「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

To simply and accurately measure the information required for exposure such as a position of a projection image of a reticle pattern or the uniformity of illuminance by using a prescribed sensor, when using an exposure beam of a short wavelength almost like a vacuum ultraviolet region.例文帳に追加

ほぼ真空紫外域のような短波長の露光ビームを使用する場合にも、簡便に、所定のセンサを用いてレチクルパターンの投影像の位置や照度均一性等の露光に必要な情報を正確に計測する。 - 特許庁

To obtain a prepreg capable of decreasing formation of voids and increasing reliability, being excellently holed by a laser beam in producing a multilayer printed wiring board having a circuit pattern of high density/high fineness.例文帳に追加

高密度・高ファインの回路パターンを有する多層プリント配線板を製造するにあたって、ボイドの発生を低減し信頼性を高く得ることができると共に、レーザによる穴あけを良好に行うことのできるプリプレグを提供する。 - 特許庁

In order to dispose a plurality of fine bubbles 16B in the convex dot pattern 16A, laser beam irradiation time is adjusted to 6 to 15 μs when the oscillation wavelength of a laser oscillator 44 is in a 9 μm band.例文帳に追加

凸状のドットパターン１６Ａで内部に複数の微細な気泡１６Ｂを設けるために、レーザービームの照射時間を、レーザー発振器４４の発振波長が９μｍ帯の場合は６μ秒から１５μ秒の範囲とした。 - 特許庁

To improve throughput by changing an exposure method at the time of plotting a device pattern and at the time of exposing the periphery of a molded chip area, so called, at the time of peripheral exposure by using a variable molding type EB(electron beam) direct plotting device.例文帳に追加

可変成形型のＥＢ直描装置を用いて、デバイスパターンの描画時と成形チップ領域の外周を露光する、いわゆる周辺露光時の露光方法を変えることにより、スループットを向上させることを課題とする。 - 特許庁

A predetermined area of a read-only optical disk, on which content data are recorded by an irregular pit pattern is irradiated with a high-power optical beam and a reflection film is melted, and thus pits are formed in pseudo manner, thereby discrimination data are additionally recorded.例文帳に追加

凹凸のピットパターンによってコンテンツデータ等が記録されている再生専用の光ディスクの所定領域に高出力の光ビームを照射して反射膜を溶かし、擬似的にピットを形成し、識別データ等を追記する。 - 特許庁

The method for checking the pattern comprises calculating the feature amount of a defect which includes the signal amount of a charged particle beam image of the defect, simultaneously or concurrently upon checking, and immediately sorting the defects based on the electrical properties of the defects.例文帳に追加

検査と同時にあるいは並行して欠陥部の荷電粒子線画像の信号量を含む欠陥の特徴量を算出し、これによって欠陥の電気的性質に基づく分類を即座に行えるようにする。 - 特許庁

The reflection light from the object surface dispersively illuminated by the diffraction pattern is projected together with the dispersed light to be generated by way of the objective lens 5, the beam splitter 4, a cylindrical lens 9, and a focusing lens 7 to the light reception part 8.例文帳に追加

この回析パターンによって分散照明された物体表面からの反射光を、発生するであろう散乱光と共に対物レンズ５、ビームスプリッタ４、シリンドリカルレンズ９、結像レンズ７を経て受光部８に投影する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition suitable as a resist having sensitivity with respect to far ultraviolet rays, represented by active radiation (for example, ArF excimer laser, EUV, electron beam, and so forth), a substrate with resist film, and a pattern forming method.例文帳に追加

活性放射線（例えば、ＡｒＦエキシマレーザー、ＥＵＶ、電子線等）に代表される遠紫外線に感応するレジストとして好適な感放射線性樹脂組成物及びレジスト被膜付き基板並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A symbol, letters, and a pattern are made to appear by removing a phosphor or a diffusion film applied to the inner surface of the lamp glass tube, by irradiating a laser beam through the glass tube of the lamp.例文帳に追加

ランプガラス管内面に塗布してある蛍光体あるいは拡散膜に、レーザ光をランプのガラス管を透過してから照射することにより、蛍光体あるいは拡散膜を剥離させ、文字や記号および図柄を表示させる。 - 特許庁

An upper reflector 1 and a lower reflector 3 are simultaneously or independently rotated, whereby a light distribution pattern LP for low beam and diffusive light distribution patterns WP, WP' are changed in interlocking with each other or independently.例文帳に追加

上側リフレクタ１と下側リフレクタ３とをそれぞれ同時に若しくは別個に回転させることにより、ロービーム用の配光パターンＬＰと拡散配光パターンＷＰ、ＷＰ′とを連動して若しくは別個に変化させることができる。 - 特許庁

In order to expose a desired pattern on a substrate using a charged particle beam, a blanking aperture 110 for shielding the charged particle beam, BA stages 401 and 402 for moving the blanking aperture 110 in a plane substantially perpendicular to the optical axis, and a means for varying the opening area of the blanking aperture 110 are provided.例文帳に追加

荷電粒子線を用いて被露光基板上に所望のパターンを露光するために、前記荷電粒子線を遮蔽するためのブランキングアパーチャ１１０と、ブランキングアパーチャ１１０を光軸に対して略垂直な平面内で移動するＢＡステージ４０１，４０２と、ブランキングアパーチャ１１０の開口面積を変える開口可変手段と、を有する。 - 特許庁

A lithographic apparatus is provided which has an array of individually controllable elements to modulate a cross-section of a radiation beam, a substrate table to support a substrate, a projection system to project the modulated radiation beam onto a target portion of the substrate to apply a pattern, and a position encoder having a position sensor and a scale to determine a position of the substrate table.例文帳に追加

放射線ビームの断面を変調する個別制御可能な要素のアレイと、基板を支持する基板テーブルと、変調された放射線ビームを基板のターゲット部分に投影してパターンを適用する投影システムと、基板テーブルの位置を決定する位置センサおよびスケールを備えた位置エンコーダとを有するリソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁

In the reciprocity failure evaluating method for the photoreceptor, respective potentials of a photoreceptor to exposure energy after multi-beam simultaneous exposure of an exposure pattern and sequential exposure between multi-beam scanning exposure processes are measured and compared with each other and it is evaluated whether the photoreceptor as a body to be inspected has a reciprocity failure according to the comparison result.例文帳に追加

本発明の感光体の相反則不軌評価方法によれば、露光パターンにマルチビームの同時露光と、マルチビーム走査露光間の順次露光とにおける露光後の感光体の露光エネルギーに対する各電位を測定し、測定した各電位を比較して、比較した結果に応じて被検査体の感光体が相反則不軌を生じるか否かを評価する。 - 特許庁

A cleaning device includes a carbon dioxide gas laser 12 that irradiates a pyrolytic contaminant depositing on a pattern face of a mask substrate 21 to which a pellicle 24 is attached, with a laser beam at a wavelength of 8 to 11 μm through the pellicle 24, so as to heat the mask substrate 21 by the laser beam projected and to remove the contaminant by pyrolysis.例文帳に追加

本発明の一態様に係る洗浄装置は、ペリクル２４が取り付けられたマスク基板２１のパターン面に付着した熱分解性の汚染物質に対して、ペリクル２４を介して波長８〜１１μｍのレーザ光を照射する炭酸ガスレーザ１２を備え、照射されたレーザ光によりマスク基板２１を加熱し、汚染物質を熱分解して除去する。 - 特許庁

The method for correcting pattern defects includes the steps for: feeding raw material gas to a correcting portion of a correcting object mask in a reduced-pressure atmosphere, applying an energy beam thereto, and depositing a material including silicon by energy beam-induced chemical vapor deposition; and performing either of an oxidation treatment, a nitriding treatment, and an oxynitriding treatment for at least a part of the deposited material.例文帳に追加

減圧雰囲気中で被修正マスクの修正部位に原料ガスを供給するとともにエネルギビームを照射してエネルギビーム誘起化学蒸着によりシリコンを含有する材料を堆積させる工程と、前記堆積した材料の少なくとも一部に対して酸化処理、窒化処理、或いは、酸窒化処理のいずれかを行う工程とを設ける。 - 特許庁

A control section 25 changes an astigmatism correction current value applied to an astigmatism correction lens 13, contrast is calculated from the interference pattern of the electron beam at an electron beam hologram image obtained by an image acquisition section 25, an interrelationship between the astigmatism correction current value and the contrast of the interference patterns is calculated, and the astigmatism correction current value is determined so as to maximize the contrast.例文帳に追加

制御部２５は、非点補正レンズ１３に印加する非点補正電流値を変化させ、画像取得部２５で取得された電子線ホログラム像における電子線の干渉縞からコントラストを算出し、非点補正電流値と干渉縞のコントラストとの相関関係を導出し、コントラストが最大となる非点補正電流値を決定する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing device for drawing a predetermined pattern by irradiating a mask with a charged particle beam for drawing an image by setting a grounding body 10 comprising a grounding pin 10c vertically installed in a frame-like frame 10a on a mask W in which a grounding body corresponding to the type of the mask can be set and deterioration in throughput can be prevented.例文帳に追加

マスクに荷電粒子ビームを照射して所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置であって、額縁状のフレーム１０ａにアースピン１０ｃを垂設して成るアース体１０をマスクＷにセットして描画を行うものにおいて、マスクにその種類に応じたアース体をセットでき、且つ、スループットの低下も防止できるようにする。 - 特許庁

The method further includes a step of making a desired phase change for the part of the radiation beam when applying the pattern feature to the substrate and illuminating the phase modulation element using the part of the radiation beam when the phase modulation element is configured into a desired configuration by making the desired phase change.例文帳に追加

この方法には、さらに、基板にパターンフィーチャを加える際に放射ビームの上記部分に対して所望の位相変化を実施する工程であって、所望の位相変化の実施が、位相変調エレメントが所望の構成で構成されると、放射ビームの上記部分を使用して位相変調エレメントを照明する工程を含む工程が含まれている。 - 特許庁

To provide a vehicular headlight which has favorable visibility for a driver while there is no glare for an oncoming vehicle driver, is thin in thickness and small in size, and has superior design performance in which a low beam light distribution pattern is formed of a low beam light source unit constituted of a plurality of projector type optical units.例文帳に追加

複数の投影型光学ユニットで構成されたすれ違いビーム用光源ユニットによりすれ違いビーム用配光パターンが形成される車両用前照灯において、運転者にとって視認性が良好で対向車にとって眩惑がなく、且つ薄型小型で意匠性に優れた車両用前照灯を提供することにある。 - 特許庁

A lithography projection apparatus is provided with a substrate holder for supporting at least one substrate, a patternizing means for patterning a projection beam according to a desired pattern, and at least one vacuum chamber including a projection means for projecting the above patterned projection beam at the target portion of the above substrate.例文帳に追加

本発明は、さらに、少なくとも１つの基板を保持するための基板ホルダと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するためのパターン化手段と、前記パターン化された投影ビームを前記基板の目標部分に投影するための投影手段とを含む少なくとも１つの真空チャンバを備えるリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁

When an operator prepares a calculation formula 35 capable of calculating the coordinate data necessary for marking the marks in a non-grid type matrix pattern by scanning laser beam, and inputs and sets it on a marking information setting screen G, the coordinate data of the desired pattern can be generated based on the result of calculation of the calculation formula 35.例文帳に追加

レーザ光を走査して非マス目状行列パターンにマークをマーキングする場合に必要となる座標データを算出可能とする計算式３５を操作者が作成してマーキング情報設定画面Ｇに入力設定すると、その計算式３５の算出結果に基づき所望するパターンの座標データを生成することができる。 - 特許庁

The auxiliary light projecting device has a diffraction board for forming the pattern for focus detection, a laser beam source for illuminating the diffraction board, and a lens information obtaining means for obtaining the focal distance information of the photographic lens 1 attached to a camera, and the pattern for focus detection projected to the subject is switched based on the focal distance information.例文帳に追加

焦点検出用パターンを形成する回折板と、前記回折板を照明するレーザ光源と、カメラに装着された撮影レンズの焦点距離情報を入手するレンズ情報入手手段とを有し、前記焦点距離情報に基づき、被写体に投影する前記焦点検出用パターンを切替可能である補助光投影装置。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition and a pattern formation method which simultaneously satisfy sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance in lithography adopting, as an exposure light source, especially an electron beam, x-rays or EUV light.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device dispensing with the strict setting of a judge threshold value when an inspection image signal detected from an object to be inspected having a circuit pattern formed thereon by charged corpuscular beam or the like is compared with a reference image signal to judge a flaw on the basis of the judge threshold value to inspect the same, and an inspection method using the same.例文帳に追加

回路パターンなどが形成された被検査対象物から荷電粒子線等によって検出される検査画像信号と参照画像信号とを比較して判定しきい値により欠陥を判定して検査する際、厳密な判定しきい値を設定することを不要にしたパターン検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

The manufacturing device 1 for the electronic circuit board includes a laser 3 configured to form a predetermined hydrophilic pattern on a water-repellent surface of a substrate B having the water-repellent surface by irradiating the substrate B with light or an electron beam, and an ink head 2 having a print head 21 for discharging ink containing a conductive component onto the pattern.例文帳に追加

電子回路基板の製造装置１は、撥水性の表面を有する基板Ｂに光または電子線を照射することにより前記基板Ｂの表面に親水性を有する所定パターンを形成するレーザー３と、前記パターン上に導電性成分を含むインクを吐出するプリントヘッド２１を有するインクヘッド２と、を備えている。 - 特許庁

A method for forming a resist pattern includes steps of: forming a resist layer containing a polymer of α-chloromethacrylate and α-methylstyrene on a substrate; performing rendering or exposure of a predetermined pattern by irradiating the resist layer with an energy beam; and developing the rendered or exposed resist layer with a developer containing n-amyl acetate at ≤5°C.例文帳に追加

基板上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターンの描画又は露光を行う工程と、酢酸−ｎ−アミルを含む５℃以下の現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する工程と、を含む。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can simultaneously satisfy the requirements for high sensitivity, high resolution, desirable pattern configuration, desirable line edge roughness and desirable iso/dense bias in especially lithography using an electron beam, X-rays or EUV light as an exposure radiation source, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The control part 302 controls the light distribution pattern in a switching system in response to position information on a front vehicle when the information is the content of indicating the presence of the front vehicle, and takes preference of switching to the light distribution pattern for the low beam regardless of the existence of the front vehicle when the information is the content of indicating a steeper curve road state than a reference curve road.例文帳に追加

制御部３０２は、情報が前方車の存在を示す内容である場合、前方車の位置情報にしたがって配光パターンを切替制御する一方、情報が基準曲路より急な曲路状態を示す内容である場合、前方車の有無に拘わらずロービーム用配光パターンへの切り替えを優先する。 - 特許庁

To provide a resist material such as a chemically amplified resist material for providing an excellent pattern profile even at a substrate interface, in addition to a higher resolution in photolithography for micro-fabrication, and particularly in photolithography adopting, as an exposure source, KrF laser, ArF laser, F_2 laser, ultra-short ultraviolet light, electron beam, X-rays, or the like; and a pattern forming method utilizing the resist material.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ_２レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性と共に、基板界面においても良好なパターン形状を与える化学増幅レジスト材料等のレジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A thin film pattern 10 is formed by preforming a water-soluble polymer film 4 on the surface of a film 2 to be processed, provided on a substrate 1, then performing ablation processing by irradiating the surface of the polymer film 4 with laser beam 8 through a pattern mask 7, and removing resin decomposed matters 6 and remaining water-soluble polymer film 5 by washing.例文帳に追加

基材１上に設けられた被加工膜２の表面に、予め水溶性の高分子膜４を形成し、その高分子膜形成面にパターンマスク７を介してレーザー光８を照射してアブレーション加工を行い、その後水洗を行うことにより、樹脂分解物６と残った水溶性高分子膜５を除去し、薄膜パターン１０を形成する。 - 特許庁

To provide a spot resist film peeling machine which can continuously perform etching added to a quartz substrate 1 and peel a resist film pattern 3' of only a pattern for phase difference measurement without repeating the formation of a resist film, electron beam drawing, and development when it becomes evident that the depth of a shifter is insufficient when a Revenson type phase shift mask 60 is manufactured.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスク６０の製造において、シフターの深さが不足していることが判明した際に、レジスト膜の形成、電子線描画、現像を繰り返し行うことなく、石英基板１に追加したエッチングを継続して行うことができる、位相差測定用のパターンのみのレジスト膜パターン３’を剥膜するスポットレジスト剥膜機を提供すること。 - 特許庁

The complementary mask is used for exposure to a beam for exposure in specified pattern and given round shapes 4 at inner circumferential corners of a mask pattern 2A of a main mask 4A, so stress in the main mask which is prevented from converging on the inner circumferential corners to prevent the main mask from being broken or deformed owing to the convergence of the stress.例文帳に追加

露光用ビームによって所定パターンに露光するのに用いる相補形マスクであって、主マスク４Ａのマスクパターン２Ａの内周角部に丸み形状４を付けているために、この内周角部に生じる主マスク内の応力の集中を防ぐことができ、応力の集中による主マスクの破損や変形を防止することができる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using an electron beam, X-ray or EUV light and simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness, high contrast, prevention of conversion to a negative resist composition, and surface roughness, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、高コントラスト、ネガ化防止、表面ラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To form a variable light distribution pattern without causing the driver of a vehicle to feel something wrong with it with a vehicle headlamp of simple structure which can enhance the visibility of the front part of the driver without giving glare to the driver in a vehicle in the front or oncoming vehicle, in a vehicle headlamp constituted so as to form a variable light distribution pattern for a high beam.例文帳に追加

ハイビーム用の可変配光パターンを形成するように構成された車両用照明灯具において、簡易な灯具構成で、前走車や対向車のドライバにグレアを与えてしまうことなく自車ドライバの前方視認性を高めることができる可変配光パターンを、自車ドライバに違和感を与えてしまうことなく形成可能とする。 - 特許庁

Since a glass fiber fabric is exposed on the bottom faces of grooves by forming the grooves by baking off a resin layer formed on a circuit pattern by projecting a laser beam upon the resin layer before the circuit pattern is ink-jet plotted on a substrate, a circuit composed of a metallic layer formed in the succeeding electroless plating step can be bonded firmly to the substrate.例文帳に追加

基板上に回路パターンをインクジエット描画する工程の前に、あらかじめレーザー照射により回路パターン上の樹脂層を焼き取って溝を作りガラス繊維織物を溝の底面に露出させておくことにより、後続の無電解メッキ工程において形成される金属層の回路は基板に強固に接着される。 - 特許庁

To provide a technique for easily discriminating sticking of residues consisting of an organic component when inspecting whether the residues stick on a pattern by irradiating with an electron beam a substrate on which a photoresist mask consisting of an organic film and having the pattern formed, an antireflective film consisting of an organic component, and a metal compound film are stacked in this order.例文帳に追加

有機膜からなり、パターンの形成されたフォトレジストマスクと、有機成分からなる反射防止膜と、金属化合物膜と、が上側からこの順番で積層された基板に対して、電子線を照射することによって、当該パターン上への有機成分からなる残渣の付着の有無を検査するにあたり、容易に残渣の付着を判別する技術を提供する。 - 特許庁

This method comprises a non-magnetic material filling process (S104) in which a concave part of the irregular pattern is filled by applying a non-magnetic material on the recording layer formed with the prescribed irregular pattern on a substrate, and a flattening process (S106) in which surplus non-magnetic material on the recording layer is removed by ion beam etching and the surface is flattened.例文帳に追加

基板上に所定の凹凸パターンで形成された記録層上に非磁性材を成膜することにより凹凸パターンの凹部を充填する非磁性材充填工程（Ｓ１０４）と、記録層上の余剰の非磁性材をイオンビームエッチングにより除去して表面を平坦化する平坦化工程（Ｓ１０６）と、を含む構成とした。 - 特許庁

To form a variable light distributing pattern that can enhance the front visibility of a driver in an own vehicle without giving a glare to a driver in a front running vehicle or an oncoming vehicle, without giving a sense of discomfort to the driver in the own vehicle, in a simple lamp construction, in a vehicle lighting fixture which is constructed to form a variable light distributing pattern for a high beam.例文帳に追加

ハイビーム用の可変配光パターンを形成するように構成された車両用照明灯具において、簡易な灯具構成で、前走車や対向車のドライバにグレアを与えてしまうことなく自車ドライバの前方視認性を高めることができる可変配光パターンを、自車ドライバに違和感を与えてしまうことなく形成可能とする。 - 特許庁

To prevent foreign matter from sticking to the exposure pattern region of a photomask applicable to the 157 nm photolithography technique, electron beam lithography technique and EUV (extreme-ultraviolet radiation) lithography technique when the photomask is delivered, stored and attached to a stepper after production and to make the top of the exposure pattern region free of a shielding material in exposure.例文帳に追加

１５７ｎｍの光リソグラフィ技術、電子線リソグラフィ技術及びＥＵＶリソグラフィ技術に適用可能なフォトマスクに対し、フォトマスクを製造した後、納品時や保管時、ステッパーへの装着時などに異物が露光パターン領域に付着することを防止し、且つ露光の際には露光パターン領域上に遮蔽物が存在しないようにする。 - 特許庁

To secure required brightness while forming a light distribution pattern for low beam having a clear cutoff line at its top end part, on the basis of the installation number of luminaire units suppressed, for a headlight for a vehicle structured so as to form a given light distribution pattern by light irradiation from the luminaire units with semiconductor light-emitting elements as light sources.例文帳に追加

半導体発光素子を光源とする灯具ユニットからの光照射により、所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、灯具ユニットの設置個数を少なく抑えた上で、上端部に鮮明なカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するとともに所要の明るさを確保する。 - 特許庁

The optical head 100 comprising a plastic substrate 110 which is formed with an insulating resin, a circuit pattern 120 which is formed on the above plastic substrate 140 and equipped with electric parts 140 and an optical module chip 131 which is installed in the circuit pattern 120 in a bare- tipped state and emits and receives a laser beam is provided.例文帳に追加

絶縁性を備える樹脂にて成形される樹脂基台１１０と、上記樹脂基台１４０に成形され、電子部品１４０が実装される回路パターン１２０と、上記回路パターン１２０にベアチップ実装され、レーザー光の発光及び受光を行う光モジュールチップ１３１とを備える光学ヘッド１００を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that satisfies, at a high level, all of high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness in an ultrafine region, particularly in electron beam, X-ray or EUV photolithography, and satisfactorily reduces a problem of outgassing during exposure, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを高次元で同時に満足するとともに、露光時のアウトガスの問題が充分に低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

Thereby, when the movable shade 32 is moved from a shading position to a shading moderation position, the movable reflection part 24A is moved downward to enter light from a light source 22a into the additional reflector 34, and a bright spot-like light distribution pattern is formed by its reflection light, whereby the light distribution pattern for a high beam is made to excel in remote visibility.例文帳に追加

これにより、可動シェード３２が遮光位置から遮光緩和位置へ移動したとき、可動反射部２４Ａを下方へ移動させて、光源２２ａからの光を付加リフレクタ３４に入射させ、その反射光により明るいスポット状の配光パターンが形成されるようにし、ハイビーム用配光パターンを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁

The light diffusing ends are exposed to the display part of this display device according to a prescribed pattern, plural optical fibers are embedded, a laser beam is introduced to these optical fibers, and a light display pattern formed of the plural light diffusing ends is generated in the display part so as to provide the display means for improving the visibility.例文帳に追加

表示装置の表示部分に、所定のパターンに従って光拡散端を露出させるようにして、複数の光ファイバーを埋設し、この光ファイバーにレーザビームを導入することにより、表示部分に複数の光拡散端によって形成される光表示パターンが生じさせることで、視認性を向上させた表示手段を提供できる。 - 特許庁

The ink jet head is manufactured through a process for forming a taper in the nozzle hole using the light path of laser beam to be converged optically and dually through a mask having a hole shape pattern at the ink channel side and a mask having a hole shape pattern at the ink ejection side, which are arranged in order from a light source for drilling a nozzle hole into the nozzle plate by means of a laser.例文帳に追加

レーザーを用いてノズルプレートにノズル穴を穿孔するにあたり、光源側から順に配置された、インクチャネル側の穴形状パターンを有するマスク及びインク吐出側の穴形状パターンを有するマスクを経て、光学的に２元に収光されるレーザー光の光路によりノズル穴にテーパーを形成する工程を経て製造されたインクジェットヘッド。 - 特許庁