「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

A pattern of an integrated circuit is formed of a predetermined wiring layer and after ending plasma treatment, the contact path 171 is cut by irradiating a trimming portion 171B with a laser beam.例文帳に追加

所定の配線層による集積回路のパターンが形成され、プラズマ処理終了後、接続経路１７１は、トリミング部１７１Ｂにレーザービームを照射して切断される。 - 特許庁

The material 2 is scanned with a laser beam 7 from a printing head 3 in the direction rectangular to the carrying direction of the material 2 and a printing pattern 10 is marked by the arrays of dot patterns 8.例文帳に追加

プリントヘッド３からのレーザービーム７は感光材料２の搬送方向に直交する向きに走査され、ドットパターン８の配列により印字パターン１０がマーキングされる。 - 特許庁

An imaging device 44 having a photographing region for imaging the entire self-pattern projected on the road surface by the visible light beam of the irradiation machine 24 is installed.例文帳に追加

また、ビーム照射機２４の可視光ビームにより道路路面に映し出される自パターンの全体を撮像する撮影可能領域を有する撮像装置４４を設ける。 - 特許庁

The cell is divided in each unit lithography area having width obtained by reducing only the MSD pattern width from maximum available lithography width in charged particle beam deflection only of sub-deflection.例文帳に追加

副偏向のみの荷電ビームの偏向で描画可能な最大幅から、その長辺方向のパターン幅だけ小さくした幅を有する単位描画領域でセルを分割する。 - 特許庁

A signal profile generation unit 35 generates profiles of a plurality of signal waveforms differing in focus position from a scanned image obtained by irradiating a fine pattern with an electron beam.例文帳に追加

信号プロファイル生成部３５は、微細パターンに電子線を照射して得た走査画像から、フォーカス位置の異なる複数の信号波形のプロファイルを生成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing optical element capable of proper alignment in marking a pattern of a diffraction grating by means of an electron beam lithographic device.例文帳に追加

電子ビーム露光装置を用いて回折格子のためのパターンを描画する際に良好なアライメントが可能になる半導体光素子を作製する方法を提供する。 - 特許庁

The writing system 1 for writing a pattern on a semiconductor substrate 9 comprises a head section 2 projecting a writing electron beam, and a computer 4 performing arithmetic operation.例文帳に追加

半導体の基板９にパターンを描画する描画装置１において、描画用の電子ビームを出射するヘッド部２、および、演算処理を行うコンピュータ４を設ける。 - 特許庁

This pattern repairing method is for stencil-type reticle is a repairing method for a stencil-type reticle 12, having transfer patterns 10, 11 formed of electron beam scattering body.例文帳に追加

本発明に係るステンシル型レチクルのパターンリペア方法は、電子線散乱体によって形成された転写パターン１０，１１を有するステンシル型レチクル１２のリペア方法である。 - 特許庁

A part corresponding to the diode 2 of the lower part insulating layer 4 is irradiated with laser beam 11 to form a hole 12 reaching the metal film pattern 3 by laser abrasion.例文帳に追加

下部絶縁層４のダイオード２に対応する位置にレーザ光１１を照射して、金属膜パターン３に達する孔１２をレーザアブレーションによって形成する。 - 特許庁

A character, a mark or a pattern to be transferred and formed to the surface of a molded product is carved in the surface (2) before the laser processing of the electroforming master (1) using a laser beam (4).例文帳に追加

電鋳マスタ（１）のレーザ加工前の表面（２）に、成型品の表面に転写形成されるべき文字、記号又は模様を、レーザビーム（４）を用いて刻印する。 - 特許庁

To provide a reflection high-energy electron diffraction apparatus that can generate a reflection electron image diffraction pattern by using an electron beam having an extremely small current value at a nanoampere level.例文帳に追加

ｎＡレベルのきわめて小さい電流値の電子線を利用して反射電子像回析パターンを生成することができる反射高速電子回析装置を提供する。 - 特許庁

By separating the metal film (12, 24) from the surface (10a) of the substrate after the laser beam irradiation, the substrate that has a metal film pattern (20, 26) formed on the surface through the abrasion is obtained.例文帳に追加

レーザ照射後に基板表面(10a)から金属膜(12,24)を分離することにより、アブレーションにより形成された金属膜パターン(20,26)が表面に付着した基板が得られる。 - 特許庁

To provide an auxiliary lamp for a headlamp capable of illuminating a wider area than a low-beam distribution pattern without changing an existing headlamp for a vehicle.例文帳に追加

既存の自動車のヘッドランプを変更することなくロービーム配光パターンよりも広い領域を照明することを可能にした前照灯補助ランプを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device having a correction process of charged particle beam exposure data effectively correcting a pattern variation by an etching process.例文帳に追加

エッチングプロセスによるパターン変動を有効に補正することができる荷電粒子ビーム露光データの補正工程を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The rare earth doped region 22 includes, as a second pattern, a plurality of grooves 24 arranged in parallel keeping an interval in accordance with the wavelength of the output green laser beam.例文帳に追加

希土類ドープ領域２２は、第２のパターンとして、出力する緑色光の波長に応じた間隔で互いに平行に配列された複数の溝２４を含む。 - 特許庁

A crest-like pattern is formed to be punched out by a laser beam outputted from a laser generation section on a base plate made of bamboo or the like and it is used as a coaster.例文帳に追加

竹製等の基板に、レーザー発生手段から出力されるレーザー光により家紋状の模様を打ち抜き形成させて、コースターとして使用することができる。 - 特許庁

This method can make the luminescence center form, by irradiating interference light of a laser beam, in the domain of the target corresponding to the above interference pattern.例文帳に追加

この方法は、レーザー光の干渉光を照射することにより、ターゲットのうち、前記干渉パターンに対応した領域に発光中心を形成させることができる。 - 特許庁

The adhesive layer is provided with a laser recording part for recording information such as a pattern and a character which are formed by been irradiated with a laser beam and can visually be read.例文帳に追加

この接着剤層にはレーザービームを照射することにより形成された目視読み取り可能な、パターン、文字等の情報のレーザー記録部が設けられている。 - 特許庁

To obtain a laser beam having an elliptical far field pattern profile obtained by forming a resonance surface on a nitride semiconductor which is grown on a sapphire substrate that is hard to cleave.例文帳に追加

劈開の難しいサファイア基板の上に成長された窒化物半導体に共振面が形成されて、楕円状のファーフィールドパターン形状を有するレーザビームを得る。 - 特許庁

Then the mask distortion caused by the electron beam exposure system for mask making is evaluated by measuring the posional distortion of the resist pattern in the position accuracy evaluation mark 40 of the etching mask.例文帳に追加

次いで、エッチングマスクの位置精度評価マーク４０のレジストパターンの位置ずれを測定することにより、マスク作製用電子線露光装置に起因するマスク歪みを評価する。 - 特許庁

In the pattern exposure method, exposure is performed to the photosensitive layer, on which the cover film for photosensitive layer is disposed by using a laser beam of wavelength 395 to 415 nm.例文帳に追加

該感光層カバーフィルムが配置された感光層に対し、３９５〜４１５ｎｍの波長のレーザ光により露光を行うことを特徴とするパターン露光方法である。 - 特許庁

A constitutive unit 341 constituting the pattern of the heat accumulation part may be formed to make an area or a volume thereof inverse-proportional to the intensity distribution of the laser beam.例文帳に追加

前記蓄熱部のパターンを構成する構成単位３４１は、その面積又は体積と前記レーザー光の強度分布とが反比例するように形成することができる。 - 特許庁

To provide an incident angle monitor element of charged particles in an ion beam device using a silicon plate with an opening formed and a silicon plate with a line-space pattern formed.例文帳に追加

開口が形成されたシリコン板とライン・スペースパターンが形成されたシリコン板とを用いた、イオンビーム装置における荷電粒子の入射角モニタ素子を提供する。 - 特許庁

To provide an adjusting method and an adjusting device by which aberration is correctly detected without chipping a sharing interference pattern in the group lens adjustment of a diffracted light beam interference system.例文帳に追加

回折光干渉方式の組レンズ調整において、シェアリング干渉パターンが欠けることなく、正しく収差検出できる調整方法および装置を提供する - 特許庁

A laser beam 2 is emitted toward a plate which is worked with a slit having a pattern of a known size, and a body is irradiated with the transmission light transmitted through the slit.例文帳に追加

本発明は寸法が既知のパターンを有するスリットが加工された板に向けてレーザ光２を照射し、スリットを透過した透過光を物体に照射する。 - 特許庁

Therefore, the other receiving system except for a switched and selected receiving system continues an ordinary receiving operation based upon a formed received beam pattern without being stagnated.例文帳に追加

従って、切替え選択された受信系以外の他の受信系は、停滞することなく、形成された受信ビームパターンのもとで通常の受信操作を継続することができる。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which simultaneously satisfies such characteristics as sensitivity, resolving power, pattern shape and line edge roughness when an electron beam or X-rays are used.例文帳に追加

電子線又はＸ線の使用に対して感度、解像力、パターン形状及びラインエッジラフネスの特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The determined blight transmissive regions or light shielding regions are disposed on each grid and necessary pattern forming energy, focal depth and beam diameter are calculated every grid by CAD(computer aided design) and converted to data.例文帳に追加

決定された光透過領域又は遮光領域を「各グリッド」に配置して、ＣＡＤでグリッドごとに必要な描画エネルギー、焦点深度、ビーム径を計算し、データ化する。 - 特許庁

The inspection condition of the electron beam type pattern inspection device is prepared using an inspection condition of several kinds of defaults set in advance and an inspection condition prepared in the past.例文帳に追加

電子線式パターン検査装置の検査条件は、予め設定された数種のデフォルトの検査条件、及び、過去に作成した検査条件を利用して作成する。 - 特許庁

To provide a signal distribution phase switching circuit for preventing reduction in the flexibility of a null beam pattern, while maintaining an effect of a tree structure as it is.例文帳に追加

本発明の目的は、ツリー構造の効果は維持したまま、ヌルビームパターンの自由度の減少を防ぐ信号分配位相切り換え回路を提供することである。 - 特許庁

To provide a light beam emitting window width for a light source which obtains sufficiently a contrast of a light intensity pattern such as a talbot image from a constitutional parameter of an encoder such as a scale pitch.例文帳に追加

スケールピッチなどエンコーダの構成パラメータから、タルボットイメージ等明暗パターンのコントラストが十分に得られる光源の光ビーム出射窓幅を提供する。 - 特許庁

A variable shade 12 which is driven through a motor 22 and a plurality of gears includes a plurality of ridge line parts, and forms a low-beam distribution pattern according to the rotating angle.例文帳に追加

モータ２２および複数のギアを介して回転駆動する可変シェード１２は複数の稜線部を有し、回転角度に応じたロービーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁

At least one of the first shade 38 and the second shade 40 has a vehicle widthwise width such that light is shielded beyond the central area of the low-beam light distribution pattern to be formed.例文帳に追加

第１シェード３８と第２シェード４０の少なくとも一方は、形成するロービーム用配光パターンの中央領域を越えて遮光する車幅方向の幅を有する。 - 特許庁

To reduce an instable factor given to drawing by a rotary system of an electron beam lithography apparatus and to stably obtain a desired pattern.例文帳に追加

電子線描画装置の回転系が描画に与える不安定要因を低減することを可能にするとともに安定的に所望のパターンを得ることを可能にする。 - 特許庁

A pattern for detecting an image position is formed on a conveying belt 150 and detected by a density sensor 155 to determine color shift and generate light beam output timing correction data.例文帳に追加

画像位置検出用パターンを搬送ベルト１５０上に形成し、濃度センサ１５５で検出し、色ずれを判定し、光ビーム出力タイミング補正データを生成する。 - 特許庁

A first beam deflection device (43, 67 and 78) moves the scanning area (31, 33) to the interested area (27, 29), and a second beam deflection device (49, 72 and 94) works as scanning in a form of bent pattern in the scanning area (31, 33).例文帳に追加

第１のビーム偏向装置（４３，６７，７８）が、関心のある領域（２７，２９）に走査領域（３１，３３）を移動し、第２のビーム偏向装置（４９，７２，９４）は、走査領域（３１，３３）の内部で曲折模様形状の走査を行うように作用する。 - 特許庁

The surface of the printed pattern layer 3 is coated with electron beam curing paint, then, the paint layer 4 is formed, the paint layer 4 is cured with irradiation of the electron beam, thereafter, the surface of the paint layer 4 is embossed to form fine ruggedness thereon.例文帳に追加

印刷絵柄層３の表面に電子線硬化型塗料を塗膜して塗料層４を形成し、塗料層４に電子線を照射して硬化した後、塗料層４の表面に微細凹凸を形成するためエンボス加工を施す。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure mask of a constitution, wherein the exposure mask is provided with a plurality of split masks and even though a defect is caused in the split masks, a required pattern can be exposed by an electron beam exposure, an exposure method using this mask and an aligner.例文帳に追加

複数の分割マスクを配設した露光用マスクにおいて、分割マスクに欠陥が生じていても所要のパターンを電子線露光により露光することが可能な電子線露光用マスクと露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

For this apparatus, the surface of the substrate can be tested by comparing an image image formed by the secondary electron beam with the picture image stored beforehand, or by testing the pattern line width of the patterns on the surface of the substrate, based on the secondary electron beam.例文帳に追加

この装置では、２次電子線に基づき形成される画像を予め記憶した画像と比較したり、基板表面のパターンのパターン線幅を２次電子線に基づき検査することにより、基板表面の検査をすることができる。 - 特許庁

To provide an apparatus and a system for optical spatial communication that can stably communicate even if a deviation from an opposite-side apparatus in the short-diameter direction of a beam irradiation pattern is large when a light emission part forming beam irradiation patterns in a long circular shape is used.例文帳に追加

従来の複数光源を有する光空間通信装置では、複数の光ビームによる合成照射パターンが略長円形状となるため、光ビームがその短径方向において相手方装置の受光部からずれたり外れたりし易い。 - 特許庁

In this color cathode-ray tube, a stress relaxation pattern 59 formed on the skirt portion 51 of a shadow mask is etched together with electron beam passing holes in the main face at one etching treatment so as to have the same aperture opening that electron beam passing holes have.例文帳に追加

シャドウマスクのスカート部５１に形成する応力緩和パターン５９を当該シャドウマスクの主面５０の電子ビーム通過孔と同様の開口として１段エッチング処理で電子ビーム通過孔と同時に応力緩和パターン５９を形成する。 - 特許庁

The beam scanning patterns are alternately selected, and the scan control is performed according to each beam scanning pattern, so that the ultrasonic beams are scanned across the whole areas in the three-dimensional space including a space part corresponding to the blank area.例文帳に追加

これらのビーム走査パターンが交互に選択されて各ビーム走査パターンに応じた走査制御が行われることにより、ブランク領域に対応した空間部分を含む三次元空間内の全域に亘って超音波ビームが走査される。 - 特許庁

To solve a problem wherein an inclined pattern is formed due to absorption of the light by the photoresist resin at the wavelength used for the light source in a lithographic process using KrF or ArF laser, VUV rays, EUV rays, electron beams, ion beams or the like as the light source.例文帳に追加

ＫｒＦ、ＡｒＦ、ＶＵＶ、ＥＵＶ、電子線（E-beam）及びイオンビーム（ion beam）等の光源を利用したリソグラフィー工程時に、フォトレジスト樹脂が光源に用いられる波長の光を吸収して傾斜したパターンを形成することを解決する。 - 特許庁

In a pattern inspection device 1, an image to be inspected of multiple gradation of a substrate 9 by irradiating an electron beam onto the substrate 9 from an electron beam exit part 31 and detecting electrons from the substrate 9 with an image acquiring part 33.例文帳に追加

パターン検査装置１では、電子ビーム出射部３１から基板９上に電子ビームが照射され、画像取得部３３により基板９からの電子が検出されることにより基板９の多階調の被検査画像が取得される。 - 特許庁

This micro-opto-electromechanical apparatus comprises: a silicon wafer comprising a plurality of layers; the reflector formed in one of the plurality of layers; and a pattern on the reflector to focus or collimate an incident beam of radiation into a reflected beam.例文帳に追加

本出願は、複数の層を備えるシリコン・ウェハと、複数の層の１つの中に形成される反射器と、放射線の入射ビームを反射ビームに合焦またはコリメートするための反射器上のパターンとを備えるマイクロオプトエレクトロメカニカル装置を開示する。 - 特許庁