「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent charging and discharge breakdown of a resist accompanying irradiation of charged beam, and to improve pattern accuracy and production yield in exposure mask.例文帳に追加

荷電ビーム照射に伴うレジストの帯電及び放電破壊を防止することができ、露光用マスクにおけるパターン精度の向上及び製造歩留まりの向上をはかる。 - 特許庁

To provide a compact vehicle lighting fixture capable of forming an excellent low beam light distribution pattern by overlapping lights emitted from a smallest possible lighting fixture unit.例文帳に追加

最小限の灯具ユニットから出射する光を重ね合わせることで、良好なすれ違い配光パターンを形成することができるコンパクトな車両用灯具を提供する。 - 特許庁

A substrate, which is different from an optical fiber tape, having a structure of arranged optical fibers provided with arbitrary pattern and number of optical waveguides, is formed by a laser beam processing or the like.例文帳に追加

光ファイバを配列した構造の光ファイバテープとは異なり、レーザー加工などによって任意のパターンおよび本数の光導波路を備えた基板を形成できる。 - 特許庁

To make a fragile part in a uniform pattern when the fragile part is formed by irradiating laser beam while moving an interior material and a laser oscillator relatively by a moving means.例文帳に追加

移動手段によって内装材とレーザ発振器とを相対的に移動させながらレーザビームを照射して脆弱部を形成する際、均一な形状の脆弱部を得る。 - 特許庁

In a vehicular headlight 10, the low beam light distribution pattern having a horizontal cut-off line and an inclined cut-off line in which a prescribed inclination angle is included is projected toward the front of the car.例文帳に追加

車両用前照灯１０は、水平カットオフラインと、所定の傾斜角をなす傾斜カットオフラインと、を有するロービーム用配光パターンを車両前方に投影する。 - 特許庁

To project a laser beam in a ring-like pattern to a material to be machined by a mechanical method by using ordinary condensing members such as a convex lens and a prism.例文帳に追加

凸レンズやプリズムといった通常の集光部材を使用し、機械的方法によってレーザービームをリング状のパターンで被加工物に投射できるようにする。 - 特許庁

The region between the lands 41 is irradiated with the laser beam, which penetrates to the reverse side without being reflected by the reverse wiring pattern 5 even when transmitted through the transparent substrate 3.例文帳に追加

レーザビームがランド４１の間の領域に照射され、透明基板３を透過しても、裏面配線パターン５で反射することなく、裏面側まで通り抜ける。 - 特許庁

A first film is etched and processed in a prescribed pattern using as a mask a film obtained by irradiating a second film with an electron beam and then developing the second film.例文帳に追加

第２の膜に電子ビームを照射した後、第２の膜を現像して得られる膜をマスクとする第１の膜のエッチングにより第１の膜を所定パターンに加工する。 - 特許庁

Thus, the reflected light from a reflector 14 turning to the vicinity of the rear side focus F is shielded much, and the central luminosity of the light distribution pattern for the low beam is restrained low.例文帳に追加

これにより、後側焦点Ｆの近傍に向かうリフレクタ１４からの反射光を多く遮蔽して、ロービーム用配光パターンの中心光度を低く抑える。 - 特許庁

A far-field pattern of a laser beam L emitted from a semiconductor laser 18 is refined by an aperture member, and then the aperture image is formed on a photosensitive material F.例文帳に追加

半導体レーザ１８から出力されたレーザビームＬのファーフィールドパターンを開口部２４によって整形した後、その開口像を感光材料Ｆ上に形成する。 - 特許庁

To provide a raster scan charged particle beam drawing method for exposing a desired pattern efficiently with high reliability, and to provide an aligner and a process for fabricating a device.例文帳に追加

所望パターンを効率的かつ高い信頼性のもとに露光できるラスタースキャン荷電粒子線描画方法、露光装置、及びデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

According to the present invention, in order to maintain the temperature of array, a control signal is inputted in an array when the array is not used for pattern-forming a projection beam.例文帳に追加

本発明によれば、アレイの温度を維持するために、アレイが投影ビームをパターン形成するために使用されていないときに制御信号がアレイに入力される。 - 特許庁

Since noise is as large as N×1 pixels, this electron beam type inspecting device removes a detection pattern and a defect of N×1 by judging them to be generated by noise.例文帳に追加

電子線式検査装置において、ノイズがＮ×１画素の寸法であることに着目して、Ｎ×１の検出パターン、欠陥をノイズにより生じたものと考え削除する。 - 特許庁

In the micro pattern correction method, a correction part is baked by repeating laser-beam scanning from one end to the other in a baking process.例文帳に追加

この微細パターン修正方法では、焼成する工程において、修正部の一方端から他方端までレーザ光の走査を繰り返すことによって修正部を焼成する。 - 特許庁

To provide an aligner for manufacturing a semiconductor device comprising a fine pattern with a line width 100 nm or less by using an F2 excimer laser beam as an exposure light source.例文帳に追加

Ｆ_2 エキシマレーザ光を露光光源として用いて線幅が１００ｎｍ以下の微細パターンを有する半導体装置を製造するための露光装置の提供。 - 特許庁

The works are machined with the laser beam while changing the machining character strings including the predetermined variables in the procedure set according to the work, in accordance with the calculated working pattern.例文帳に追加

そして演算された加工パターンに従って、所定の変数を含む加工文字列を各加工対象物に応じて設定された手順で変化させながらレーザ加工する。 - 特許庁

The fine pattern is formed by condensing a particularly ultrashort pulse laser beam to focus on an interface between a substrate and a photosensitive resin layer so as to react the photosensitive resin layer.例文帳に追加

特に極短パルスレーザを、その焦点が基板と感光性樹脂層との界面に位置するように集光して、感光性樹脂層を反応させて微細パターンを形成する。 - 特許庁

The lane mark irradiation lamp 10 is a lighting fixture for a vehicle which is constructed so as to perform beam irradiation to the front road surface of a vehicle by a light distribution pattern for lane mark irradiation.例文帳に追加

レーンマーク照射灯１０は、レーンマーク照射用の配光パターンで車両前方路面へ向けてビーム照射を行うように構成された車両用灯具である。 - 特許庁

When an electron beam is irradiated on one point of a sample, the reflected electrons or the transmission electrons generated from the sample are collided with the scintillator, and a light-emitting pattern is formed.例文帳に追加

試料の一点に電子線を照射すると試料から発生した反射電子または透過電子はシンチレータに衝突して発光パターンが形成される。 - 特許庁

To provide a compact headlight for a vehicle capable of displacing a shading region formed in a light distribution pattern while securing distant place visibility by a high beam.例文帳に追加

ハイビームによって遠方視界を確保しながら、配光パターンに形成する遮光領域を変位させることができるコンパクトな車両用前照灯を提供する。 - 特許庁

A concentric circular FZP pattern portion 101 is provided on a Ta film on an SiN film by an electron beam drawing technique or the like to form a Fresnel zone plate (FZP) 100.例文帳に追加

ＳｉＮ膜上のＴａ膜上に電子線描写などの手法により同心円状のＦＺＰパターン部分１０１を設けてフレネルゾーンプレート（ＦＺＰ）１００とする。 - 特許庁

In order to attain spatial and selective irradiation, laser light 2 is radiated through the image of a photomask having a slit pattern or beam scanning is carried out.例文帳に追加

空間的に選択的にレーザ光を照射するには、スリット型に作成したフォトマスクの像を結像させて照射するか、あるいはビームを走査するなどして行う。 - 特許庁

After pattern exposure is carried out, by irradiating the resist film 11 made of positive chemical amplification type resist with an energy beam via a photomask, the resist film 11 is heated.例文帳に追加

ポジ型の化学増幅型レジストからなるレジスト膜１１にフォトマスクを介してエネルギービームを照射してパターン露光を行なった後、レジスト膜１１を加熱する。 - 特許庁

An opening 8 is provided in a part of the chuck 4 corresponding to the pattern region 7 of the reticle 6 shown in (c) to allow transmission of an illumination beam therethrough.例文帳に追加

チャック部４のうち、図１（ｃ）に示すレチクル６のパターン領域７に対応する部分には、開口部８が設けられていて、照明ビームが透過可能になっている。 - 特許庁

The scanning pattern 6 for a metallic product is fetched from the memory 13 and the metallic product is scanned with the laser beam when the object for printing is assigned to the metallic product.例文帳に追加

一方、印字対象物を金属製品と指定した場合には、金属製品用の走査パターン６がメモリ１３から取り出され、これに従ってレーザ光が走査される。 - 特許庁

Six deflectors D1, to D6 for deflecting the electron beam, so that a region of the illuminated pattern image on the reticle 7 is correctly transferred to a respective region on the wafer.例文帳に追加

６個の偏向器偏向器Ｄ_1〜Ｄ_6は、照明されたレチクル７上の部位のパターン像を、対応するウェハ上の部位に正しく転写するために電子線を偏向する。 - 特許庁

To provide an electron beam or X-ray resist composition having high sensitivity and high resolving power, excellent in PCD and capable of giving a pattern profile excellent in rectangularity.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、ＰＣＤに優れ、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができる電子線又はＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a system and method for exposure by which a fine pattern can be transferred without lowering a beam current, and to provide a stencil mask and a method of manufacturing semiconductor device.例文帳に追加

ビーム電流を下げることなく、微細なパターンを転写することができる露光装置、露光方法、ステンシルマスク、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for compensating for the effect of flare due to stray radiation in use of a projection system of lithographic apparatus to produce a pattern image on an image plane with a patterned radiation beam.例文帳に追加

パターン化放射線ビームで像面にパターン像を生成するために、リソグラフィ装置の投影システムの迷光放射線によるフレアの効果を補償する方法を提供する。 - 特許庁

To augment visibility at a sideways area in front of the road, without an adverse effect on formation of a low-beam light distribution pattern in a vehicle headlight.例文帳に追加

車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンの形成に悪影響を及ぼすことなく、車両前方路面における側方領域の視認性を高める。 - 特許庁

To provide a reticle for exposing and transferring a finer pattern by using as is the main part of a currently available charged beam exposure apparatus.例文帳に追加

現在考えられている方式の荷電粒子線露光装置の主要部分をそのまま使用しながらも、より微細なパターンを露光転写可能なレチクルを提供する。 - 特許庁

Then, the exposure beam and the sample are relatively scanned in the selected scanning direction, so that the pattern to be exposed is drawn and exposed on the sample.例文帳に追加

そして、前記露光ビームと前記試料とを相対的に前記選択した走査方向に走査させて前記試料上に前記露光すべきパターンを描画露光する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser outgoing a laser beam in which the strength center of a far field pattern in the horizontal direction accompanied with an optical output variation doesn't fluctuate and a profile is stable.例文帳に追加

光出力変化に伴う水平方向の遠視野像の強度中心が変動せず、且つ形状が安定したレーザ光を出射する半導体レーザを提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam or extreme ultraviolet superior in lithography characteristics such as sensitivity and resolution by suppressing defects, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

ディフェクトを抑制でき、かつ感度、解像性等のリソグラフィー特性にも優れた電子線又はＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the mask that is complementarily divided in the electron beam projection exposure, a pattern requiring high dimensional accuracy and the other patterns are arranged at one mask and the other masks, respectively.例文帳に追加

電子線投影露光における相補分割されたマスクにおいて、一つのマスクに高い寸法精度が要求されるパターンを、他方のマスクにそれ以外のパターンを配置する。 - 特許庁

Simultaneously with formation of first layer aluminum interconnections 63B, 64B, a dummy pattern of aluminum layer is formed in a region where a beam part 2B and an etching liquid injection opening 72B are formed.例文帳に追加

１層目アルミ配線６３Ｂ、６４Ｂの形成と同時に、梁部２Ｂおよびエッチング液注入口７２Ｂが形成される領域にアルミ層からなるダミーパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a double-face drawing apparatus which can directly draw a pattern with an exposure light beam on a resist layer on the top and the back surfaces of a substrate, and to provide a method for drawing an image.例文帳に追加

基材の表面および裏面のレジスト層に露光ビームでパターンを直接描画できる両面描画装置およびその描画方法を提供する。 - 特許庁

In the method for reducing the fogging effect in an electron beam lithography system, exposure is controlled in order to obtain a pattern matched to design data after processing.例文帳に追加

本発明は、電子ビームリソグラフィーシステムにおけるかぶり効果を減少させる方法に関し、設計データに一致する処理後のパターンを得るために露光が制御される。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having high sensitivity and high resolving power and reduced in development defects in pattern formation with an actinic radiation (electron beam, X-ray or EUV (extreme-ultraviolet ray)).例文帳に追加

活性放射線（電子線、Ｘ線又はＥＵＶ）によるパターン形成において、高感度、高解像力で、現像欠陥が低減されたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The laser beam is controlled with a digital micromirror device, and a pattern, with layer thickness values that are different between a reflective display section and a transmissive display section, is formed by controlling irradiation on the coloring resin layer.例文帳に追加

レーザー光はデジタル・マイクロミラー・デバイスにより制御され、着色樹脂層への照射量を調節して異なる膜厚を有するパターンを形成すること。 - 特許庁

By adjusting the intensity distribution of the laser beams of the beam spot, the ultra-fine pattern to be formed on the workpiece 102 is adjusted so as to be an intended shape.例文帳に追加

このビームスポットのレーザ光の光強度分布を調整することにより、加工対象物１０２に作製される超微細パターンを意図する形状になるよう調整する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining equipment which suppresses the generation of thermal lens effect due to a homogenizer, and avoids the deformation of an imaging pattern on an object to be machined or the reduction of resolution.例文帳に追加

ホモジナイザに起因する熱レンズ効果の発生を抑えて、加工対象上の結像パターンの歪みや解像度の低下を回避することのできるレーザ加工装置。 - 特許庁

To provide a droplet discharge device in which alignment accuracy between a striking position of a droplet and an irradiation position of a laser beam is improved and a shape controlling property of a pattern is improved.例文帳に追加

液滴の着弾位置とレーザ光の照射位置の整合精度を向上させて、パターンの形状制御性を向上させた液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

The peripheral rim isolation groove forming step comprises a step of scanning the laser in a way that the inside terminal of laser beam pattern in respective pulses is superposed on the burr preventing groove.例文帳に追加

前記周縁分離溝形成ステップは、各パルスにおけるレーザービームパターンの内側端部を、前記バリ防止溝に重ねるようにレーザーを走査するステップ、を含む。 - 特許庁

The personal computer 30 acquires the coordinates data of the marking pattern from an input bit map file, and controls the laser beam marker 40 based on the coordinates data.例文帳に追加

パソコン３０は、入力されたビットマップファイルからマーキングパターンの座標データを取得し、この座標データに基づいてレーザマーカー４０を制御するように構成されている。 - 特許庁