「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

Intensity of an interference beam for a second processed material with the same structure as the first material is individually measured on a plurality of wavelengths, and an actual pattern, which uses wavelength as a parameter, for a derivative value of the intensity of the measured interference beam is determined.例文帳に追加

次いで、前記第１の被処理材と同一構成の第２の被処理材についての干渉光の強度を複数波長についてそれぞれ測定し、該測定された干渉光強度の微分値の、波長をパラメータとする実パターンを求める。 - 特許庁

To apply a technique for enhancing the operating efficiency of an inspection when various conditions required for the inspection are set in the technique for inspecting a fine circuit pattern by using an image formed by irradiating white light, laser beam or electron beam.例文帳に追加

白色光・レーザ光・あるいは電子線を照射して形成された画像を用いて微細な回路パターンを検査する技術において、検査に必要な各種条件を設定する際にその操作効率を向上するための技術を適用する。 - 特許庁

To provide a focusing ion beam device that is capable of working precisely perpendicularly without difficulty, the pattern face capable of taking all directions in the remody process case of the defects of patterns having a penetration structure in the electron beam exposure mask.例文帳に追加

本発明の課題は、電子ビーム露光用マスクにおける貫通構造のパターン欠陥を修正加工する際に、あらゆる方向を取り得るパターン面を無理無く正確に垂直に加工することができる集束イオンビーム装置を提供することにある。 - 特許庁

In the exposure apparatus for exposing a circuit pattern on the original plate on the substrate under the vacuum environment, the optical beam scanning means is provided to scan the laser beam with the scanning optical system.例文帳に追加

真空環境下で原板上の回路パターンを基板上に露光する露光装置において、原板の近傍の空間に、レーザービームを走査光学系で走査することが可能な光ビーム走査手段を設けていることを特徴とする露光装置。 - 特許庁

To provide a mask for charged particle beam exposure eliminating thermal deflection and displacement of a membrane due to heat storage during exposure without blocking formation of a fine mask pattern, and to provide a method of manufacturing the mask for charged particle beam exposure.例文帳に追加

微細なマスクパターンの形成を阻害することなく、露光時の蓄熱に起因したメンブレンの熱たわみ及び位置ずれを解消することを可能とする荷電粒子線露光用マスク及び荷電粒子線露光用マスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an illumination device can carry out more pliable and flexible light distribution control than the light distribution control of binary modes for forming a light distribution pattern for a low beam and a light distribution for a high beam, when used for a vehicular lighting fixture.例文帳に追加

車両用灯具に使用されるとき、ロウビーム用配光パターン，ハイビーム用配光パターンの形成という２値的な配光制御以上のより柔軟で融通性のある配光制御を行なうことの可能な照明装置を提供する。 - 特許庁

The contact pin 42a, projected from a film 40 of the probe 22, has a curved part 42b and a beam part 42c extended toward a tangential-directional tip, and the beam 42c is crossed to an axial line XO in the vicinity of the contact pin 42a of a pattern wiring 42 to be inclined.例文帳に追加

コンタクトプローブ２２のフィルム４０から突出するコンタクトピン４２ａは湾曲部４２ｂとその接線方向先端に延びる梁部４２ｃとを有し、梁部４２ｃはパターン配線４２のコンタクトピン近傍の軸線ＸＯに交差して傾斜する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition having high sensitivity and capable of achieving an excellent pattern shape and excellent temporal stability, in pattern formation by irradiation with light such as an electron beam, a method for producing a relief pattern using the negative resist composition, and a method for producing a photomask using the negative resist composition.例文帳に追加

電子線等の光照射によるパターン形成において、高感度、且つ、優れたパターン形状、及び経時安定性を達成可能なネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたフォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for plotting the pattern of the photomask is characterized in that, when the pattern of the photomask is plotted by electron beams such offset correction is performed according to a lapsed time since the plotting work is started that an offset value added to the shot size of an electron beam plotting apparatus is increased or decreased gradually, and the pattern is plotted while changing a shot size.例文帳に追加

電子線によるフォトマスクのパターン描画において、描画開始からの経過時間にしたがって、電子ビーム描画装置のショットサイズに付加するオフセット値を漸次増加、もしくは減少させるオフセット補正を行い、ショットサイズを変更してパターン描画することを特徴とするフォトマスクのパターン描画方法である。 - 特許庁

To provide a master disk for magnetic transfer having a reference servo pattern for transfer suitable for a method for scanning and drawing an electron beam in an circumferential direction corresponding to a reference servo signal of a spiral system; to provide a drawing method of a pattern for magnetic transfer; and to provide a magnetic recording medium to which the magnetic transfer pattern is transferred.例文帳に追加

スパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応し、電子ビームを円周方向に走査して描画する方法に適する転写用のリファレンスサーボパターンを有する磁気転写用マスターディスク、その磁気転写用パターンの描画方法及びその磁気転写パターンが転写された磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a new cleaning liquid for lithography that can decrease the so-called surface defects of a product in a photoresist pattern, prevents collapse of a pattern during rinsing with water, imparts durability to a resist against electron beam irradiation, suppresses shrinkage of pattern and prevents contamination due to bacteria during storage.例文帳に追加

ホトレジストパターンについて、製品の表面欠陥、いわゆるディフェクトを減少させ、水リンス時におけるパターン倒れの発生を防止し、レジストの電子線照射に対する耐性を付与して、パターンの収縮を抑制するために用いられ、保存中にバクテリアによる汚染を生じることのない新規なリソグラフィー用洗浄液を提供する。 - 特許庁

In this headlamp device, a second lighting fixture unit is provided to form an additional light distribution pattern PA including an upper region from a cutoff line of a light distribution pattern for a low beam and to increase and decrease luminous intensity to each of a plurality of partial regions constituting a part of the additional light distribution pattern PA.例文帳に追加

前照灯装置において、第２灯具ユニットは、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含む付加配光パターンＰＡを形成し、それぞれが付加配光パターンＰＡの一部を構成する複数の部分領域の各々への照射光の光度を増減可能に設けられる。 - 特許庁

Two projection lenses are provided on the same surface plate to independently perform two exposures, that is, a cyclic pattern exposure referring to dual-beam flux interference exposure and an ordinary pattern exposure, excluding the cyclic pattern exposure, a mask for each of exposures is provided respectively, and then the respective exposures are performed by a unit of wafer and the wafer is exchanged within a short time.例文帳に追加

同一定盤上に、二光束干渉露光に代表される周期パターン露光と周期パターン露光を含まない通常パターン露光の２つの露光を独立可能とする投影レンズを２本設け、さらに、各露光用のマスクを各々設けて、各露光をウエハ単位で露光処理し、短時間にウエハ交換する。 - 特許庁

Prior to defect correction of the isolated pattern 4, a conductive coil spring 3 is formed at a tip of a conductive probe 1 by a focused ion beam-induced chemical vapor-grown metal film, and the probe is conducted with the isolated pattern 4 while reducing the contact pressure with a mask pattern by the coil spring 3 to prevent the charge-up.例文帳に追加

導電性プローブ1の先端に集束イオンビーム誘起化学気相成長金属膜で導電性のコイルバネ3を形成し、コイルバネ3によりマスクパターンとの接触圧を緩和して孤立したパターン4との導通を取り、チャージアップが起こらないようにしてから集束イオンビーム7で欠陥修正を行う。 - 特許庁

Then, in a low-beam light distribution pattern formed by the first unit and the second unit, a low-brightness part with brightness partially lowered is formed at an interface at either right and left end of a superposed part on a diffusion area forming pattern, out of peripheral edge parts for a cutoff line forming pattern formed by the sub units.例文帳に追加

そこで、第１ユニットと第２ユニットとで形成するすれ違いビームの配光パターンにおいて、サブユニットが形成するカットオフライン形成用パターンの周端部分のうち、拡散領域形成用パターンの上に重なる部分における左右両端側の境には、明るさが部分的に低減された低照度部が形成される。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a pattern which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, proper pattern profile and satisfactory line edge roughness, particularly in an electron beam, X-ray or EUV lithography in an ultrafine region, and to provide a pattern formation method that uses the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、および良好なラインエッジラフネスを同時に満足するパターンを形成可能な感活性光線または感放射線性樹脂組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The formation of the dot pattern in the state of stabilizing the energy of a laser beam LB by triggering a laser oscillator 44 to start irradiation earlier than the time for forming the dot pattern and therefore the unnecessary sensitization to an X-ray film 12 by the excess output energy can be prevented and the generation of the dot pattern having the lower visibility by the dot pattern formation by the insufficient energy can be prevented.例文帳に追加

レーザー発振器４４をドットパターン形成時期よりも早く照射を開始することで、レーザービームＬＢのエネルギーを安定させた状態でドットパターンを形成することができるため、過度の出力エネルギーによってＸレイフィルム１２への不必要な感光が防止でき、不足したエネルギーによるドットパターン形成による視認性の低いドットパターンの発生が防止できる。 - 特許庁

Variation amount of exposure conditions is calculated by obtaining an electron beam image of a first pattern part and a second pattern part, which are different in change tendency of a dimensional feature amount to variation of exposure conditions, calculating the dimensional feature amount of a first pattern part and a second pattern part and applying the dimensional feature amounts to a model which correlates exposure conditions and a dimensional feature amount.例文帳に追加

露光条件の変動に対する寸法特徴量の変化傾向が互いに異なる第１パターン部と第２パターン部の電子線像を取得し、第１パターン部および第２パターン部の寸法特徴量を算出し、これら寸法特徴量を露光条件と寸法特徴量を関連付けるモデルに当てはめることによって露光条件の変動量を算出するようにした。 - 特許庁

The first diffractive element is movable so that each of its diffraction pattern portions can be selectively positioned in the incident beam's path and the diffraction pattern portions of the first diffractive element are designed to cause the incident beam to have different spatial illumination profiles at a pupil plane of the incident beam while reducing effects caused by the incident beam's coherence.例文帳に追加

第１回折要素は、その回折パターン部分のそれぞれが入射ビームパス内で選択的に配置されえるよう移動可能であり、第１回折要素の回折パターン部分は、入射ビームが異なる空間照明プロファイルを入射ビームの瞳平面において有するように設計され、一方で入射ビームのコヒーレンスによって生じる効果を減らす。 - 特許庁

To provide a method for determining a correction pattern capable of correcting periodic unevenness of a rotary polygon mirror with high accuracy and reducing man-hours for selecting an optimum correction value, in determining a periodic unevenness correction pattern of an apparatus for scanning a recording body by deflecting a light beam with the rotary polygon mirror, and to provide a light beam scanner.例文帳に追加

光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的むら補正パターンを決定する場合、回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正できかつ最適な補正値選択のための工数を減らすことができる補正パターンの決定方法及び光ビーム走査装置を提供する。 - 特許庁

A receiving beam pattern where nulls are present in a direction symmetrical to the reception direction of a pulse signal is formed with the advance direction of a platform as a symmetry axis at each pulse signal received by a transmission/reception antenna 4-0 and receiving antennas 4-1 to 4 (N-1), and synthetic aperture processing to the receiving beam pattern is performed.例文帳に追加

送受信アンテナ４−０及び受信アンテナ４−１〜４−（Ｎ−１）により受信されるパルス信号毎に、プラットフォームの進行方向を対称軸として、当該パルス信号の受信方向と対称な方向にナルが存在する受信ビームパターンを形成し、その受信ビームパターンに対する合成開口処理を実施するように構成する。 - 特許庁

This is a method to join an abutting region of a sheath can and a seal plate by an energy irradiation process to draw a nearly rectangular pattern by using an energy beam, and it is executed so that energy beam irradiation start point and end point is positioned on the short side or in its vicinity of the rectangular pattern.例文帳に追加

外装缶と封口板との当接領域を、エネルギービームを用いて長方形パターン状に描画するエネルギー照射工程により溶接する方法であって、前記エネルギー照射工程のエネルギービーム照射開始点および終了点が前記長方形のパターンの短辺上またはその近傍に位置するように実行されることを特徴とする。 - 特許庁

A charged particle beam device selects an exposure type depending on a pattern to be exposed, sorts patterns by the selected exposure type, makes exposure data from the sorted patterns corresponding to the selected exposure type, and supplies the formed exposure data to each charged beam optical system of the selected exposure type to draw the pattern (S30).例文帳に追加

露光するパターンに応じて露光方式を選択し、選択された露光方式毎にパターンを振り分け、前記振り分けられたパターンから、選択された露光方式に応じた露光データを作成し、作成された露光データを、前記選択された露光方式の荷電粒子ビーム光学系のそれぞれに供給して前記パターンを描画する。 - 特許庁

A control method or a control apparatus is provided to the wireless network wherein a plurality of wireless stations each including an antenna capable of forming beams having both a sector pattern with a prescribed beam width and an omnidirectional beam pattern are provided and wireless communication is executed between a sender wireless station and a destination wireless station among the plurality of wireless stations.例文帳に追加

それぞれ所定のビーム幅を有するセクタパターンと無指向性のビームパターンの双方のビームを形成できるアンテナをそれぞれ含む複数の無線局を備え、上記複数の無線局のうちの発信元無線局と宛先無線局との間で複数ホップで無線通信を行う無線ネットワークのための制御方法又は制御装置である。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam, an X-ray or EUV light simultaneously satisfying requirements for high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, and good line-edge roughness in solving problems associated with performance improving techniques in micro processing of a semiconductor element using the electron beam, the X-ray or the EUV light, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a technique for controlling warp in a loom, a warp feed-out speed pattern used for driving of warp beam is previously set in a first period including a plurality of picks from starting of driving of the loom and the warp beam is rotated and driven according to the set warp feed out speed pattern in a first period after starting of operation.例文帳に追加

織機における経糸制御技術は、織機の運転開始から複数ピックの期間を含む第１の期間に経糸ビームの駆動に用いる経糸送出速度パターンを予め設定しておき、織機の運転開始後の第１の期間に、経糸ビームを設定された経糸送出速度パターンにしたがって回転駆動させることを特徴とする。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes, in the process of forming a resist pattern by a charged particle beam, a step of fabricating a conductor made of a conductive composition, consisting mainly of a conductive polymer, having a sulfonic acid group and/or a carboxyl group on a resist, and a step of removing the conductor, after irradiating it with a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子線によるレジストパターン形成時にレジスト上にスルホン酸基および／またはカルボキシル基を有する導電性ポリマーを主成分とする導電性組成物からなる導電体を形成する工程と、荷電粒子線照射後に当該導電体を除去する工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁

In a process for patternwise exposing a negative resist for an ink jet process of the pattern forming method, a pattern is formed by irradiation with an energy beam in an environmental atmosphere in which the contact angle between a negative resist surface which becomes developer-insoluble by an energy beam and ink becomes larger than the contact angle between an unirradiated developer-soluble surface part and the ink.例文帳に追加

インクジェット法のための、ネガ型レジストのパターン露光法において、エネルギー線により現像液不溶性となるネガ型レジスト表面のインクに対する接触角が、未照射部の現像液可溶性表面部のインクに対する接触角よりも大きくなる環境雰囲気中でエネルギー線を照射しパターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A laser beam from an LD 3 is reflected with a scanning angle given by a two-dimensional scanner 4 to be vibrated horizontally and vertically, and the reflected laser beam is changed in its scanning pattern by a scanning pattern changing part 9 to increase irradiation density in the vicinity of the vertical-directional center of the scanning angle, so as to be emitted around own vehicle.例文帳に追加

ＬＤ３からのレーザ光に対して水平方向及び垂直方向に振動するように２次元スキャナ４で走査角度を与えて反射させ、反射したレーザ光に対して垂直方向の走査角度の中心付近の照射密度が増大するように走査パターン変換部９で走査パターンを変換して自車周囲に照射する。 - 特許庁

By providing one pattern for generating a Z signal at a location corresponding to a reference location within the range of extent of a light beam with which the surface of a scale 9 to form A-phase and B-phase light is irradiated in the vicinity of a periodic pattern on the scale 9, three signals of A phase, B phase and the Z signal are obtained by one beam.例文帳に追加

上記のＡ相、Ｂ相光を形成させるスケール上の周期的パターンの近傍で、かつこのスケール面を照射している光ビームの広がりの範囲内の基準位置に対応した位置にＺ信号発生用のパターンを１箇所設けておくことにより１本のビームでＡ相、Ｂ相およびＺ信号の３信号を得る構成とした。 - 特許庁

The spread of the liquid drop A is stopped by an interaction with the laser beam, so that the pattern is more precisely formed compared with a method for forming the pattern by removing a solvent D (a dispersion medium) after the liquid drop A is naturally spread.例文帳に追加

前記レーザ光との相互作用により液滴Ａが広がることを停止させられるので、液滴Ａが自然に広がった後に溶媒（分散媒）Ｄを除去してパターンを形成する方法に比べて精度良いパターンの形成が可能となる。 - 特許庁

In one embodiment, the surface pattern can be easily realized by, for example, providing a shallow step on the surface of the light shielding film in the device pattern forming region, and making the reflection of light or electron beam different from surroundings.例文帳に追加

一実施例によれば、その表面パターンは、デバイスパターン形成領域の遮光膜の表面に、例えば、浅い段差などを設けることにより、光線又は電子線の反射が周囲と異なるようにしておくことによって、容易に実現できる。 - 特許庁

The method for forming the circuit comprises the steps of irradiating a first conductive material layer formed on the surface of the insulating material with a laser beam, removing the conductive material at the irradiated position to form a circuit pattern, and forming a second conductive material layer on the circuit pattern to form the circuit.例文帳に追加

絶縁材表面に形成された第１の導電材層にレーザ光を照射し、照射箇所の導電材を除去することにより回路パターンを形成し、回路パターン上に第２の導電材層を形成して回路を形成する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and a control method thereof capable of sufficiently coping with furthermore fining of a pattern by preventing alteration of the resist so as to suppress variations in the line width of the pattern, even when exposure such as electronic beam exposure takes much processing time per one substrate.例文帳に追加

電子ビーム露光のように、基板１枚あたりの処理時間が非常に長い場合でも、レジストの変質を防止してパターンの線幅変動を抑止し、パターンの更なる微細化に十分対応可能な信頼性の高い露光を実現する。 - 特許庁

After the substrate W, carrying the SiO2 pattern layer, is set in a first deposition unit 12 via a transporting device 10, a Ti layer is formed on the pattern layer and a contact layer is formed, by silicifying the Ti layer through irradiating of the Ti layer with a laser beam.例文帳に追加

次に、ＳｉＯ_2パターン層を形成した基板Ｗを、搬送装置１０を介して第１成膜ユニット１２中にセットし、基板ＷのＳｉＯ_2パターン層上に、Ｔｉ層を形成し、レーザ照射によってシリサイド化してコンタクト層とする。 - 特許庁

To provide a photomask defect repair device constituted so that the performance and the yield of a photomask are enhanced by efficiently eliminating the defective part of a chrome pattern caused while the chrome pattern laminated on a quartz plate is etched b using a laser light beam.例文帳に追加

石英プレート上に積層されたクロムパターンを食刻する中に発生したパターン欠陥部位をレーザー光で効率的に除去して、フォトマスクの性能及び収率を向上させるフォトマスク欠陥リペア装置を提供することである。 - 特許庁

Width in a radial direction for one track of a projected pattern or a recessed pattern constituting the header is made to be wider than at least an effective radius of read-out beam and further when adjacent tracks have the same patterns, a shape of continuous patterns in a radial direction is formed.例文帳に追加

ヘッダーを構成する凸パターン又は凹パターンの１トラック分の径方向幅を、少なくとも読み出しビームの有効径よりも広くし、さらに、隣接するトラックのパターンが同パターンの場合はパターンが径方向に連続する形状とする。 - 特許庁

The coil pattern, upon going round the rear side of the movable part 13, is taken in both ends into the center in the longitudinal direction of the beam part 12, and is connected with an electrically conductive pattern which is formed on the outer side of the support 11 through an electrically conductive adhesive.例文帳に追加

コイルパターンは可動部１３裏面を周回したうえで、その両端が梁部１２の長手方向中央へと引き回され、導電性接着剤を介して支持部１１外側面に形成された導電パターンと接続されている。 - 特許庁

In this case, the depth Lr and the position of each of the recesses 4 and 4 are decided so that the near field pattern of the laser beam has the same distribution as the light intensity distribution and the phase distribution obtained by inverse Fourier transformation of the far field pattern of the predetermined single lobe.例文帳に追加

この凹面４，４の深さＬｒおよび位置は、レーザ光の近視野像が、予め定めた単一ローブの遠視野像を逆フーリエ変換して求めた光強度分布および位相分布と同じ分布をなすように決められている。 - 特許庁

The shape of a pattern to be exposed is rendered to be a bit map, the pattern data in the bit map format is rearranged and stored for every scanning line 401, 402, 403, and 404, and exposure beam scanning on the sample 108 is subjected to on/off control based on the stored data.例文帳に追加

露光すべきパターンの形状をビットマップ化し、該ビットマップ形式のパターンデータを走査線４０１、４０２、４０３、４０４毎に並べ替えて記憶し、記憶したデータに基づいて試料１０８上を走査する露光ビームをオンオフ制御する。 - 特許庁

Then, before actually exposing the pattern of a reticle R onto the wafer W, is the pattern of the reticle R is illuminated with an EUV beam EL to measure a latent image formed on the resist subjected to silylation with the atomic force microscope(AFM).例文帳に追加

そして、レチクルＲのパターンをウエハＷ上に本露光するに先立って、レチクルＲのパターンをＥＵＶ光ＥＬで照明することによってシリル化レジストに形成された潜像を、原子間力顕微鏡ＡＦＭで計測する構成とした。 - 特許庁

To provide a means of forming a fine pattern with high accuracy while suppressing generation of an electric field without degrading the resolution of a resist on forming a pattern by irradiating a substrate having discontinuous electric conductivity with a charged particle beam.例文帳に追加

電気的導通が不連続な被加工基板に対し、荷電粒子線を照射してパターン形成を行う場合、電界の発生を抑止しつつ、かつ、レジストの解像性を損なうことなく、微細なパターンを精度よく形成する手段を提供する。 - 特許庁

The ultrasonic diagnostic therapeutic apparatus has a monitor for displaying a reference image obtained from volume data, a means of displaying a therapeutic beam pattern, which is superimposed on the position of the ultrasonic beam to be applied and which indicates the distribution of the ultrasonic intensity, on the reference image, and a means of displaying the reference image rotated around an arbitrary axis of the volume data together with the therapeutic beam pattern.例文帳に追加

ボリュームデータから得られるリファレンス像を表示できるモニタを備え、 治療用の超音波設定条件の入力により、前記リファレンス像上にて、これから照射しようとする超音波ビームの位置に重ねられかつ超音波強度の分布が示される治療用ビームパターンを表示する手段と、 前記リファレンス像は、前記治療用ビームパターンとともに該ボリュームデータの任意の軸の回りに回転させて表示できる手段と、を備える。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam; a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto an elongate target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されたパターニング・デバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の細長い目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device (formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam); a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターニング・デバイス（パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されている）を支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁