「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a charged particle beam exposure method and a charged particle beam exposure system in which nonuniformity of CD (line width of pattern) due to fogging is improved.例文帳に追加

かぶりによるＣＤの不均一性を改善した荷電粒子ビーム露光方法及び荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

The interference pattern formed by the beam 1 and the beam 2 is detected and recorded by a 2-dimensional X-ray detector 5 in a subsequent stage.例文帳に追加

ビーム１とビーム２によって形成される干渉パターンは、後段の２次元Ｘ線検出器５により検出され記録される。 - 特許庁

An image carrier 1 and a developer image on the image carrier 1 are irradiated with laser beam, and the speckle pattern of the reflected laser beam is detected.例文帳に追加

像担持体１と像担持体１上の現像剤像にレーザー光を照射し、反射されたレーザー光のスペックルパターンを検出する。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor laser device, where the far field pattern of a laser beam is good and a laser beam in single mode can be obtained.例文帳に追加

レーザ光のファーフィールドパターンが良好で、単一モードのレーザ光が得られる窒化物半導体レーザ素子を提供することである。 - 特許庁

The beam forming circuit weights and combines the signals to output a reception signal corresponding to a beam having a predetermined directionality pattern.例文帳に追加

ビーム形成回路は、信号を重み付け合成して所定の指向性パターンを持つビームに対応する受信信号を出力する。 - 特許庁

Since the diffraction pattern of the diffraction element 2 has the shape of a sin curve, the spot of the sub beam is larger than that of the main beam.例文帳に追加

回折素子２の回折パターンはｓｉｎ曲線の形状をなしているため、副ビームのスポットは主ビームのスポットよりも大きくなる。 - 特許庁

METHOD FOR COMPENSATING VARIATION OF PATTERN SIZE CAUSED BY REDISPERSED ELECTRON BEAM ON PERFORMING ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND RECORDING MEDIUM RECORDING THE SAME例文帳に追加

電子ビームリソグラフィ時に再散乱した電子ビームによるパターンサイズの変化を補償する方法およびその方法を記録した記録媒体 - 特許庁

This electron beam transfer and exposure method is a method wherein the worst value of the beam edge resolution 61 of an electron optical system for projecting a pattern on a reticle on a responsive substrate is 0.9 to 1.0 times wider than the narrowest line width of an electron beam in the pattern.例文帳に追加

本発明の電子ビーム転写露光方法は、レチクル上のパターンを感応基板上に投影する電子光学系のビームエッジ分解能６１の最悪値がパターン中の最小線幅の０．９〜１．０倍である。 - 特許庁

The electron beam plotting method plots a desired pattern on a test piece with an electron beam, wherein the plotting is performed by moving the test piece so as to plot the desired pattern relative to the electron beam.例文帳に追加

電子ビームによって試料に所望のパターンを描画する電子ビーム描画方法であって、前記試料を前記電子ビームに対して前記所望のパターンを描くように動かすことにより、前記描画を行なうことを特徴とする。 - 特許庁

A probe head on the automatic jig side is provided with a light beam irradiating means to detect the position of an electric conduction pattern arranged at a known position with a light beam and the position of the light beam is obtained from the position of the electric conduction pattern and stored.例文帳に追加

自動治具側のプローブヘッドに光ビーム照射手段を設け、光ビームによって既知の位置に配置した導電パターンの位置を検出し、この導電パターンの位置により、光ビームの位置を取得して記憶させる。 - 特許庁

In a case of a low beam distribution pattern LP, an overhead sign board can be irradiated by using the reflected light C which is not used originally and a usual light volume of the low beam distribution pattern LP is not reduced and an optical designing of the low beam distribution pattern LP can be made easy.例文帳に追加

そのため、ロービーム配光パターンＬＰの際も、本来使用しない反射光Ｃを利用してオーバーヘッドサインを照射することができるため、ロービーム配光パターンＬＰの本来の光量が低下せず、ロービーム配光パターンＬＰの光学的設計が容易になる。 - 特許庁

As a result, the light distribution pattern LP for for the dipped beam formed of the low beam and a predetermined light distribution pattern P formed of the off-control light L5 are obtained, and the invalidated off-control light L5 can be effectively used at the irradiation time of the light distribution pattern LP for the dipped beam.例文帳に追加

この結果、ロービームで形成されるすれ違い用の配光パターンＬＰと、ＯＦＦ制御光Ｌ５で形成される所定の配光パターンＰとが得られ、すれ違い用の配光パターンＬＰの照射時において、無効化されているＯＦＦ制御光Ｌ５を有効活用することができる。 - 特許庁

To provide an evaluating method for a charged particle beam drawing device in which a pattern drawn using a charged particle beam is evaluated and when a desired pattern is not drawn, the cause thereof is specified, and to provide the charged particle beam drawing device that can draw the desired pattern on a sample.例文帳に追加

荷電粒子ビームを用いて描画されたパターンを評価し、所望のパターンが描画されていない場合に、その原因を特定することのできる荷電粒子ビーム描画装置の評価方法と、試料に所望のパターンを描画することのできる荷電粒子ビーム描画装置とを提供する。 - 特許庁

The relative positional relationship between a low beam filament 51 and a high beam filament 52 is set to a positional relationship where the virtual image of the irradiated part of the high beam filament 52 does not become glaring light in a low beam luminous intensity distribution pattern.例文帳に追加

ロービーム用フィラメント５１とハイビーム用フィラメント５２との相対位置関係を、ハイビーム用フィラメント５２の被照射部５２０の虚像８６がロービームの配光パターンＬＰでのグレア光とならない位置関係にある。 - 特許庁

A diffraction grating 41 is arranged so as to be rotated between a laser beam generator 40 and a cable 10, and the laser beam of the laser beam generator 40 is used as a pattern beam 43 configured of a plurality of slit beams 42.例文帳に追加

回折格子４１は、レーザ光発生器４０とケーブル１０との間に回動可能に配置されており、レーザ光発生器４０のレーザ光を複数のスリット光４２からなるパターン光４３とする。 - 特許庁

The charged particle beam exposure mask is a mask composed of a mask board and a pattern formed on it with openings, and the beam exposure mask is equipped with pattern regions 23 and 24 which are complementarily divided and a pattern region 22 which is not complementarily divided on the same mask 21.例文帳に追加

マスク基板に開口によってパターンが形成されている荷電粒子線露光用マスクであって、同一マスク２１内に相補分割されたパターン領域２３，２４と相補分割されていないパターン領域２２を有する。 - 特許庁

The laser beam marking device S comprises marking pattern input devices 10 and 20 to input the marking pattern to be marked on a work, a personal computer 30, a laser beam marker 40 to mark the marking pattern by irradiating the work with laser beams.例文帳に追加

本発明のレーザマーキング装置Ｓは、ワークにマーキングするマーキングパターンを入力するためのマーキングパターン入力装置１０，２０と、パソコン３０と、ワークにレーザ光を照射してマーキングパターンをマーキングするレーザマーカー４０と、を備えている。 - 特許庁

As a result, a low-beam light distribution pattern LP having sufficient luminous energy can be provided without degrading the luminous energy of the low-beam light distribution pattern LP as the main light distribution pattern formed from the light reflected from the main reflecting surface 7.例文帳に追加

この結果、メイン反射面７からの反射光から形成されるメイン配光パターンとしてのすれ違い用配光パターンＬＰの光量を低下させることなく、十分な光量のすれ違い用配光パターンＬＰが得られる。 - 特許庁

A high/infrared light switching type lighting fixture 60 is capable of applying the light by switching a high beam distribution pattern and an infrared light distribution pattern.例文帳に追加

ハイ／赤外光切替式灯具６０は、ハイビーム配光パターンと赤外光配光パターンとを切り替えて照射可能である。 - 特許庁

To improve the positional accuracy of a plotting beam obtained when a pattern is plotted without the consideration of the deterioration of the alignment pattern of a final product.例文帳に追加

最終製品のアライメントパターンの劣化を考慮することなく、パターンを描画する際の描画ビームの位置精度を向上させる。 - 特許庁

GENERATION METHOD OF PATTERN DATA FOR ELECTRON BEAM DRAWING, PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD USED FOR THE SAME, AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE DATA例文帳に追加

電子線描画用パターンデータの作成方法及びそれに用いる近接効果補正方法、そのデータを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To efficiently suppress charge-up of an isolated pattern without damaging the pattern in photomask defect correction using charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子ビームを用いたフォトマスク欠陥修正において、孤立パターンのチャージアップを、パターンを傷つけることなく、効率よく抑止する。 - 特許庁

The Pockels cell is used to correct polarization of the radiation beam, and the array of individually controllable reflective elements is used to give a pupil plane distribution to the radiation beam, and a patterning device is used to give a pattern to the radiation beam, and a projection system is used to project the radiation beam having had the pattern given thereto, to the substrate.例文帳に追加

ポッケルスセルを使用して放射ビームの偏光を修正し、個別的に制御可能な素子のアレイを使用して放射ビームに瞳面分布を与え、パターニングデバイスを使用して放射ビームにパターンを付与し、投影系を使用して、パターンが付与された放射ビームを基板に投影する。 - 特許庁

By converging the beam spot small, the board can be cut along a fine pattern.例文帳に追加

ビームスポットを小さく絞ることにより、微細なパターンに沿って基板を切断することが可能になる。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DEVICE, PATTERN EVALUATION METHOD USING IT, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING IT例文帳に追加

電子線装置、該装置を用いたパターン評価方法及び該装置を用いたデバイス製造方法 - 特許庁

To provide an electron beam lithographic system, capable of preventing decrease in dimensional accuracy, in pattern drawing.例文帳に追加

パターン描画における寸法精度の低下を防止できる電子線描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vehicle headlight which can provide an ideal low beam distribution pattern in a single unit.例文帳に追加

１つで理想的なロービーム配光パターンが得られる車両用前照灯を提供する。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM WRITING APPARATUS, AND APPARATUS AND METHOD FOR CORRECTING DIMENSION ERROR OF PATTERN例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画装置、パターンの寸法誤差補正装置及びパターンの寸法誤差補正方法 - 特許庁

Thus, a pattern can be formed without being influenced by a proximity effect of the electron beam.例文帳に追加

これにより、電子線ビームの近接効果の影響を受けずにパターン形成を行なうことが出来る。 - 特許庁

To provide not only a high-precision resist pattern but also reduce the time for drawing electron beam to a resist.例文帳に追加

高精度のレジストパターンを得るとともに、レジストへの電子線の描画時間を短縮する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

The extracted pattern is transformed into a graphic format of the ion beam defect correcting device and is transferred.例文帳に追加

抽出されたパターンはイオンビーム欠陥修正装置の図形フォーマットに変換し転送される。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING MEMS (MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEMS) WITH ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線を用いてＭＥＭＳ（ＭｉｃｒｏＥｌｅｃｔｒｏＭｅｃｈａｎｉｃａｌＳｙｓｔｅｍｓ）を製造するためのポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY DEVICE, METHOD OF CONTROLLING TEMPERATURE THEREOF, AND CIRCUIT PATTERN MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

電子線描画装置、電子線描画装置の温度制御方法、および回路パターン製造装置 - 特許庁

A receiver high-frequency circuit 19-3 synthesizes signals according to an antenna directivity having a desired beam pattern.例文帳に追加

受信側高周波回路１９−３は、所定のビームパタンのアンテナ指向性で合成する。 - 特許庁

Two receiving beams mutually coincident in main beam azimuth and different in side lobe pattern are formed.例文帳に追加

互いにメインビーム方位が一致し、かつサイドローブパターンが異なる２つの受信ビームを形成する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV OR X-RAY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、ＥＵＶ又はＸ線用ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

DEVICE FOR DETECTING POSITION OF OBJECT HAVING CONDUCTIVE PATTERN, DETECTING METHOD, AND LASER BEAM MACHINING DEVICE例文帳に追加

導電性パターンを有する対象物の位置検出装置、検出方法、及びレーザ加工装置 - 特許庁

A laser beam having a parallel light flux is projected toward a sample 1 formed with a periodical pattern.例文帳に追加

周期性パターンが形成された試料１に向けて平行光束のレーザビームを投射する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method and the like for accurately forming a pattern.例文帳に追加

高精度のパターン形成を行うことのできる荷電粒子ビーム露光方法等を提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY, OR UV, AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加

電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a resist composition suitable for use in fine pattern formation with an electron beam or extreme-ultraviolet radiation.例文帳に追加

電子線、極紫外線による微細パターン形成に好適なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The pattern region may have a shape inscribed in the irradiation range of an electron beam for exposure.例文帳に追加

また、パターン領域は、露光用電子ビームの照射範囲に内接する形状であってもよい。 - 特許庁