is formed on a reference sample WP and an image (scanned image) is formed based on an electron signal obtained by scanning the reference sample WP with an electron beam.例文帳に追加

基準試料ＷＰの表面に、複数（例えば４つ）の同心円からなる図形パターンを形成し、この基準試料ＷＰを電子線でスキャンすることによって得られる電子信号に基づいて画像（スキャン画像）を形成する。 - 特許庁

Further, the communication device 100, when establishing the link, receives a preparatory packet whose transmission timing is already known, using a reception beam pattern used last to efficiently establish the directional link and to reduce the overhead.例文帳に追加

また、通信装置１００は、リンク確立時において、送信タイミングが既知である準備パケットを、前回使用した受信ビーム・パターンを使って受信することによって、効率的に指向性リンクを確立し、オーバーヘッドを低減する。 - 特許庁

Then, while changing the intensity of the electric field actually, the sample where a pattern which is a length measuring object is formed is irradiated with an electron beam, and the quantity of the electrons emitted from the sample is detected by the electron detector (step S4).例文帳に追加

そして、実際に、電界の強度を変化させながら、測長の対象であるパターンが形成された試料に電子線を照射し、電子検出器により試料から放出された電子の量を検出する（ステップＳ４）。 - 特許庁

To provide a control method of an ESPAR (Electronically Steerable Passive Array Radiator) antenna that can calculate an optimum solution of a reactance value of each variable reactance element in a short calculation time when the major beam of an antenna system is directed to a desired wave and the null pattern is directed to an interference wave.例文帳に追加

エスパアンテナの制御方法において所望波に対して主ビームを向けかつ干渉波に対してヌルを向けるときにより短い計算時間で各可変リアクタンス素子のリアクタンス値の最適解を計算する。 - 特許庁

This pattern is made to emerge as a patterned beam pb of the charged particles, that emerge from a surface of a material body via at least one crossover c and is focused into an image S having a given magnitude and distortions.例文帳に追加

このパターンは、少なくとも１つのクロス・オーバ（ｃ）を介して物体平面から出現する前記荷電粒子のパターン形成したビーム（ｐｂ）として表され、それは所与の大きさおよび歪曲を有する像（Ｓ）に結像される。 - 特許庁

To provide a safe lamp for a vehicle having excellent visibility in the far distance by arranging a high-luminance light source near a cut-off part of the lamp for a vehicle using a LED light source which forms a light distribution pattern for a low beam.例文帳に追加

すれ違いビーム用の配光パターンを形成するＬＥＤ光源を用いた車両用灯具のカットオフ近傍に輝度が高い光源を配置し、遠方視認性の高い安全な車両用灯具を提供すること。 - 特許庁

Since the divergent light from the light source 5 is diffused by the diffusion plate 21 and the diffusion plate 21 is rotated in the prescribed cycle by the motor 23, the brightness difference of the speckle pattern of a laser beam received by the photoreceptor 9 is reduced.例文帳に追加

これにより、光源５からの発散光が光拡散板２１にて拡散され、且つ、モータ２３により所定の周期で移動するため、受光器９にて受光するレーザ光のスペックルパターンの明暗の差が小さくなる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a fine processing mold capable of manufacturing the fine processing mold in the atmosphere using a weak laser beam without requiring a large-sized apparatus or a large output laser, and a manufacturing method for a molded object having a fine pattern.例文帳に追加

大掛かりな装置や大出力のレーザを必要とせず、微弱なレーザ光を用いて大気中で作製可能な微細加工型の製造方法及び微細パターンを有する成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for estimating the shape of resist pattern, by which the quantity of accumulated energy can be easily and accurately obtained in a highly accelerated electron beam exposure area, and its calculation time is not made longer and a memory of a calculator is not made larger.例文帳に追加

50keV以上の高加速電子線露光領域においてもエネルギー蓄積量を正確かつ簡単に求めることができ、計算時間や計算機メモリが大きくならないレジストパターン形状の推定方法を提供する。 - 特許庁

In the apparatus the head part of the sugar cane 1 is irradiated with a laser beam from a laser source 3, the rear reflection is detected by an optical sensor 7 and the stem part and the head part are discriminated based on a light receiving pattern obtained by a signal processing section 9.例文帳に追加

同装置では、サトウキビ１にレーザ光源３からのレーザ光を照射し、後方反射光を光センサ７にて検出して、信号処理部９にて得られた受光パターンに基づいて茎部と梢頭部とを識別する。 - 特許庁

Blanking by a blanking control unit 31 is eliminated by making the circumferential direction movement velocity Vsub of a substrate and a beam deflection velocity Vbeam higher in a segment R2 in which a drawing pattern is sparse, and making Vsub and Vbeam lower in segments R1 and R3 which are dense.例文帳に追加

描画パターンが疎である区間Ｒ２は基板周方向の移動速度Ｖsub及びビーム偏向速度Ｖbeamを速くし、密である区間Ｒ１，Ｒ３Ｖsub及びＶbeamを遅くすることで、ブランキング制御部３１によるブランキングをなくす。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser array capable of arbitrarily adjusting to set a directional pattern of focused light, sheet light or the like as a laser beam while having a simple structure rquiring no complex control, a mechanism or the like.例文帳に追加

何ら複雑な制御や機構等を必要としない簡素な構造でありながら、集光光やシート光等、レーザ光としての指向特性を任意に調整、設定することのできる半導体レーザアレイを提供すること。 - 特許庁

Correction data D1 composed of a difference between the height of the resist 5 and the height of the conductive pattern 6 and correction data D2 consisting of amount of impregnation h of solder with respect to the laser beam are previously stored in a correction data storing means 3.例文帳に追加

レジスト５の高さと導電性パターン６の高さとの高低差からなる補正データＤ１やレーザビームに対する半田ｈの染み込み量からなる補正データＤ２を、予め補正データ記憶手段３に記憶させておく。 - 特許庁

This lithographic apparatus has a plurality of columns 25 comprising an illumination system, an array of individually controllable elements for imparting a pattern to the cross section of each beam, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beams onto the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、照明システムと、各ビームの断面にパターンを付与する個々に制御可能な素子のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、基板にパターン化されたビームを投影する投影システムからなる複数のカラム２５を備える。 - 特許庁

To provide a highly accurate astigmatism correction adjusting method capable of obtaining stable image quality without depending on a pattern or a sample used for astigmatism adjustment and without relying on skill of a worker, in a charged particle beam device.例文帳に追加

荷電粒子線装置において、非点収差調整に用いるパターンまたは試料に依存せず、作業者のスキルに寄らず安定した像質を得ることができる高精度の非点収差補正調整方法を提供する。 - 特許庁

To provide a shadow mask that can display an image of a specific pattern on a cathode ray tube for a color display even when no electron beam is emitted from an electron gun to a fluorescent screen, and to provide a cathode ray tube for the color display.例文帳に追加

電子銃から蛍光面に電子ビームが照射されない時でも、カラーディスプレー用陰極線管上に特定パターンの画像が表示できるシャドウマスク及びカラーディスプレー用陰極線管を提供することを目的とする。 - 特許庁