「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

A TFT board 11 supported by a mount table 40 is irradiated with a laser beam LB through a window 51 of a local machining part 50, and a short-circuited part 12A of a wiring pattern 12 is corrected.例文帳に追加

載置台４０に支持されたＴＦＴ基板１１に対して、局所加工部５０の窓５１を介してレーザ光ＬＢを照射し、配線パターン１２の短絡部１２Ａを修正する。 - 特許庁

To provide a charged-particle beam aligner which prevents an organic dirt foreign matter, which causes a reduction in the pattern transfer characteristics of the aligner in parallel with a reduction of the exposure operation of the aligner, from being solidified in the aligner.例文帳に追加

露光動作に並行してパターン転写特性低下の原因となる有機汚れ異物の装置内への固化の防止動作が行われる荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a material capable of reducing the environmental effect on a chemical amplification type resist layer used for the electron beam or EUV lithography; a laminated body; and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

電子線またはＥＵＶリソグラフィーに用いられる化学増幅型レジスト層への環境影響を低減できる材料、積層体、およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a variable beam pattern exposure system free from the problem of mismatching in respective units without requiring much processing of a computer and without deteriorating accuracy.例文帳に追加

計算機の多大な処理を必要とせず、また精度を劣化させずに、上記の単位の不整合の問題のない可変成型ビーム型パターン描画装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The phase pattern of the diffraction type optical element (DOE) is previously determined in such a manner that the beam power at the lattice point within a certain range is made the same.例文帳に追加

回折型光学素子と集光レンズを用いて一定範囲でパワーを等分配した回折点を形成しデフォーカスすることによって、その範囲でトップハット型の光量分布を得る。 - 特許庁

By irradiating light, an electron beam or radiation to the resist substrate to draw an image and developing by using an alkaline developing agent, the pattern having the high sensitivity and high resolution can be formed.例文帳に追加

このレジスト基板に光、電子線または放射線を照射して描画し、アルカリ現像液を用いて現像することにより、高感度・高解像度のパターンを形成することができる。 - 特許庁

The 3rd drive part 154 rotates the laser light emitting part 152 around the linear semiconductor raw material 30, and at the same time, a circuit pattern is drawn on the linear semiconductor 30 with a laser beam.例文帳に追加

第３の駆動部１５４によってレーザ出射部１５２は線状半導体素材３０の周りを回転し、同時にレーザビームによって回路パターンを線状半導体３０に描画する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such properties as sensitivity, resolution, pattern shape and line edge roughness when KrF excimer laser light, an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像性、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a height measurement method and a charged particle beam lithography apparatus in which drawing accuracy can be enhanced by reducing the height measurement error caused by a pattern formed on a specimen.例文帳に追加

試料に形成されたパターンに起因する高さ測定誤差を低減して、描画精度の向上を図ることのできる高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method, program, and device for image formation for pattern images for use in an integral photography (IP) method on a light beam reproducing method.例文帳に追加

インテグラルフォトグラフィー（ＩＰ）法あるいは光線再生法において用いるパターン画像のための画像形成方法、画像形成プログラム及び画像形成装置を堤供することを目的とする。 - 特許庁

A group of beams where a plurality of patterns are formed are projected on the objects, and the beams are scanned across the substrate according to the relative displacement between the substrate and the beam with a pattern formed.例文帳に追加

複数のパターン形成済みビーム群は、基板の標的部分上に投影され、基板とパターン形成済みビームとの間の相対変位により、ビームが基板を横切って走査される。 - 特許庁

To provide a device for decorating a component capable of decorating a correct pattern without any defective drawing by irradiating a surface of a component with laser beam according to an adequate irradiation condition.例文帳に追加

適正な照射条件によってレーザを部品表面に照射して、描画不良のない正確な絵柄を加飾することができる部品の加飾装置を提供すること。 - 特許庁

The lithography system includes an illumination system for providing a radiation beam, a support for supporting a pattern forming device, a substrate table, and a projection system.例文帳に追加

本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供するように構成された照明系、パターン形成装置を支持するように構成された支持体、基板テーブル及び投影システムを含む。 - 特許庁

A pattern-forming region (die) 61 on a wafer 23 and a peripheral part 62 thereof are divided into pixels 23b of a dimension, sufficiently smaller than a spread dimension 63 of a backscattering electrons of an electron beam.例文帳に追加

ウェハ２３上のパターン形成領域（ダイ）６１とその周囲部分６２を、電子線の後方散乱電子の拡がり寸法６３より十分小さい寸法のピクセル２３ｂに分ける。 - 特許庁

The sensitive material of the mask blank is patterned on the basis of the data under prescribed conditions (focal depth and beam diameter) and the mask blank is developed and rinsed to obtain a three-dimensional sensitive material pattern.例文帳に追加

そのデータに基づいて、マスクブランクスの感光性材料を所定の条件（焦点深度、ビーム径）で描画し、そのマスクブランクスを現像・リンスして三次元の感光性材料パターンを得る。 - 特許庁

To provide an integrated thin film solar cell which can pattern the rear face metal electrode layer without using a high energy laser beam and provides a direct protective layer of its back electrode layer.例文帳に追加

高エネルギーのレーザビームを用いずに裏面金属電極層のパターニングが可能でかつその裏面電極層の直接的保護層を備えた集積型薄膜太陽電池を提供する。 - 特許庁

As this result, only the region irradiated with the laser beam 11 of the film 2 is selectively etched and an etching pattern of 3×3 mm square consisting of the film 2 is formed (c).例文帳に追加

この結果、ＸｅＣｌエキシマレーザ光１１が照射された領域のみのＩＴＯ膜２が選択的にエッチングされて、ＩＴＯ膜２の３ｍｍ角のエッチングパターンを形成する（（ｃ））。 - 特許庁

An alignment mark M for performing pattern formation by irradiating electron beam is formed so as not to penetrate an active Si layer 53 to prevent charge-up in a box layer 52.例文帳に追加

電子線照射によるパターン形成を行うためのアライメントマークＭは、活性Ｓｉ層５３を貫通することのないように形成し、ボックス層５２におけるチャージアップを防ぐようにした。 - 特許庁

Laser beam Le emitted from a semiconductor laser LD is led to an irradiation position along the tangential direction of a pattern forming surface 4Sa by a reflection mirror 27 mounted on a carriage 20.例文帳に追加

キャリッジ２０に搭載された反射ミラー２７が、半導体レーザＬＤの出射したレーザ光Ｌｅをパターン形成面４Ｓａの略接線方向に沿って照射位置Ｐｅに導く。 - 特許庁

A substrate 1 on a placement table 12 is irradiated with an ion beam from an ion source 13, at a position of a functional layer FL corresponding to the desired pattern shape with a prescribed intensity for a prescribed irradiation time.例文帳に追加

イオン源１３からイオンビームを載置台１２上の基板１に向けて、機能層ＦＬの所望のパターン形状に対応する位置に所定の強度および照射時間で照射する。 - 特許庁

The diffraction optical element 8 reflects the incident laser beam 9 by minute ruggedness formed on its surface so as to project many bright spots (pattern image) in a grid shape on the surface of the subject.例文帳に追加

回折光学素子８は、表面に形成された微小な凹凸により入射されたレーザ光９を反射し、被写体の表面に多数の輝点（パターン像）を格子状に映し出す。 - 特許庁

To achieve high-sensitivity inspection of a semiconductor pattern easily damaged by electron beam irradiation by enabling inspection using a charging control function with low incident energy and in a wide visual field.例文帳に追加

低入射エネルギー、且つ広視野での帯電制御機能を用いた検査を可能にし、電子線照射による損傷を受けやすい半導体パターンの高感度検査を実現することである。 - 特許庁

The loudspeaker units 1B, 1C, 1D beam-control the utterance audio signal transferred from the loudspeaker unit 1A by using the delay pattern sent from the control unit 2 for emitting sound.例文帳に追加

拡声ユニット１Ｂ，１Ｃ，１Ｄは、拡声ユニット１Ａから転送されて来た発話音声信号をコントロールユニット２から送信されてきた遅延パターンでビーム制御して放音する。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, EXPOSURE MASK, METHOD FOR PRODUCING EXPOSURE MASK, ELECTRON BEAM DRAWING METHOD FOR PRODUCING EXPOSURE MASK, EXPOSURE METHOD, SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターンの補正方法、露光用マスク、露光用マスクの作製方法、露光用マスクを作製するための電子線描画方法、露光方法、半導体装置、及び、半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an organic electroluminescence element, which can improve a light utilization efficiency for a laser beam when forming an organic film layer pattern with a laser transfer.例文帳に追加

レーザー転写法により有機膜層パターンを形成する際に，レーザービームの光利用効率を向上させることができる有機電界発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Accuracy of patterning using an electron beam aligner is enhanced by replacing the unevenness in exposure intensity uncontrollable for a pattern to be obtained by controllable double exposure.例文帳に追加

得るべきパターン形状に対して制御不可能な露光強度むらを、制御可能な２重露光に置き換えることで、電子線露光装置を用いたパターン作製精度が向上する。 - 特許庁

And by modulating the power of an electron lens L2, a deflector D1 is adjusted so that the main beam from the center of the special pattern passes through the center of the electron lenses L1, L2.例文帳に追加

そして、電子レンズＬ２のパワーを変調することにより、特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズＬ１、Ｌ２の中心を通るように偏向器Ｄ１を調整する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photomask that deals with deterioration in positional accuracy due to generation of a drift where drawn pattern density changes largely when the photomask is drawn with an electron beam.例文帳に追加

フォトマスクを電子線描画するときに、描画パターン密度の変化の大きいところでのドリフトが生じ位置精度が悪化することに対応するフォトマスクの作製方法を提供する。 - 特許庁

Then, by modulating the power of the electron lens L3, a deflector D2 is adjusted so that the main beam from the center of the special pattern passes the center of the electron lenses L1, L2 and L3.例文帳に追加

その後、電子レンズＬ３のパワーを変調することにより、特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズＬ１、Ｌ２、Ｌ３の中心を通るように偏向器Ｄ２を調整する。 - 特許庁

It is possible to change the capacity of the variable capacity diode without changing the circuit pattern by changing the component ratio of the two film thicknesses, or by cutting comb teeth by a laser beam after manufacturing.例文帳に追加

２種類の膜厚の構成割合を変えたり、製造後に櫛の歯をレーザービームで切断することにより、回路パターンを変えずに可変容量ダイオードの容量を変更することができる。 - 特許庁

To provide a photoresist composition suitable for short wavelength lithography such as electron beam lithography or EUV lithography, capable of giving a pattern having good sensitivity, resolution and shape.例文帳に追加

電子線リソグラフィー又はＥＵＶリソグラフィー等の短波長リソグラフィーに適しており、感度、解像度及び形状が良好なパターンを形成し得るフォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The apparatus 23 for correcting the defect is used for removing the defect of the defective pixels in the pixel pattern provided on the substrate by irradiating the defective pixels with a laser beam.例文帳に追加

本発明にかかる欠陥修正装置２３は、基板上に設けられた画素パターンのうちの欠陥画素に対して、レーザー光を照射することによって欠陥を除去するものである。 - 特許庁

To provide a mask for a charged particle beam exposure system, in which deformation of a circuit pattern can be limited to a range without problems related to transfer accuracy, even when inside tensile stress is applied to a mask.例文帳に追加

マスクに内部引っ張り応力を与えても、回路パターンの変形が、転写精度上問題のない範囲に収まるような荷電粒子線露光装置用マスクを提供する。 - 特許庁

In the vehicle lamp, a shade-cum-additional reflector 5 has a projection part 15 to form a lower horizontal cut-off line CL1 and a slanted cut-off line CL2 of a low beam light distribution pattern LP.例文帳に追加

シェード兼付加リフレクタ５には、すれ違い用配光パターンＬＰの下水平カットオフラインＣＬ１および斜めカットオフラインＣＬ２を形成する突起部１５が設けられている。 - 特許庁

The method enables formation of a high-saturation, multi-gradation, complex pattern on a metal surface by irradiating the metal surface with the laser beam twice or more.例文帳に追加

本方法では、レーザ光を金属表面上に２回以上の複数回照射することにより、彩度が高く色階調の多い複雑な紋様を金属表面に描くことが可能になる。 - 特許庁

To prevent deterioration and deformation of a mask due to forces applied to the mask from an exposure apparatus at accelerating, when the mask is moved at a high speed for transferring a pattern by an electron beam exposure.例文帳に追加

電子線露光によるパターン転写を行う場合に、マスクを高速移動すると、加速時に露光装置からマスクに加わる力によってマスクが劣化、変形するため、これを防止する。 - 特許庁

To provide a vehicle headlamp of a projector type equipped with a mirror member, in which light irradiation can be carried out with a light distribution pattern adapted to a vehicle driving situation at the time of a low beam.例文帳に追加

ミラー部材を備えたプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム時に車両走行状況に適応した配光パターンで光照射を行えるようにする。 - 特許庁

To effectively enhance illumination efficiency by providing a projection system in which the projection pattern of a light beam projected to an optical path switching device is fully enclosed by the light receiving area of the optical path switching device.例文帳に追加

光路スイッチング装置へ投影された光線の投影パターンが、光路スイッチング装置の受光域に完全に入れる投影システムを提供し、照明効率を効果的に高める。 - 特許庁

To make a headlight for a vehicle of a projector type have a light distribution pattern which does not cause a light beam loss, and the shape and intensity of which are adequate to overhead sign illumination.例文帳に追加

プロジェクタ型の車両用前照灯において、光束ロスを生じることなく、オーバヘッドサイン照射に適した形状および明るさを有する配光パターンが得られるようにする。 - 特許庁

To make it possible to carry out beam radiation in a light distribution pattern in immediate response to vehicle's run conditions, in a vehicle headlamp housing a lighting apparatus unit within a lamp body.例文帳に追加

ランプボディの内部に灯具ユニットが収容されてなる車両用前照灯において、車両走行状況に即応した配光パターンでビーム照射を行えるようにする。 - 特許庁

The exposure device equipped with a lighting optical system having a first lighting light source 1 for drawing based upon exposure pattern data and a lighting optical system having a second lighting light source 2 for irradiating a desired area including a pattern-drawn area with an energy beam is used to achieve high-precision pattern formation based on the exposure pattern data with high throughput at low cost.例文帳に追加

露光パターンデータに基づいて描画するための第１の照明光源１を有する照明光学系と、前記パターン描画された領域を含有する所望の面積に対してエネルギー線を照射するための第２の照明光源２を有する照明光学系とを備えた露光装置を用いることにより、露光パターンデータに基づく高精度のパターン形成を高スループットかつ低コストに達成する。 - 特許庁

A vehicular headlamp device includes: a lamp unit forming a light distribution pattern Hi for a high beam that includes an upper area above the cut-off line of a light distribution pattern Lo for a low beam and is divided into a plurality of individual patterns Hia-Hie; and a control unit controlling the formation of each of the individual patterns Hia-Hie according to the presence of the forward vehicle 400.例文帳に追加

車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンＬｏのカットオフラインから上方の領域を含むとともに複数の個別パターンＨｉａ〜Ｈｉｅに分割されたハイビーム用配光パターンＨｉを形成可能な灯具ユニットと、前方車両４００の存在に応じて各個別パターンＨｉａ〜Ｈｉｅの形成を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁

Namely, the laser beam modulated based on a modulation pattern including the quality pattern J is irradiated using a surface 3 as a laser beam incident surface before modified regions SD4, SD5 are formed at the position on the surface 3 side after modified regions SD1, SD2 are formed at the position on the rear surface 21 side, so that the modified region SD3 is formed at the middle position.例文帳に追加

すなわち、表面３をレーザ光入射面として、裏面２１側の位置に改質領域ＳＤ１，ＳＤ２を形成した後かつ表面３側の位置に改質領域ＳＤ４，ＳＤ５を形成する前に、品質パターンＪを含む変調パターンに基づいて変調したレーザ光を照射することにより、中間位置に改質領域ＳＤ３を形成する。 - 特許庁

A system and method for inserting an intraocular lens in a patient's eye includes a light source for generating a light beam, a scanner for deflecting the light beam to form an enclosed treatment pattern that includes an registration feature, and a delivery system for delivering the enclosed treatment pattern to target tissue in the patient's eye to form an enclosed incision therein having the registration feature.例文帳に追加

患者の眼に眼内レンズを挿入するためのシステム及び方法は、光ビームを発生させるための光源と、光ビームを偏向させて、位置合わせ特徴部を含む封入治療パターンを形成するためのスキャナと、患者の眼のターゲット組織へ封入治療パターンを送出して、そこに位置合わせ特徴部を有する封入切開部を形成するための送出システムとを含む。 - 特許庁

T-shaped gate electrode composed of a prop-like main gate electrode 6 and a beam-like conductor pattern 7 is provided on a semiconductor layer 3 to be isolated by a substrate isolating insulation film 2 from a semiconductor substrate 1 to form active regions, and the gate insulation film just beneath the beam-like conductor pattern 7 is made thicker than the gate insulation film 4 just beneath the main gate electrode 6.例文帳に追加

基板分離用絶縁膜２によって半導体基板１から分離した能動領域となる半導体層３上に、支柱状の主ゲート電極６と梁状導電体パターン７からなるＴ字状のゲート電極を設けるとともに、梁状導電体パターン７の直下のゲート絶縁膜の膜厚を主ゲート電極６の直下のゲート絶縁膜４の膜厚より厚くする。 - 特許庁