「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

A signal light pattern and a reference light pattern are simultaneously displayed at the center of the space optical modulator and its surroundings respectively to apply a laser beam, and a direct light and a diffracted from the space optimal modulator are stacked by the converging lens to be recorded in the recording medium.例文帳に追加

空間光変調器の中央に信号光用パターンを、その周囲に参照光用パターンを同時に表示させてレーザ光を照射し、空間光変調器からの直接光と回折光を集光レンズで重ね合わせて記録媒体に記録する。 - 特許庁

An exposure apparatus 100 illuminates a reticle 2 by a light beam from a light source 1, and uses a projection optical system 6 to project the pattern of the reticle 2 on a substrate 3, thereby exposing the substrate 3.例文帳に追加

露光装置１００は、光源１からの照明光で原版２を照明し該原版２のパターンを投影光学系６によって基板３に投影して該基板３を露光する。 - 特許庁

In particular, the pattern dimension is evaluated by using two or more kinds of patterns to suppress variance in the proximity effect in an electron beam (EB) drawing device while checking the size of the proximity effect.例文帳に追加

とくに、ＥＢ描画装置における近接効果のバラツキを少なくするために２種類以上を用いて、近接効果の大きさを確認しながらパターン寸法を評価する。 - 特許庁

With an object W being moved along the movement surface by driving a stage WST using a driver 11, an exposure beam irradiates the object W to transfer a specified pattern onto the object W.例文帳に追加

駆動装置１１を用いてステージＷＳＴを駆動することにより物体Ｗを移動面に沿って移動させつつ、露光ビームを照射して所定のパターンの転写を行う。 - 特許庁

A level of the beam pattern for a data channel transmitted from the in-zone sub-array antenna is aligned with a level of the total received power in a desired-station direction on the basis of the calculation result.例文帳に追加

この算出結果に基づき、所望局の方向において、在圏サブアレーアンテナから送信するデータチャネル用のビームパターンのレベルを当該合計受信電力のレベルに揃える。 - 特許庁

The storage part 211 stores laser output data to change emission intensity of a laser beam in one line of a main scanning direction depending on concentration alternation in an image formation result of a pattern image.例文帳に追加

記憶部２１１は、パターン画像の画像形成結果における濃度変化に応じて主走査方向の１ライン内でレーザビームの発光強度を変更させるレーザ出力データを記憶する。 - 特許庁

To provide an electron beam projecting inspection device capable of certainly inspecting the flaw and pattern of a magnetic recording medium regardless of the condition of an electronic optical system during measurement.例文帳に追加

磁気記録媒体に対して測定時の電子光学系の条件によらず、確実な欠陥検査及びパターン検査を可能にする電子線プロジェクション検査装置を提供する。 - 特許庁

To reduce a manufacturing cost by controlling write-in power without monitoring directly power of a laser beam generated by a laser light source, simplifying a substrate pattern of a flexible print substrate, and reducing its area.例文帳に追加

レーザ光源で発生されるレーザビームのパワーを直接モニタせずに書き込みパワーを制御し、フレキシブルプリント基板の基板パターンを簡単とし、その面積も小さくしてコストダウンを図る。 - 特許庁

To reduce the size, weight and cost of an actuator without adversely affecting formation of a light distribution pattern for a low beam, in a projector type vehicular headlamp equipped with a movable shade.例文帳に追加

可動シェードを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンの形成に悪影響を及ぼすことなく、アクチュエータの小型軽量化および低コスト化を図る。 - 特許庁

To enable securement of enough brightness of a light distribution pattern for a low beam even if a side insertion type lighting fixture constitution is adopted in a projector type vehicular headlight.例文帳に追加

プロジェクタ型の車両用前照灯において、側方挿入型の灯具構成を採用した場合であっても、ロービーム用配光パターンの明るさを十分に確保可能とする。 - 特許庁

To form pits of a uniform shape even in regions on the inside and outside of an information signal region in the manufacture of a master disk of optical disks using an electron beam pattern forming device.例文帳に追加

電子線描画装置を用いた光ディスク原盤の作製において、情報信号領域の内周及び外周部の領域においても均一な形状のピットを形成する。 - 特許庁

A marking device 10, disposed on the front end of a gantry jumbo 1, serves to display a boring position pattern and an excavation cross-section shape on a gutting face by irradiating a laser beam L.例文帳に追加

マーキング装置１０は、切羽に穿孔位置パターンや掘削断面形状をレーザ光線Ｌの照射により表示するものであって、ガントリージャンボ１の前端に配置されている。 - 特許庁

To provide an exposure device that adjusts light intensity distribution of a radiated beam to irradiate a mask with, and is conducive to properly forming a pattern on a substrate; and to provide an exposure method and method for manufacturing a device.例文帳に追加

マスクを照射する放射ビームの光強度分布を調整し、基板への適切なパターン形成に貢献できる露光装置、露光方法及びデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

When a plurality of steel sheets are mutually subjected to laser welding, a laser beam in a low heat input is superimposed to a weld zone so as to have a zigzag-shaped welding pattern at a fixed pitch, and welding is performed at a fixed speed.例文帳に追加

複数の鋼板を相互レーザ溶接する際に、溶接部に対して低入熱のレーザビームを一定ピッチのジグザグ状の溶接パターンに重畳させ、一定速度で溶接する。 - 特許庁

A pattern drawing apparatus includes a distance detecting part 5 acquiring a detected distance to the principal plane of a substrate 9, and a focusing mechanism 471 adjusting the focus of the light beam from a head.例文帳に追加

パターン描画装置は、基板９の主面との間の検出距離を取得する距離検出部５およびヘッドからの光ビームのフォーカス調整を行うフォーカス機構４７１を備える。 - 特許庁

However, an excitation X-ray 1 used as a probe should be of its beam diameter larger than the pattern dimension of the measuring object so that its irradiation range includes a number of repetitive patterns.例文帳に追加

ただし、照射範囲に多数の繰り返しパターンが含まれるように、プローブとして用いる励起Ｘ線１として、測定対象のパターン寸法よりも大きなビーム径のものを使用する。 - 特許庁

In the step for forming the auxiliary pattern 108, a solid solution of the high transmittance/low reflection layer and the low transmittance/high reflection layer is formed by irradiating the reflective layer 102 with an electron beam 204.例文帳に追加

補助パターン１０８を形成する工程では、反射層１０２に電子ビーム２０４を照射して、高透過率・低反射層と低透過率・高反射層の固溶体を形成する。 - 特許庁

The reversal shape of the character, mark or pattern to be transferred and formed to the surface of the molded product is directly carved in the inner surface (2) of the mold cavity (1) for molding a resin by a laser beam (5).例文帳に追加

樹脂成形用金型キャビティー（１）の内面（２）に、成型品の表面に転写形成されるべき文字、記号又は模様の反転形状を、レーザビーム（５）により直接刻印する。 - 特許庁

A circuit pattern of the flexible cable 6 comes into contact with and electrically connected to a contact part 32 of an elastic contact beam 31 to electrically connect the flexible cable 6 to respective contacts 3.例文帳に追加

フレキシブルケーブル６の回路パターンが弾性接触ビーム３１の接点部３２と接触して導通し、フレキシブルケーブル６と各コンタクト３とが電気的に接続されるようになる。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus which acquires a pattern image, or the like, by utilizing electron beams and especially can reduce unevenness in aberrations and intensity of the electron beam using a Wien filter.例文帳に追加

本発明は、電子ビームを利用して、パターン像等を取得する検査装置に関し、特に、ウィーンフィルタによる収差や電子ビームの強度むらを低減することができる検査装置に関する。 - 特許庁

To realize a mark position detecting method capable of measuring a pattern larger than an exposure deflection distance and to provide an electron beam exposure technique using the same.例文帳に追加

マルチ電子ビーム描画装置において、描画偏向距離よりも大きなパターン計測を可能にするマーク位置検出方法を実現し、それを用いた電子ビーム描画技術を提供する。 - 特許庁

A TFT board 11 supported by a placing table 20 is irradiated with a laser beam LB through a window 41 of a local machining part 40, and a short-circuited part 12A of a wiring pattern 12 is corrected.例文帳に追加

載置台２０に支持されたＴＦＴ基板１１に対して、局所加工部４０の窓４１を介してレーザ光ＬＢを照射し、配線パターン１２の短絡部１２Ａを修正する。 - 特許庁

To provide a projection mask in which the number of replacement is small, in an equipment for modifying a semiconductor thin film by radiating, on the semiconductor thin film, a laser beam in conformity with an opening pattern formed in the mask.例文帳に追加

マスクに形成した開口パターンに応じたレーザ光を半導体薄膜に照射し半導体薄膜を改質する装置において、交換回数が少ない投影マスクを実現する。 - 特許庁

Meanwhile, a part of the light beam incident on the diffusion pattern 46 penetrates it so as to narrow the directivity of the emitted light along longitudinal direction of the light conductive plate.例文帳に追加

このとき、拡散パターン４６に入射した光の一部が拡散パターン４６を透過することにより、出射光の導光板長さ方向における指向性が狭められる。 - 特許庁

To provide a low beam light distribution pattern for easy driving of a driver in one's own vehicle and hardly imparting glare to an oncoming car's driver, in a vehicle headlamp having an H4 bulb type light source bulb.例文帳に追加

Ｈ４バルブ型の光源バルブを備えた車両用前照灯において、自車ドライバには運転しやすく対向車ドライバにはグレアを与えるおそれが低いロービーム配光パターンを得る。 - 特許庁

This die is manufactured by drawing an image by changing the shape of an electronic beam in such a manner that the edge roughness of the pattern including at least edges other than edges being orthogonal and in parallel may become 30 nm or lower.例文帳に追加

直交及び平行するエッジ以外のエッジを少なくとも含むパターンのエッジラフネスが３０ｎｍ以下になるように電子ビームの形状を変化させて描画して、型を製造する。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor laser device and a manufacturing method of it which attains a smooth resonance plane, a good far-field pattern shape of a laser beam and furthermore the reduction of a threshold.例文帳に追加

共振面が平滑で、レーザ光のファーフィールドパターン形状の良好な、更にしきい値の低下された窒化物半導体レーザ素子及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁

To determine the optimum pattern dimension measuring condition of a charged particle beam system, in consideration of both a shrink amount (or deviation from a true value of a length measurement value) and a reproduction error amount.例文帳に追加

シュリンク量（あるいは測長値の真値からのずれ量）および再現性誤差量の双方を考慮して、荷電粒子線システムの最適なパターン寸法計測条件を決定する。 - 特許庁

A communication device 100, when establishing a link, transmits a preparatory packet using a transmission beam pattern used last to efficiently establish the directional link and to reduce the overhead.例文帳に追加

通信装置１００は、リンク確立時において、前回使用した送信ビーム・パターンを使って準備パケットを送信することによって、効率的に指向性リンクを確立し、オーバーヘッドを低減する。 - 特許庁

A lens 16 is disposed on a front face of the reflector 14, and a laser pattern for long distance is formed by changing the advancing direction by refracting the laser beam by the lens 16.例文帳に追加

また、リフレクター１４の前面にはレンズ１６が配置されており、レンズ１６によりレーザ光線を屈折させて進行方向を変更することにより、遠距離用のレーザパターンを生成する。 - 特許庁

To provide a means for measuring change in a deflection angle speed of a beam deflecting means for the moving speed of a marking object before marking of an identification code and an arbitrary pattern.例文帳に追加

識別コードや任意のパターンのマーキング前に、マーキング対象物の移動速度に対する、前記光線偏向手段の偏向角速度の変化を計測する手段を提供する。 - 特許庁

A light shielding plate is arranged between the reflector and the projection lens 20 and cuts off part of reflection light from the reflector and forms a low-beam light distribution pattern having a prescribed cut-off line.例文帳に追加

遮光板は、リフレクタと投影レンズ２０との間に配置され、リフレクタからの反射光の一部を遮蔽して所定のカットオフラインを有するロービーム配光パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a photomask manufacturing method and a charged particle beam lithography system, which suppress a reduction in pattern dimensional accuracy by absorption of an amine compound of a resist film in blanks.例文帳に追加

ブランクスにおけるレジスト膜のアミン性化合物の吸着によるパターン寸法精度の低下を抑えることが可能なフォトマスクの製造方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vehicular head lamp capable of automatically changing travelling-beam light distribution pattern according to the travelling condition of a car, etc., and light in weight, compact and inexpensive.例文帳に追加

車両の走行状況等に応じて自動的に走行ビーム用配光パターンを変化させることができると共に、軽量コンパクトで安価な車両用前照灯を提供する。 - 特許庁

The electron gun, when used for a multi-column electron beam exposure device, actualizes lower energy and higher vacuum, resulting in a smaller-size and lower-power high voltage power supply circuit and a higher-accuracy exposure pattern.例文帳に追加

本電子銃をマルチコラム電子ビーム露光装置に用いると、低エネルギー化と高真空度化、高圧電源回路の小型化・低電力化ができ、露光パターンの高精度化ができる。 - 特許庁

To provide a charged particle beam aligner which lessens blurs due to the Coulomb effect, without reducing the exposure current, thereby accurately transferring a fine pattern by exposure with a high throughput.例文帳に追加

露光電流を小さくすることなくクーロン効果によるボケを小さくし、微細なパターンを正確にかつスループット良く露光転写することができる荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

More specifically, the shape suitable for the resolution monitoring is a cross-sectional shape with a sidewall inclined to the extent of emitted primary electron beam not hitting against the sidewalls of the pattern.例文帳に追加

分解能モニタに適した形状とは，具体的には，照射された一次電子ビームがパターンの側壁に当たることのない程度に，側壁が傾斜している断面形状のことである。 - 特許庁

A template 3 premanufactured to have unevenness with high accuracy by the lithography employing an electron beam is pressed onto a resist film 2 coated on a substrate to transfer a resist pattern.例文帳に追加

基板上に塗布したレジスト膜２に、予め電子ビームを用いたリソグラフィー技術により高い精度の凹凸を持つように製作された型板３を押し付けて、レジストパターンを転写する。 - 特許庁

To obtain a resist material that makes good use of the rectilinear propagation of electrons as a characteristic of an electron beam at a high accelerating voltage and attains high throughput while retaining high pattern line width controlling capability.例文帳に追加

高加速電圧電子線の特性である電子の直進性を生かし、高いパターン線幅制御性を維持したまま、高スループットを得ることができるレジスト材料を提供する。 - 特許庁

This resist film 11 is patternwise exposed by irradiation with F2 laser beam 13 having wavelength of 157 nm band and the patternwise exposed resist film 11 is developed to form the objective resist pattern 14.例文帳に追加

レジスト膜に、１５７ｎｍ帯の波長を持つＦ_2 レーザ光１３を照射してパターン露光を行なった後、パターン露光されたレジスト膜１１を現像してレジストパターン１４を形成する。 - 特許庁

To provide a positive type electron beam or X-ray resist composition having high sensitivity and high resolving power, capable of giving a pattern profile with superior rectangularity and excellent in PBD stability.例文帳に追加

高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができしかもＰＢＤ安定性に優れたポジ型電子線又はＸ線レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The focusing measuring instrument photographs a prescribed test pattern displayed on a CRT 6 by means of a CCD camera 3 and calculates the energy intensity distribution of the electron beam of the CRT 6 by using the photographed picture.例文帳に追加

ＣＲＴ６に表示された所定のテストパターンをＣＣＤカメラ３で撮像し、その撮像画像を用いてＣＲＴ６の電子ビームのエネルギー強度分布が算出される。 - 特許庁

As a result, the images I1, I2, I3 are prevented from partly popping out of the cut-off line of the low-beam light distribution pattern LP, so that glare can be surely prevented.例文帳に追加

この結果、像Ｉ１、Ｉ２、Ｉ３の一部がすれ違い用配光パターンＬＰのカットオフラインＣＬ１から飛び出すのを防ぐことができるので、グレアを確実に防止することができる。 - 特許庁

The projection beam PB of radiation makes an exposed region 1" and a nonexposed region 2" on a resist layer R, corresponding to the light region 1 and the dark region 2 of a mask pattern.例文帳に追加

前記放射線の投影ビームＰＢは、マスクパターンの明領域１および暗領域２に対応して、それぞれ、レジスト層Ｒ上に露出領域１″および非露出領域２″を作る。 - 特許庁

When the light shading members 13S, 13W are positioned in a first location by means of the switching device 15, a light distribution pattern LP for low beam, having cutoff lines CL1, CL2, CL3, is illuminated.例文帳に追加

切替装置１５で遮光部材１３Ｓ、１３を第１位置に位置させたときには、カットオフラインＣＬ１、ＣＬ２、ＣＬ３を有するロービーム用配光パターンＬＰが照射される。 - 特許庁