「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

To acquire an SEM image of a high resolution while suppressing damage to a sample caused by electron beam irradiation accompanied by SEM imaging, regarding the acquisition of an image of a semiconductor pattern using SEM.例文帳に追加

ＳＥＭを用いた半導体パターンの画像の取得に関して、ＳＥＭの撮像に伴う電子線照射による試料へのダメージを抑えつつ、高分解能なＳＥＭ画像を取得することである。 - 特許庁

When the electron beam is deflected by the output from the original signal generator 101, a fixed Lissajous pattern is obtained on the fluorescent face 113, and the UWB pulse signal is sensed a CCD image analytical processor 120.例文帳に追加

原信号発生器１０１の出力で電子ビームを偏向すると、蛍光面１１３に一定のリサージュパターンが得られ、UWBパルス信号のセンシングをＣＣＤ画像解析プロセッサ１２０で行うことができる。 - 特許庁

As a result, the inspection using the charging control function with low incident energy and in a wide visual field is enabled, and the high-sensitivity inspection of a semiconductor pattern easily damaged by electron beam irradiation can be achieved.例文帳に追加

その結果、低入射エネルギー、且つ広視野での帯電制御機能を用いた検査が可能になり、電子線照射による損傷を受けやすい半導体パターンの高感度検査が実現できる。 - 特許庁

The surface side of the base plate 1 is etched with an ion beam, and the shape of the photoresist 2b is transferred to the surface of the base plate 1 so as to form the pattern where the microlenses 3 are two-dimensionally arrayed.例文帳に追加

Ｓｉ基板１の表面側からイオンビームでエッチングを行い、フォトレジスト２ｂの形状をＳｉ基板１の表面に転写し、マイクロレンズ３が二次元に配列されたパターンを形成する。 - 特許庁

To implement high-precision deflection control by calculating 8-pole deflection data of an electric beam pattern forming with high precision and adjusting a deflection amplifier for all of the 8 poles with high precision.例文帳に追加

電子ビーム描画の８極偏向データの演算を高精度に行うと共に、８極相互の偏向アンプのゲイン調整を高精度に行うことにより高精度の偏向制御を実現する。 - 特許庁

To increase cost-effectiveness when an array antenna is installed by realizing high-speed and large-capacity communication by effectively using a dummy antenna used only to eliminate asymmetry of a beam pattern.例文帳に追加

ビームパタンの非対称性を解消するためのみに用いられていたダミーアンテナを有効利用することにより高速・大容量通信を実現し、アレイアンテナ設置の際の費用対効果を増大させる。 - 特許庁

With this laser marker, a scanning pattern 5 for a resin product is fetched from a memory 13 and the resin product is scanned with a laser beam according thereto when the object for printing is assigned to be the resin product.例文帳に追加

本発明のレーザマーカでは、印字対象物を樹脂製品と指定した場合には、樹脂製品用の走査パターン５がメモリ１３から取り出され、これに従ってレーザ光が走査される。 - 特許庁

A pattern inspection device includes: a light source; a transmittance control element capable of changing light transmittance; a beam splitter; a polarization controller; a phase controller; a wavefront distribution controller; and a detector.例文帳に追加

実施の形態のパターン検査装置は、光源と、光透過率を変更可能な透過率制御素子と、ビームスプリッタと、偏光制御部と、位相制御部と、波面分布制御部と、検出部とを含む。 - 特許庁

An electroluminescence layer is formed by using this apparatus by partially subliming the vapor deposition material by the laser beam, and performing the vapor deposition on the substrate side via a mask with a vapor deposition window arranged in a predetermined pattern.例文帳に追加

この装置を用い、蒸着材料を部分的にレーザで昇華して、所定パターンに蒸着窓を配したマスクを介して基板側に蒸着することにより、発光層を形成する。 - 特許庁

A collimator lens 26 collimates a far field pattern of a laser beam L outputted from a semiconductor laser LD into a parallel luminous flux and the image is formed on an aperture member 20 through a 1st lens 18.例文帳に追加

半導体レーザＬＤから出力されたレーザビームＬのファーフィールドパターンは、コリメータレンズ２６によって平行光束とされた後、第１レンズ１８によってアパーチャ部材２０上に結像される。 - 特許庁

A light distribution pattern switching means E is arranged between the reflectors R1, R2 and S1, S2, which are set up to achieve the maximum output during the low beam irradiation.例文帳に追加

配光パターン切り替え手段ＥをリフレクタＲ１，Ｒ２とリフレクタＳ１，Ｓ２との間に配置し、ロービーム照射時に最高出力が得られるようにリフレクタＲ１，Ｒ２およびリフレクタＳ１，Ｓ２を設定する。 - 特許庁

To provide a negative type electron beam or X-ray resist composition having high sensitivity and high resolving power, capable of giving pattern profile with superior rectangularity and excellent in PCD and PED stability.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもＰＣＤ、ＰＥＤ安定性に優れたネガ型電子線又はＸ線レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

The PWM signal generation circuit 41 generates the PWM signal as a luminous pattern signal of a laser beam based on the pixel data obtained by adding or deleting the pixel piece to/from the one pixel.例文帳に追加

そして、ＰＷＭ信号生成回路４１は、１画素に対して画素片を追加もしくは削除した画素データに基づいて、レーザの発光パターン信号であるＰＷＭ信号を生成する。 - 特許庁

Because the speckle is visually recognized as a glittering spotty pattern and has a characteristic hard to be focused on the retina of a human body, it is more visible than the LED beam LB.例文帳に追加

スペックルは、ぎらついた斑点状の模様として視認されると共に、人間の網膜上に焦点を結ばないという性質を有しているため、ＬＥＤ光ＬＢよりも視認性が高くなる。 - 特許庁

The repair of the lack of the wiring pattern is carried out by introducing gas for repair containing packing materials to the inside of the local vacuum mirror cylinder, and adhering packing materials to the lacking section cooperatively with the convergence ion beam.例文帳に追加

配線パターンの欠落の補修には、局部的真空鏡筒の内部に補填材料を含むリペア用ガスを導入し、集束イオンビームとの協働で、欠落部に補填材料を付着させる。 - 特許庁

A reference image generation part 3 finds an edge border condition and detects the edge position through convolutional operation between an optical point spread function corresponding to the intensity of the laser beam and the image of a measured pattern.例文帳に追加

参照画像生成部３は、レーザービームの強度に相当する光学的点拡がり関数と被測定パターンの画像との畳み込み演算により、エッジ境界条件を求め、エッジ位置を検出する。 - 特許庁

To provide a plural beam adaptable antenna and a communication method using the same, with which the directivity pattern matching each of radio terminal stations can be formed before starting communication.例文帳に追加

本発明は通信を開始する前に各無線端末局に合わせた指向性パターンを形成可能な複数ビーム制御適応アンテナ装置及びそれを用いた通信方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In order to expose a plurality of patterns having various CD values by an electron beam exposure method using a VSB system, a CD design value of one pattern selected from the plurality of patterns is determined.例文帳に追加

様々なＣＤを有する複数のパターンをＶＳＢ方式の電子ビーム露光方法により露光するために、前記複数のパターンから選択される一つのパターンのＣＤ設計値を決定する。 - 特許庁

The alignment mark being used for optical alignment in a charged particle beam aligner is formed of a level-difference pattern divided into a plurality of level-difference patterns.例文帳に追加

荷電粒子線露光装置での光学アライメントに用いられる、段差パターンで形成されるアライメントマークであって、 前記段差パターンは、複数の段差パターンに分割されていることを特徴とするアライメントマークとした。 - 特許庁

A landing correction coil 11 is placed at a rear side of a deflection yoke 8 provided to the cathode ray tube 1, and a correction current depending on the beam landing pattern is supplied to the landing correction coil 11.例文帳に追加

陰極線管１に設けられた偏向ヨーク８の後部側にランディング補正用コイル１１が配置され、ランディング補正用コイル１１にビームランディングパターンに応じた補正電流が供給される。 - 特許庁

When the light distribution pattern for the high beam is formed, among the reflected light from the second reflector, the light that is not directed toward the projector lens 4 is reflected by a third reflector 6, and made incident into the projector lens 4.例文帳に追加

ハイビーム用配光パターン形成時に、第２リフレクタからの反射光のうち、投影レンズ４に向かっていない光を第３リフレクタ６によって反射し、投影レンズ４に入射させる。 - 特許庁

To provide a light irradiation device which gradually can change scanning pattern of a laser beam, while compensating error in accuracy of position detecting element to enable correct position control of an actuator.例文帳に追加

レーザビームのスキャンパターンを徐々に変更することができ、且つ位置検出素子の精度誤差を補正して正確なアクチュエータの位置制御を行うことができる光照射装置を提供すること。 - 特許庁

A surface emitting laser 1 is installed on a photodetector 3 being arranged approximately parallel to a scale 2 and is arranged so that a light beam with a desired shape can be projected toward an optical pattern surface of the scale 2.例文帳に追加

面発光レーザ１は、スケール２と略平行に配置された光検出器３上に設けられ、所望の形状の光ビームをスケール２の光学パターン面に向けて照射可能に配置されている。 - 特許庁

To provide a projector headlight for a vehicle capable of mitigating the light-dark contrast at the boundary line of a light distribution pattern for passing beam and free of generation of a bad effect such as an irregular color, etc.例文帳に追加

プロジェクタ型の車両用前照灯において、すれ違いビーム用配光パターンの明暗境界線の明暗比を緩和させ、しかもこれを色ムラ等の弊害を発生させることなく実現する。 - 特許庁

In the case of making transmission reception with the different wireless terminal stations 18a, 18b, 18c to which the same channel is assigned, the wireless control circuit station 20 controls the beam pattern so that no interference takes place between the channels.例文帳に追加

無線制御局２０は、同一のチャネルが割り当てられた異なる無線端末局１８ａ，１８ｂ，１８ｃと送受信する場合には、チャネル間で相互干渉しないようにビームパターンを制御する。 - 特許庁

The dual beam symmetric height sensor can accurately achieve an automatic focus adjustment of a wafer by essentially eliminating the wafer pattern induced error of the comparison signal that is generated by the system.例文帳に追加

このデュアル・ビーム対称高さセンサは、システムで生成される比較信号のウエハ・パターン誘起誤差を実質的になくすることで、高い精度でウエハの自動焦点調節を実現することができる。 - 特許庁

The lower end portion of the second reflector 12 is positioned near the focus Fo of the projection lens 8 and has a light and darkness boundary forming portion 12b for forming a cut line of a low-beam light distribution pattern.例文帳に追加

第２リフレクタ１２の下端部は、投影レンズ８の焦点Ｆｏ近傍に位置するとともに、すれ違い配光パターンのカットラインを形成する明暗境界形成部１２ｂを備えている。 - 特許庁

To provide a mask and a mask blank and an exposure device and a method by which the presence of a beam is prevented from increasing complementary exposures while increasing the strength of a pattern forming portion.例文帳に追加

パターン形成部の強度を補強しつつ、梁部の存在による相補露光回数の増大を抑制することができるマスクおよびマスクブランクス、並びに露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁

Subfields of a pattern are sequentially illuminated with a projecting charged-particle beam to sequentially image the subfields and to connect the images on a wafer 15, thus transferring a large field thereonto.例文帳に追加

パターンをサブ・フィールド毎に荷電粒子線の照明ビームで順次照明し、該フィールドの像をウエハ上に順次投影結像させてウエハ上で繋ぎ合わせることにより大フィールドを転写する。 - 特許庁

The system 10 is aligned by positioning the radiation source 14 and the detector 16 with reference to the map, so that the detector 16 is disposed at a predetermined location within the beam pattern.例文帳に追加

システム１０は、マップを基準にして、検出器１６がビームパターン内の所定の位置に配置されるように放射線源１４及び検出器１６を相対的に位置決めすることによって位置合せされる。 - 特許庁

When a laser beam is applied to form a graphic pattern on a disk 1, the system controller 14 records the address of the specified sector in a defect management area, and registers the sector as a defective sector.例文帳に追加

レーザ光を照射して、ディスク１上に図形パターンが形成されると、システムコントローラ１４は特定されたセクタのアドレスをディフェクト管理領域に記録して、当該セクタを欠陥セクタとして登録する。 - 特許庁

To provide an electron-beam tube device capable of improving the resolution of an exposure pattern by shortening the range of electron beams while maintaining the size of a maximum deflection region scanned by electron beams.例文帳に追加

電子ビームを走査する最大偏向領域の大きさを維持しつつ、電子ビームの飛程を短縮して露光パターンの分解能を向上することが可能な、電子線鏡筒装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask layout forming method for an electron beam exposure for reducing generated slivers when a fracture process is implemented so as to transfer a layout including a diagonal line pattern on a photomask.例文帳に追加

斜線パターンを含むレイアウトをフォトマスク上に転写するためにフラクチャー過程を行うとき、スライバーの発生を減少できる電子ビーム露光のためのマスクレイアウト形成方法を提供する。 - 特許庁

This wave front conversion optical system to be inserted in a beam of measuring light is constituted so as to have a transmission type diffraction face comprising a transmission face and a prescribed diffraction pattern formed on the face.例文帳に追加

測定光の光束中に挿入される波面変換光学系を、透過面とその面上に形成された所定の回折パターンとからなる透過型の回折面を有するよう構成する。 - 特許庁

On the diffraction element 20, an upper layer separation prevention pattern PPa is formed so that a base layer 20C and an enclosure layer 20D may fit to an outside optics area EO through which an optical beam does not pass.例文帳に追加

本発明は、回折素子２０は、光ビームが通過しない光学外領域ＥＯに、ベース層２０Ｃ及びカバー層２０Ｄが嵌合するように上層剥離防止パターンＰＰａを設けるようにする。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION USED IN PROCESS WHERE EXPOSURE IS PERFORMED USING AT LEAST TWO KINDS OF EXPOSURE LIGHT SOURCES SELECTED FROM G-LINE, I-LINE, KrF EXCIMER LASER, AND ELECTRON BEAM, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光する工程に用いられるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To control an exposing head through adjustment to draw a pattern with higher accuracy on a recording surface in scanning and exposing with a multi-beam emitted from a means for selectively turning ON/OFF a plurality of pixels.例文帳に追加

複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から出射されたマルチビームで走査露光する際に、記録面上に高精度で描画をするように露光ヘッドを調整して制御可能とする。 - 特許庁

The CPU 31 obtains any defective part from which defective pattern drawing occurs, and corrects the irradiation parameter corresponding to the defective part on the basis of the state change data and the data of the laser beam cumulative calorie.例文帳に追加

ＣＰＵ３１は、状態変化データとレーザ積算熱量のデータとに基づいて、絵柄の描画不良が発生する不良部位を導き、その不良部位に対応する照射パラメータを補正する。 - 特許庁

A controlling means scans the droplets Fb landed on the pattern forming surface 4Sa along the scanning direction to make the laser beam Le incident on the end part of the droplets Fb positioned at an irradiation position Pe.例文帳に追加

また、制御装置が、パターン形成面４Ｓａに着弾した液滴Ｆｂを走査方向に沿って走査し、照射位置Ｐｅに位置する液滴Ｆｂの端部にレーザ光Ｌｅを入射する。 - 特許庁

The photonic crystal region 21 is formed as a first pattern along one front surface of the active layer 14 and includes a plurality of grooves 23 arranged in parallel keeping an interval in accordance with the wavelength of the excited laser beam.例文帳に追加

フォトニック結晶領域２１は、第１のパターンとして、活性層１４の一表面沿いに形成され、励起光の波長に応じた間隔で平行に配列された複数の溝２３を含む。 - 特許庁

A machining control means 13 performs the ON-OFF control of a laser beam source 12, and controls a motor of a scanning unit 20 based on the coordinate data generated based on machining information on the pattern.例文帳に追加

加工制御手段１３は、レーザ光源１２をオンオフ制御するとともに、パターンに関する加工情報に基づいて生成された座標データに基づいて走査ユニット２０のモータを制御する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR USE IN STEP OF EXPOSURE USING AT LEAST TWO EXPOSURE LIGHT SOURCES SELECTED FROM G-LINE, I-LINE, KrF EXCIMER LASER AND ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも２種の露光光源を用いて露光する工程に用いられるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide an observation technology by a phase retrieval type electron microscope, making the intensity distribution of a parallel electron beam with a microscopic diameter in measuring a real image and an electron diffraction pattern bright and uniform.例文帳に追加

実像と電子回折像を測定する際の微小径かつ平行な電子線を、明るくかつ均一な強度分布にする位相回復方式の電子顕微鏡による観察技術を提供する。 - 特許庁

The conductive pattern having conductivity approximately equal to that of graphite is obtained by irradiating and scanning the surface of the insulative carbide in air with a laser beam having a high energy density enough to melt the surface.例文帳に追加

空気中において絶縁性炭化物の表面に、該表面を溶融させるのに充分な高エネルギー密度のレーザービームを走査照射することによりグラファイト並の導電性パターンを得る。 - 特許庁

The correction current is formed by selectively combining waveform current components constituting a plurality of bases to respectively correct a plurality of basic beam landing pattern components.例文帳に追加

補正電流は、複数の基本となるビームランディングパターン成分を夫々補正するための複数の基本となる波形電流成分を基に之ら波形電流成分を選択的に組み合わさた補正電流とする。 - 特許庁