「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a positive-type resist composition which is usable for forming patterns by using a high-energy ray having a wave length of 300 nm or shorter or an electron beam and can solve a problem of the occurrence of pattern exfoliation or pattern falling-down due to the penetration of a developing solution into an interface between the resist film and a substrate.例文帳に追加

３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成する際に使用できるレジスト組成物であって、レジスト膜と基板との界面に現像液が入り込み、パターンはがれやパターン倒れが生じるという問題を解決する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition satisfying requirements for high sensitivity, high resolution, a good pattern profile, good line edge roughness and reduction in outgassing, in an ultrafine region, particularly, in electron beam, X-ray or EUV lithography, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、およびアウトガス低減を同時に満足するポジ型レジスト組成物、それを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A visible light sensitive resin film layer (A), a sheet layer (B) transparent to visible light, a visible light shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which simultaneously satisfies sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance, in lithography especially using an electron beam, an X-ray or an EUV ray, and to provide a resist-film and pattern formation method utilizing the same.例文帳に追加

特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To adequately form an image corresponding to a pattern on the surface of an object OB to be machined when forming the pattern on the surface of a cylindrical tubular object OB to be machined having a very small diameter by the laser beam machining by using a two-dimensional spatial light modulator.例文帳に追加

直径が非常に小さい円筒パイプ状の加工対象物ＯＢの表面に２次元空間光変調器を用いてレーザ加工による模様を形成する際、前記模様に対応した像が加工対象物ＯＢの表面に適正に形成されるようにする。 - 特許庁

In addition, a method for exposure includes a step of extracting the pattern conforming to the preset condition out of the plurality of patterns to be plotted, and a step of plotting the extracted pattern in a multiplexed state by projecting the electron beam for the larger number of times than those to the nonextracted patterns.例文帳に追加

また、描画する複数のパターンのうち、予め設定された条件に適合したパターンを抽出する工程と、抽出されたパターンについて、抽出されなかったパターンより多くの回数の電子ビームを照射する多重描画を施す工程とを備える露光方法でもある。 - 特許庁

By the manufacturing method of a transparent substrate with a circuit pattern, a circuit pattern is formed on the transparent substrate by the irradiation of a laser beam of a wavelength of 1,064 nm on the transparent substrate with a thin film having a transparent conductive film with a carrier concentration of 5×10^19/cm^3 or higher on the transparent substrate.例文帳に追加

透明基板上にキャリア濃度が５×１０^１９／ｃｍ^３以上である透明導電膜を有する薄膜付き透明基板に、波長が１０６４ｎｍのレーザ光を照射して前記透明基板上に回路パターンを形成する、回路パターン付き透明基板の製造方法。 - 特許庁

The continuous recording layer is worked to the irregular pattern shape and after a recording element 32A is formed as the projecting part of the irregular pattern, the body 10 to be worked is irradiated with an ion beam from a direction inclined with a direction perpendicular to its surface to remove the projection 38 near the top surface end of the element 32.例文帳に追加

連続記録層を凹凸パターン形状に加工し、該凹凸パターンの凸部として記録要素３２Ａを形成してから、被加工体１０の表面に垂直な方向に対し、傾斜した方向からイオンビームを照射し、記録要素３２Ａの上面端部近傍の突起３８を除去する。 - 特許庁

The method for manufacturing a transfer mask includes steps of forming: an opening in a first substrate; a pattern forming part by bonding the first substrate in which the opening has been formed and a second substrate; and a charged particle beam through-hole in the pattern forming part.例文帳に追加

第１の基板に開口部を形成する工程と、開口部が形成された第１の基板と第２の基板とを接合してパターン形成部を形成する工程と、パターン形成部に荷電粒子線透過孔を形成する工程と、を含むことを特徴とする転写マスクの製造方法。 - 特許庁

A correction similar to the correction of irradiated region with respect to the pattern matching processing from the usual secondary ion image or secondary electron image of the ion beam defect correcting device is performed and a defect region 3b which is extracted by the AFM and is subjected to fine adjustment by the conformation of the pattern for alignment is corrected by ion beams 8.例文帳に追加

イオンビーム欠陥修正装置の通常の二次イオン像もしくは二次電子像からのパターンマッチング加工に対する照射領域の補正と同様な補正を行い、AFMで抽出し、位置合わせ用のパターンの合わせ込みで微調整された欠陥領域3bをイオンビーム8で修正する。 - 特許庁

To improve efficiency of condition setting, to shorten inspection time, and to improve reliability of an inspection, in a circuit pattern inspection device for inspecting, with an electron beam, a defect, foreign substance, residue, or the like of the same design pattern of a semiconductor device on a wafer in a manufacturing process of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上の半導体装置の同一設計パターンの欠陥，異物，残渣等を電子線により検査する回路パターン検査装置において、条件設定の効率、検査時間の短縮及び検査の信頼性を向上する。 - 特許庁

In this laser marking device where laser beam emitted from a laser beam source is guided onto a mask through an optical system accommodated in a shielding structure to transfer a pattern provided on the mask to a subject to be transferred, a holder 31 capable of holding a screen 35 for copying a shape of laser beam can be inserted into a correct position in the shielding structure.例文帳に追加

レーザ光源から射出されたレーザ光を所定の遮蔽構造１２内に収容された光学系を介してマスク上に導き、そのマスクに設けられたパターンを転写対象物に転写するレーザマーキング装置において、レーザ光のビーム形状を写し取るためのスクリーン３５を保持可能なホルダ３１を、前記遮蔽構造内の定位置に挿入可能とする。 - 特許庁

The optical master disk exposing device in which an exposing pattern is formed by intensity-modulating the laser light emitted from a gas laser 12 with a light modulator 13 and irradiating the surface to be exposed of a resist plate 29 with the intensity-modulated laser light by means of an objective lens 28, is provided with a beam expander 17 which expands the beam diameter of the exposed beam emitted from the gas laser 12.例文帳に追加

ガスレーザ（１２）から発射されたレーザ光を光変調器（１３）により強度変調し、強度変調されたレーザ光を対物レンズ（２８）によりレジスト板（２９）の被露光面に照射することにより露光パターンを形成する光ディスク原盤露光装置において、ガスレーザ（１２）から発射された露光ビームのビーム径を拡大するビームエキスパンダ（１７）を設けた。 - 特許庁

To restrain light distribution unevenness in case a low-beam light distribution pattern with a right-and-left unlevel cutoff lines are to be formed by a lamp tool unit of a projector type using a light-emitting diode as a light source.例文帳に追加

発光素子を光源とするプロジェクタ型の灯具ユニットにより、左右段違いのカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するようにした場合において、配光ムラの発生を抑制する。 - 特許庁

The acquired pattern of laser beam spots is any one of those in which spots are partially overlapped or entirely overlapped on links in N separate rows, separate links in the same row, and the same link.例文帳に追加

得られたレーザビームスポットのパターンは、Ｎ本の別個の列内のリンクか、同一の列内の別個のリンクか、同一のリンクかの上に、部分的に重複するか完全に重複するかのいずれかである。 - 特許庁

To provide a pattern forming system which irradiates a flying droplet with a laser beam to dry it and improves the drying efficiency of the flying droplet.例文帳に追加

飛行中の液滴にレーザ光を照射して飛行中の液滴を乾燥させるパターン形成装置において、飛行中の液滴の乾燥効率を向上させるパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

Since accurate alignment can be executed by the reflection-type pattern transfer device, the transfer device of high throughput can be provided through the use of a mask for the charged particle beam exposure of the reflection type.例文帳に追加

本発明によれば、反射型のパターン転写装置で高精度なアライメントが行なえるようになるため、反射型の荷電粒子ビーム露光用のマスクを使って高スループットの転写装置を提供できる。 - 特許庁

To provide a laser beam machining device and a machining method therefor for forming a nano structure having a predetermined ultra-fine pattern on a workpiece, and evaluating the machined shape of the nano structure in a short period of time.例文帳に追加

加工対象物に所定の超微細パターンを有するナノ構造物を作製し、ナノ構造物の加工形状の評価を短時間で行うレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供すること。 - 特許庁

After EB (electron beam) curing of the resist film 4, a photosensitive polysilazane film 7 is disposed on the carbon film 2 so as to cover the resist film 4 in such a way that the pattern recesses in the resist film 4 are nearly thoroughly filled.例文帳に追加

レジスト膜４にＥＢキュア処理を施した後、レジスト膜４を覆うように、感光性ポリシラザン膜７をカーボン膜２上に設け、レジスト膜４のパターン段差を略完全に無くすように埋め込む。 - 特許庁

By the adjustment method related to a recording strategy, an intensity-modulated laser beam is applied onto an optical information recording medium based on the recording strategy, and a pattern train consisting of marks and spaces is recorded.例文帳に追加

光学的情報記録媒体上に記録ストラテジに基づいて強度変調したレーザ光を照射し、マークとスペースによるパターン列を記録する際の記録ストラテジに関する調整方法である。 - 特許庁

Even when the illuminance of the depiction in the region is assumed to exceed the maximum allowable illuminance EMP permitted to be directed to human eyes, no damage is caused by the beam to the pedestrians, and the visibility of the pattern in the region is increased.例文帳に追加

かかる構成においては、制動操舵回避不可能領域に照射されるレーザビームにより歩行者にダメージを与えることはなく、また、その領域におけるレーザパターンの視認性が向上する。 - 特許庁

Two masks 23 and 24 are laminated and an object 33 to be machined is irradiated with the laser beam 34 through an opening pattern 32 for machining formed with the overlap of openings 30 and 31 of both masks 23 and 24.例文帳に追加

２枚のマスク２３、２４を重ね、両マスク２３、２４の開口３０、３１の重なりによって形成された加工用開口パターン３２を通して加工対象物３３にレーザー光３４を照射する。 - 特許庁

To provide a method for plotting by using a charged particle beam plotting apparatus which reduces a plotting time and improves plotting precision by reducing a pattern data quantity when plotting an oblique line.例文帳に追加

斜線の描画に際し、パターンデータ量を削減し、描画時間を短縮すると共に、描画精度も向上させることができる荷電粒子ビーム描画装置における描画方法を実現する。 - 特許庁

To provide an electron beam lithographic equipment to be used when manufacturing a master disk of an information recording medium such as an optical disk by which a desired pattern can be lithographed with high accuracy on the master disk.例文帳に追加

光ディスク等の情報記録媒体の原盤を作製する場合に使用される電子ビーム描画装置に関し、原盤に所望のパターンを高精度で描画することができるようにする。 - 特許庁

To prevent occurrence of light distribution irregularity when a light distribution pattern for a low beam having uneven right and left cutoff lines is formed by a projector type lamp unit using a light emitting element as a light source.例文帳に追加

発光素子を光源とするプロジェクタ型の灯具ユニットにより、左右段違いのカットオフラインを有するロービーム用配光パターンを形成するようにした場合において、配光ムラの発生を抑制する。 - 特許庁

By connecting the switch 54 to the primary electron beam high-speed deflection control circuit 43 for inspection allows high-speed deflection that follows stage movement, which conducts the inspection of a circuit pattern.例文帳に追加

スイッチ５４を検査用一次電子線高速偏向制御回路４３に接続することによりステージ移動に追従した高速偏向が可能となり、これによって回路パターンの検査が行われる。 - 特許庁

The stencil mask comprises a basic body and a parent material of mask supported by the basic body wherein the parent material of mask comprises a silicon compound thin film having a through hole pattern passing a charged particle beam.例文帳に追加

基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有するシリコン化合物薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁

An R (round) surface 20 of R shape is formed in front of an upper end edge 18c of a shade 18 which forms a cut-off line of low-beam light distribution pattern in the vehicle headlight of projector type.例文帳に追加

プロジェクタ型の車両用前照灯においてロービーム用の配光パターンのカットオフラインを形成するシェード１８の上端縁１８ｃの前側にＲ形状のＲ面２０を形成する。 - 特許庁

The stencil mask comprises a basic body and a parent material of mask supported by the basic body wherein the parent material of mask comprises a thin film principally comprising carbon and having a through hole pattern passing a charged particle beam.例文帳に追加

基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有する、炭素を主成分とする薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁

Subsequently, by detecting the inclusion of the same pattern in reception signals F2, (A+B+C+D) from light receiving elements 39a and 39c, whether the arrangement of the three beam spots is correct or not is inspected.例文帳に追加

その後に、受光素子３９ａ，３９ｃからの受光信号Ｆ２、（Ａ＋Ｂ＋Ｃ＋Ｄ）に同一パターンが含まれることの検出により、前記３つの光スポットの配置が正しいか検査される。 - 特許庁

A magnetic field is generated while the turntable 10 is rotated and the region to be irradiated with energy rays is heated by irradiating the region with the energy rays, such as a layer beam, to form the magnetization pattern on the magnetic recording medium 1.例文帳に追加

ターンテーブル１０を回転させながら磁界を発生させると共に、エネルギー線照射領域にレーザビーム等のエネルギー線を照射して加熱し、磁気記録媒体１に磁化パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a creation method of drawing data for drawing a figure pattern on a sample by using a charged particle beam in which the volume of the drawing data can be reduced.例文帳に追加

荷電粒子ビームを用いて試料に図形パターンを描画するための描画データの作成方法であって、描画データのデータ量を低減することが可能な描画データの作成方法を提供する。 - 特許庁

To solve a problem that image quality of a medium tone image is degraded due to a density change by dot deformation because a hounds-tooth check pattern is caused over medium density regions when a conventional error diffusion method is applied to a laser beam printer.例文帳に追加

従来の誤差拡散法をレーザビームプリンタに適用すると、中間濃度域にかけて千鳥格子パターンが発生し、ドット潰れによる濃度変化で、中間調画像の画質低下を生じる。 - 特許庁

To provide a laser beam machine capable of suppressing breakage of a connecting piece of a frame cutting part when the frame cutting part is formed as a planned cutting line at a position surrounding a pattern part.例文帳に追加

パターン部を取り囲む位置に切り取り予定線となる枠切り部を形成する場合に、その枠切り部のつなぎ片が破断することを抑制することができるレーザ加工機を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection device for which especially suitable maintenance can be carried out, for instance, when the circuit pattern of a semiconductor wafer or the like is inspected by using an electron beam.例文帳に追加

本発明は、電子ビームを利用して、例えば半導体ウェーハ等の回路パターンを検査する検査装置に関し、特に的確なメンテナンスを実施することができる検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a high quality pattern, in particular, a black matrix for a color filter, by which it is possible to easily perform cleaning and removing of decomposed matters or the like when ablation processing by laser beam is performed.例文帳に追加

レーザー光によるアブレーション加工を行う際、分解物などの洗浄除去を容易に行うことができ、高品質のパターン、特にカラーフィルタ用のブラックマトリックスを形成する方法を提供する。 - 特許庁

The present invention also includes at least one light output surface which forms part of the lens such that light received into the lens by the light input surface is directed to the light output surface, thereby producing a desired beam pattern.例文帳に追加

本発明は、レンズの一部を形成する少なくとも一つの光出力面を含み、光入力面によってレンズ内に受けた光が、光出力面に向けられ、所望のビームパターンを作り出す。 - 特許庁

At this time, the inclination and height of the micro pipe is adjusted in advance to expose so that the exposure beam spot is applied by a constant shape and size all the time, and a spiral space pattern with uniform line width is formed.例文帳に追加

その際、露光ビームのスポットが常に一定の形状、大きさで当たるように、予めマイクロパイプの傾斜・高さを調整してから露光し、均一な線幅の螺線スペースパターンを形成する。 - 特許庁

The pitch of the lattice pattern in each area A-D is determined so that the 1st order (-1st order) diffracted rays of the light beam emitted from each semiconductor leaser 101-104 is in accord with the X-axis.例文帳に追加

それぞれの領域Ａ〜Ｄ内の格子パタンのピッチは、それぞれの半導体レーザ１０１〜１０４から放射された光ビームの１次（−１次）回折光がＸ軸と一致するように決定されている。 - 特許庁

Further, the pattern forming material 48 which has not been sintered by the laser beam LB is removed from the substrate 41 and recovered, and reused, thereby, the utilization efficiency of the material can be improved.例文帳に追加

なお、レーザ光ＬＢにより焼結されなかったパターン形成材料４８は、基板４１上から除去されて回収され、再度使用するので、材料の利用効率を向上させることができる。 - 特許庁

To provide an imaging device capable of using a simple structure to block a light beam entering a device body from a penetrated terminal hole, without requiring a dedicated light-blocking member or conductive foil pattern.例文帳に追加

専用の遮光部材や導箔パターンを必要とすることなく、簡単な構造で貫通した端子穴から装置本体の内部に進入する光線を遮光することができる撮像装置を提供する。 - 特許庁

The grating element 8 has a grating pattern curved uniformly and is provided with a lens function for deviating the focal position of the respective sub beams along a direction of an optical axis with respect to the focal position of the main beam.例文帳に追加

そして、グレーティング素子８は、一様に湾曲した格子パターンを有し、メインビームの焦点位置に対して各サブビームの焦点位置を光軸方向に沿ってずらすレンズ機能を備える。 - 特許庁

To provide a lithography system using a programmable patterning means, in order to turn into pattern a projection beam in which throughput is enhanced, without significantly increasing the update speed of the patterning means.例文帳に追加

投影ビームをパターン化するためにプログラム可能パターニング手段を使うリソグラフィ投影装置に於いて、パターニング手段の更新速度をあまり上げることなくスループットを改善した装置を提供すること。 - 特許庁

Edges 8, 81, 82, 83 of a shade 5 forming cut-off lines CL1, CL2, CL3 of a light distribution pattern for low-beam passing light are located closer to the projection lens 7 side than to the second focus F2 of a reflecting surface 4.例文帳に追加

すれ違い用の配光パターンＰのカットオフラインＣＬ１、ＣＬ２、ＣＬ３を形成するシェード５のエッジ８、８１、８２、８３が反射面４の第２焦点Ｆ２よりも投影レンズ７側に位置する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining device in which a damage or the like is not given to the surface of a work and a laser irradiation is realized where an image is formed on the surface of the work when a pattern is copied.例文帳に追加

被加工物の表面に損傷等を与えることがなく、かつ、パターン転写を行った場合に被加工物の表面で結像可能なレーザ照射を実現できるレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁