「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

The lithograph projector comprises a mechanism for supplying a projection radiation beam, a structure supporting a member for patterning the projection beam according to a desired pattern, and a mechanism for projecting a patterned beam to a target part of a substrate.例文帳に追加

投影放射線ビームを供給するための放射線機構；前記投影ビームを希望のパターンに従いパターン化する働きをするパターン化部材を支持するための支持構造体；基体を支持するための基体テーブル；及び基体の目標部分にパターン化されたビームを投影するための投影機構；を具えたリトグラフ投影装置。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting a radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate on a central area; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target part of the substrate in a first direction.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームの断面内にパターンを付与して、パターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するようサポートと、基板をその中央領域上に保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを第１の方向で基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

As to the oscillation intensity of a laser beam which is emitted from a fluorine laser 1 to irradiate the pattern surface of a mask R in an aligner 100, the ratio of the total intensity of a main oscillation beam having a wavelength of about 157.63 nm to that of an auxiliary oscillation beam having a wavelength of about 157.52 nm is set at 0.3 or below.例文帳に追加

露光装置１００では、フッ素レーザ１からマスクＲのパターン面に照射される、レーザ光の発振線強度のうち、波長が約１５７．６３ｎｍである主発振線の総強度に対する、波長が約１５７．５２ｎｍである副発振線の総強度の比が、０．３％以下に設定されている。 - 特許庁

A light modulation circuit 14 for drawing a pattern with a predetermined doe width and a predetermined density by light modulation of a beam light exposed on a photosensitive surface comprises a light intensity modulation means for modulating the light intensity of the beam light, and a dot width modulation means for modulating the dot width of the beam light in the scanning direction.例文帳に追加

感光面に露光されるビーム光を光変調して所要のドット幅でかつ所要の濃度のパターンを描画するための光変調回路１４に、ビーム光の光強度を変調する光強度変調手段と、ビーム光の走査方向のドット幅を変調するドット幅変調手段を備える。 - 特許庁

In a charged particle beam system for measuring the line width or the like of a pattern formed on a sample based on secondary electrons emitted from a sample by scanning on the sample with a charged particle beam, interval of the scanning line of the charged particle beam is set not to exceed an irradiation density determined based on the physical properties of the sample.例文帳に追加

荷電粒子線を試料上で走査し、試料より放出された二次電子に基づいて、試料上に形成されたパターン等の線幅等を測長する荷電粒子線装置において、試料の物性に基づいて決定される照射密度を上回らないように前記荷電粒子線の走査線間隔を設定する。 - 特許庁

An incident beam is made to get incident into a printed wiring board with wiring and an insulator on its surface by a laser beam source 62, the surface is scanned with the incident beam, and fluorescence from the surface of the printed wiring board is detected by a camera unit 50, so as to inspect a defect in a conductive part pattern existing in the surface of the printed wiring board.例文帳に追加

表面に配線と絶縁体が存在するプリント配線板にレーザ光源62により入射光を入射させ、その表面を入射光で走査して、プリント配線板の表面からの蛍光をカメラユニット50で検知し、プリント配線板の表面にある導体部パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁

At the time of forming a circuit pattern on the surface of the circuit board by removing the unnecessary part of a metallic thin film formed on the surface of the board with the pulsed laser beam and plating the metallic thin film, the unnecessary part of the metallic thin film is removed by changing the pulse width of the pulsed laser beam in accordance with the scanning speed of the laser beam.例文帳に追加

基板表面に形成した金属薄膜の不要部分をパルス状レーザで除去し、この後、金属薄膜上にめっきを施して回路パターンを作成するにあたり、パルス状レーザの走査速度に応じて該パルス状レーザのパルス幅を変化させて金属薄膜の不要部分の除去を行う。 - 特許庁

The optical disk system 1 obtains an RF signal by using diffraction gratings 24 to which a specified diffraction pattern is provided corresponding to a laser beam of first wavelength, and when a laser beam of second wavelength different from the first wavelength is transmitted, and by adding non-diffraction and diffraction beams to an output signal of the laser beam of the second wavelength.例文帳に追加

この発明の光ディスク装置１は、第１の波長のレーザ光に対応させて規定された回折パターンが与えられた回折格子２４を用い、第１の波長とは異なる第２の波長のレーザ光が透過した場合に、その出力信号を、非回折と回折光を加算することにより、ＲＦ信号を得る。 - 特許庁

The hologram lens manufacturing apparatus 1 irradiates the hologram recording element with the reference light beam L1 at a given incident angle as a predetermined irradiation condition to thereby record an interference pattern occurring between the irradiation light beam L2 and the reference light beam as a hologram.例文帳に追加

またホログラムレンズ作製装置１は、ホログラム記録素子１５ａに対して所定の照射条件である入射角度でホログラム記録素子１５ａに参照光ビームＬ１を照射することにより照射光ビームＬ２及び参照光ビームＬ１による干渉パターンをホログラムとして記録するようにする。 - 特許庁

A laser beam applied by using a phase grating mask which diffracts the laser beam applied from above and forms grid-shaped interference fringes is allowed to interfere, a resist coated or deposited on the material surface is irradiated with the coherent beam and is developed and, thereby, a pattern corresponding to the periodic structure is formed.例文帳に追加

本発明は、上部から照射されたレーザー光を回折して格子状の干渉縞を形成する位相格子マスクを用いて、照射されたレーザー光を干渉させ、その干渉光を物質表面に塗布又は堆積したレジストに照射し、現像することによって、前記周期構造に対応するパターンを形成する。 - 特許庁

The electron beam aligner comprises a mask plate 1 equipped with an electron source 10 for discharging an electron beam from a region, depending on the desired transfer pattern, and an electron lens 2 interposed between the mask plate 1 and a substrate 3 to be transferred coated with an electron beam resist layer 4 and focusing the electrons discharged from the electron source 10.例文帳に追加

電子線を放出する電子源１０を備え所望の転写パターンに応じた領域から電子線を放出させるマスクプレート１と、マスクプレート１と電子線レジスト層４が塗布された被転写基板３との間に配置され電子源１０から放出された電子を集束する電子レンズ２とを備える。 - 特許庁

A substrate processing apparatus includes a lithographic apparatus which comprises an illumination system for supplying a projection beam of radiation, an array of individually controllable elements serving to impart the projection beam with a pattern in its cross-section, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of a substrate.例文帳に追加

基板処理装置は、放射の投影ビームを供給するための照明システム、投影ビームの断面にパターンを付与するべく機能する個々に制御可能な複数のエレメントのアレイ、及びパターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムを備えたリソグラフィ装置を備えている。 - 特許庁

As a result, the low-beam light distribution pattern LP is obtained in which a clear cut-off line CL is maintained and the luminous intensity of a prescribed portion (point A) is reduced.例文帳に追加

この結果、この発明は、明瞭なカットオフラインＣＬが保持されていてかつ所定の部分（ポイントＡ）の光度が下げられているすれ違い用配光パターンＬＰが得られる。 - 特許庁

The left side lamp 30L and the right side lamp 30R are provided with a shade for shielding a part of light emitted from a light source to form a light distributing pattern for a low beam.例文帳に追加

左側灯具３０Ｌおよび右側灯具３０Ｒは、光源から発せられる光の一部を遮蔽してロービーム用配光パターンを形成するシェードを備える。 - 特許庁

To provide a stencil mask for charged particle beam capable of being manufactured inexpensively, without having to employ an SOI (silicon-on insulator) substrate and avoided from the distortion of a substrate, while being formed through pattern forming with high accuracy.例文帳に追加

ＳＯＩ基板を用いることなく、安価に製造でき、基板の歪みが回避され高い精度でパターン形成された荷電粒子線用ステンシルマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method or the like which minimizes influence of change of blurring, which depends on pattern density, and improves imaging performance and throughput.例文帳に追加

パターン密度に依存したボケの変化の影響を最小限に抑え、結像性能やスループットの向上を目指した荷電粒子線露光方法等を提供する。 - 特許庁

Then, by this, compared with the case that the mirror member 18 is not installed, brightness of the lower end part of the light distribution pattern for the high beam is reduced and the center luminous intensity is increased.例文帳に追加

そしてこれにより、ミラー部材１８が設けられてない場合に比して、ハイビーム用配光パターンの下端部の明るさを減少させ、その中心光度を高める。 - 特許庁

The shape of the optical surface is analyzed based on an interference fringe pattern resulting from interference between the shaped wavefront mapped by the optical surface and the second beam of radiation.例文帳に追加

光学表面の形状は、光学表面によってマッピングされた成形波面と第二放射ビームとの干渉によって生じる干渉縞パターンに基づいて解析される。 - 特許庁

When a sonic speed is controlled in the direction of elevation, the beam pattern to be formed fixedly by an acoustic lens 40 can electronically be adjusted.例文帳に追加

この構成により、エレベーション方向に音速制御を行えば、音響レンズ４０によって固定的に形成されるビームパターンを電子的に調整することが可能となる。 - 特許庁

To provide a pattern size measuring method and an electrically-charged beam drawing method capable of simply and accurately measuring a size between adjacent resist patterns.例文帳に追加

隣接するレジストパターン間の寸法を簡便に且つ精度良く測定することが可能なパターン寸法測定方法及び荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁

If the periphery of a recess pattern is assumed as equal to or less than a crystal grain size in a direction vertical to the beam scanning direction, the band-like crystal grain can be continuously formed side by side.例文帳に追加

また、凹パターンの周囲をビーム走査方向と垂直方向の結晶粒径以下とすれば、連続的に帯状結晶粒を並べて形成することが可能である。 - 特許庁

A first or a second projected pattern P or Q is formed from a flash (laser beam) outputted from a light emitting element, and projected on the surface of a measured object S.例文帳に追加

発光素子から出射された閃光（レ−ザ光）から第１または第２の投影パタ−ンＰ、Ｑを形成して、被計測物体Ｓの表面に投影する。 - 特許庁

To reduce the damage on an insulating film at the periphery and lower part of a short-circuit defective part, when the short-circuit defective part in a wiring pattern is removed, using a focused ion beam.例文帳に追加

集束イオンビームを用いて配線パターンにおける短絡欠陥部を除去した場合における短絡欠陥部の周辺や下部の絶縁膜受けるダメージを低減する。 - 特許庁

To provide a liquid droplet discharge device which enhances the profile controllability of a pattern comprised of liquid droplets by stabilizing the optical properties of an energy beam cast on the liquid droplets.例文帳に追加

液滴に照射するエネルギービームの光学特性を安定化して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上した液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

Thus, the rotation angle of the phase modulation element is controlled with respect to the hologram recording medium, and the phase pattern of reference beam can be made identical in recording and reproducing.例文帳に追加

この結果、ホログラム記録媒体に対する位相変調素子の回転角を制御し、参照光の位相パターンを記録時と再生時とで一致させることが可能となる。 - 特許庁

To provide a technique by which good sensitivity is obtained with respect to a resist composition for a lithography process with EUV or an electron beam and a resist pattern forming method.例文帳に追加

ＥＵＶまたは電子線を用いたリソグラフィプロセス用のレジスト組成物及びレジストパターン形成方法において、良好な感度が得られる技術を提供する。 - 特許庁

To improve visibility of a side area in front side road face of a vehicle without adverse influence on formation of a light distribution pattern for a low beam in a head lamp for vehicle.例文帳に追加

車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンの形成に悪影響を及ぼすことなく、車両前方路面における側方領域の視認性を高める。 - 特許庁

To provide a system and method for generating unpolarized radiation beam for substantially reducing variation in critical dimension in the pattern formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成されるパターンのクリティカルディメンジョンのばらつきを実質的に低減するために非偏光放射ビームを生成するシステム及び方法を提供する。 - 特許庁

In the case of forming a space area shorter than the radius X1 of a beam spot 30, no preheating by an assist pulse is not carried out, but an offpulse pattern is fixed to a basic power level.例文帳に追加

ビームスポット３０の半径Ｘ１よりも短いスペース領域を形成する場合にはアシストパルスによる予熱を行わず、オフパルスパターンを基底パワーレベルに固定する。 - 特許庁

A first shade 38 forms a partial shape of a low-beam light distribution pattern in an oncoming lane area with the backward focal position of a projection lens 36 as an advance position.例文帳に追加

第１シェード３８は投影レンズ３６の後方焦点位置を進出位置として対向車線領域にロービーム用配光パターンの一部形状を形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser for emitting a laser beam where the shape is stable and the intensity center of a far field pattern in the horizontal direction does not vary with an optical output variation.例文帳に追加

光出力変化に伴う水平方向の遠視野像の強度中心が変動せず、且つ形状が安定したレーザ光を出射する半導体レーザを提供する。 - 特許庁

The screen printing metal mask is manufactured by irradiating a mask plate 1 with a laser beam 7, and perforating the plate 1 with printing pores 11 according to a predetermined printing pattern.例文帳に追加

スクリーン印刷用メタルマスクは、マスク板１にレーザ光７を照射し、マスク板１に所定の印刷パターンに従って印刷孔１１を穿孔してなるものである。 - 特許庁

The SACP (selected area channeling pattern) method includes a step of sending a charged particle beam to the surface of an object by using the particle optical system, and a step of detecting particle strength of a particle discharged from the object.例文帳に追加

SACP法は、粒子光学系を用いて物体表面に荷電粒子ビームを向けるステップと、物体から放出した粒子の強度を検出するステップとを含む。 - 特許庁

The exposure apparatus irradiates a workpiece W with a light beam of exposure light from an illumination optical system 160 through a mask M, and transfers a pattern Pa of the mask M to the workpiece W.例文帳に追加

露光装置は、照明光学系１６０からの露光光の光束をマスクＭを介してワークＷに照射し、マスクＭのパターンＰａをワークＷに転写する。 - 特許庁

A focusing position of the laser beam is moved so that a range of a changed refractive index caused by the multiphoton absorption can provide for a diffraction pattern causing a visible light to diffract.例文帳に追加

多光子吸収によって屈折率の変化した領域が、可視光を回折させる回折パターンを構成するようにレーザ光の収束位置を移動させる。 - 特許庁

Therefore, a light detecting part 3 located at the area near the stepped portion 2a can accurately detect the incident light beam, thereby preventing generation of the stripped pattern.例文帳に追加

そのため、この段差部２ａ近傍に位置する光検出部３が入射光を正確に検出することが可能となり、縞模様１１の発生を防止することができる。 - 特許庁

Without space for the time of vibration provided between the optical element 140 and the leaf spring 146, the occurrence of an interference pattern (speckle noise) due to the laser beam can be reduced.例文帳に追加

光学素子１４０と板バネ１４６との間に振動時用の空間を設けずに、レーザ光に起因した干渉パターン（スペックルノイズ）の発生を低減することができる。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure system which can prevent thermal deformation of a reticle mark to the utmost and a mark part on a reticle stage and form a more accurate pattern.例文帳に追加

レチクルマークやレチクルステージ上のマーク部の熱変形を極力防止し、より高精度なパターン形成を行うことができる荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

This spray condition inspection apparatus radiates a laser beam L to the transparent coating P sprayed from the nozzle 3, and visualizes the cross section D of a spray pattern of the transparent coating P.例文帳に追加

この噴射状態検査装置は、ノズル３から噴射される透明塗料Ｐにレーザ光Ｌを照射して、透明塗料Ｐの噴射パターンの断面Ｄを可視化する。 - 特許庁

A diffusion region of a light distribution pattern for a low beam is formed by the light reflected from the optical axis side region to ensure sufficient brightness in the diffusion region.例文帳に追加

そして、この光軸側方領域からの反射光によりロービーム用配光パターンの拡散領域を形成させ、該拡散領域に十分な明るさを確保する。 - 特許庁

To provide a high quality image the pitch of which is always uniform by detecting pattern densities and hence a pitch deviation and then adjusting a beam pitch based on the detected amount.例文帳に追加

パターン濃度を検出することによりピッチずれを検出し、その検出量からビームピッチを調整し、常にピッチのあった高品質な画像を提供する。 - 特許庁

An irradiation pattern 66 of the linear laser beam LB2 irradiating the board 60 has a uniform intensity distribution with respect to the direction along the predetermined fracturing line 71.例文帳に追加

被加工基板６０上に照射される線状のレーザビームＬＢ２の照射パターン６６は、割断予定線７１に沿う方向に関して均一な強度分布を有している。 - 特許庁

A plurality of patterns with different area densities are drawn changing an amount of irradiation of charged particle beam, and a relation with the amount of irradiation is found by measuring the dimension of the pattern after drawing.例文帳に追加

面積密度の異なる複数のパターンを荷電粒子ビームの照射量を変えて描画し、描画後のパターンの寸法を測定して照射量との関係を求める。 - 特許庁

To provide a repair method for a stencil type reticle capable of correcting a white defect part or black defect part generated in a transfer pattern formed by an electron beam scattering body.例文帳に追加

電子線散乱体によって形成された転写パターンに生じた白欠陥部又は黒欠陥部を修正できるステンシル型レチクルのリペア方法を提供する。 - 特許庁

As a result, the lower horizontal cut-off line CL1 and the slanted cut-off line CL2 of the low beam light distribution pattern LP can be formed in the high precision.例文帳に追加

この結果、この発明は、すれ違い用配光パターンＬＰの下水平カットオフラインＣＬ１および斜めカットオフラインＣＬ２を高精度に形成することができる。 - 特許庁