「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a vehicular lighting fixture capable of switching between a light distribution pattern for a high beam and a light distribution pattern for daytime running.例文帳に追加

ハイビーム用配光パターンとデイタイムランニング用配光パターンとの切り替えが可能な車両用灯具を提供する。 - 特許庁

Then, a beam with a second pattern is irradiated to a second target portion of the substrate to form the second pattern on the substrate.例文帳に追加

その後、基板の第２ターゲット部分に、第２パターン付きビームが照射されて、基板上に第２パターンを形成する。 - 特許庁

The optical pattern controller 115 has a beam deflector 130 drawing a circular optical pattern having a diameter proportional to the rotation speed.例文帳に追加

光パターンコントローラ１１５は、回転速度に比例する径を持つ円形光パターンを描くビーム偏向器１３０を有する。 - 特許庁

The hologram substrate 3 has a prescribed pattern shape and transmits and scatters the irradiated laser beam with the prescribed pattern.例文帳に追加

ホログラム基板３は所定のパターン形状を有しており、照射されたレーザー光を所定のパターンで透過、散乱する。 - 特許庁

To improve the accuracy of a drawing position in the circumferential direction of each pattern when a fine pattern formed by alternately disposing a groove pattern and a servo pattern in the circumferential direction is drawn by electron beam scanning.例文帳に追加

周方向にグルーブパターンとサーボパターンが交互に配置されてなる微細パターンを電子ビーム走査により描画する際の、各パターンの周方向描画位置の精度を向上させる。 - 特許庁

SUBSTRATE INSPECTION METHOD AND APPARATUS FOR CIRCUIT PATTERN USING CHARGED-PARTICLE BEAM例文帳に追加

荷電粒子線を用いた回路パターン用基板検査方法および基板検査装置 - 特許庁

To control the image formation performance of a pattern image by controlling the characteristics of a laser beam.例文帳に追加

レーザ光の特性を制御することで、パターン像の結像性能を制御する。 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM-DRAWING DEVICE, PATTERN INSPECTION DEVICE AND LAYOUT DISPLAYING METHOD例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画装置およびパターン検査装置並びにレイアウト表示方法 - 特許庁

To provide: an electron gun capable of obtaining desired pattern dimensions and pattern accuracy; a charged particle beam lithography system; and a charged particle beam lithography method.例文帳に追加

所望のパターン寸法とパターン精度を実現することが可能な電子銃および荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁

SUBSTRATE INSPECTION DEVICE FOR CIRCUIT PATTERN USING CHARGED PARTICLE BEAM AND SUBSTRATE INSPECTION METHOD例文帳に追加

荷電粒子線を用いた回路パターン用基板検査装置および基板検査方法 - 特許庁

The solvent is evaporated by making a light beam impinge on the pattern, while controlling so that the light beam will not be incident on a region where the pattern thus formed is not arranged.例文帳に追加

形成されたパターンが配置されていない領域には光ビームが入射しないように制御して、パターンに光ビームを入射させ、溶媒を蒸発させる。 - 特許庁

METHOD FOR EXPOSING TO ELECTRON BEAM, SEMICONDUCTOR DEVICE, METHOD FOR PROCESSING EXPOSURE PATTERN DATA, AND PROGRAM例文帳に追加

電子ビーム露光方法、半導体装置、露光パターンデータ処理方法およびプログラム - 特許庁

ELECTRON BEAM WRITING SYSTEM AND SEMICONDUCTOR HAVING PATTERN WRITTEN THEREBY例文帳に追加

電子ビ—ム描画装置およびそれにより描画されたパタ—ンを有する半導体デバイス - 特許庁

The substrate surface is shifted almost at constant speed in the periodic direction of the beam pattern.例文帳に追加

また、基板表面は、光パターンの周期方向に略等速度で移動させる。 - 特許庁

The parallactic picture pattern light beam 72 for the right eye enters the right eye 10 of the observer through the mirror 30, the parallactic picture pattern light beam 73 enters the left eye 11, so that a stereoscopic picture can be viewed.例文帳に追加

ミラー３０を経て観察者の右眼１０には右眼用視差像パタン光７２、左眼１１には左眼用視差像パタン光７３が入り、立体像が見られる。 - 特許庁

To improve a charged particle beam projection exposure in pattern transfer accuracy.例文帳に追加

パターン転写精度を向上できる荷電粒子線投影露光方法を提供する。 - 特許庁

A low beam light distribution pattern is formed by lighting of the first light source unit 14 and a high beam light distribution pattern is formed by additional lighting of the second light source unit 16.例文帳に追加

第１光源ユニット１４の点灯によりロービーム用配光パターンを形成し、第２光源ユニット１６の追加点灯によりハイビーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁

Then, by lighting of the second light source unit 16, high beam additional light distribution pattern which straddles at top and bottom the cut-off lines of the low-beam light distribution pattern is formed.例文帳に追加

そして、第２光源ユニット１６の点灯により、ロービーム用配光パターンのカットオフラインを上下に跨ぐハイビーム用付加配光パターンが形成されるようにする。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN OF RESIN COMPOSITION HAVING SULFONAMIDE STRUCTURE BY QUANTUM BEAM例文帳に追加

量子ビームによるスルホンアミド構造を有する樹脂組成物のパターン形成方法 - 特許庁

And, while keeping the output energy of the laser beam constant, the laser beam is outputted whenever the optical axis L faces a wiring pattern so as to plot the wiring pattern.例文帳に追加

そして、レーザ光の出力エネルギを一定にした状態で、光軸Ｌが配線パターンに対向する毎にレーザ光を出力して配線パターンを描画する。 - 特許庁

In use, the pattern is illuminated in illumination mode containing off-axis radiation beam.例文帳に追加

使用するとき、パターンは、オフアクシス放射ビームを含む照明モードで照明される。 - 特許庁

The farsighted lens 2b inflects the laser diode beam pattern C of laser beams entering from the laser diode 1 by largely narrowing it and illuminates beams with a long-range laser beam pattern B.例文帳に追加

遠距離レンズ２ｂは、レーザダイオード１から入射したレーザ光線のレーザダイオードビームパターンＣを大きく絞るように屈曲させ、遠距離レーザビームパターンＢのビームを照射する。 - 特許庁

To dynamically restrict relative fluctuation among factors at the time of pattern imprint in an optical beam offering unit, which offers optical beam including pattern information to a plate.例文帳に追加

板に対してパターン情報を含む光ビームを提供する光ビーム提供ユニットにおける要素間の相対的な変動をパターン転写時に動的に抑制する。 - 特許庁

To provide a laser device which outputs an elliptical pattern (including oval) of a laser beam, especially a green line pattern of a laser beam and furthermore is reduced in size.例文帳に追加

出力するレーザー光を楕円（長円を含む）パターン、とくに、グリーンラインパターンのレーザ光が出力でき、しかも小型化が可能なレーザ装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

An electron pattern forming system 100 projects an electron beam 1a onto a wafer 120.例文帳に追加

電子パターン形成システム１００では、電子ビーム１ａをウエハー１２０に投影する。 - 特許庁

To provide a vehicle headlight capable of switching to an optical system suitable for forming a light distribution pattern for a main beam in emitting a main beam while switching to an optical system suitable for forming a light distribution pattern for a low beam in emitting a low beam.例文帳に追加

すれ違いビーム時にはすれ違いビーム用配光パターンの形成に適した光学系に切り替え、走行ビーム時には走行ビーム用配光パターンの形成に適した光学系に切り替えることが可能な車両用前照灯を提供する。 - 特許庁

The development-loading evaluation pattern includes a plurality of dummy pattern parts B, C having pattern density corresponding to an electron beam exposure amount, and size measurement pattern parts A, A' provided in the vicinity of the dummy pattern parts.例文帳に追加

電子線露光量に対応したパターン密度を有する複数個のダミーパターン部Ｂ、Ｃと、ダミーパターン部に近接して設けられた寸法測定パターン部Ａ、Ａ´と、を備えたことを特徴とする現像ローディング評価パターン。 - 特許庁

In this charged particle beam exposure system, a reticle 1 on which a pattern is formed is illuminated with a charged particle beam, the charged partical beam which passes the reticle and is patterned is made to form an image on a sensitive substrate, and a pattern is transferred.例文帳に追加

本荷電粒子ビーム露光装置は、パターンを形成したレチクル１を荷電ビームで照明し、レチクルを通過してパターン化された荷電ビームを感応基板上に結像させてパターンを転写する装置である。 - 特許庁

Blightness in a left side end part of a low-beam light distribution pattern P(L) formed by beam emission from a headlamp unit is intensified by the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa formed by the beam emission from the auxiliary lamp unit.例文帳に追加

前照灯ユニットからのビーム照射により形成されるロービーム配光パターンＰ（Ｌ）の左側端部の明るさを、補助灯具ユニットからのビーム照射により形成される補助配光パターンＰａで補強する。 - 特許庁

A multi-beam pattern definition device 300 for use in a particle-beam processing or inspection apparatus is configured to irradiate a beam of electrically charged particles, allow passage of the beam through a plurality of apertures, and then form beamlets which are imaged onto a target.例文帳に追加

粒子ビーム処理または検査装置用のマルチビームパターン定義装置３００は、荷電粒子ビームを発生し、複数のアパーチャを通過させた後に、ターゲット上に結像されるビームレットを形成する。 - 特許庁

To accurately regulate a focus of a light beam radiated from a light beam radiation device, thereby performing pattern drawing with high accuracy.例文帳に追加

光ビーム照射装置から照射される光ビームの焦点を精度良く調節して、パターンの描画を精度良く行う。 - 特許庁

In one example, the patterning device is used to pattern the beam of radiation, which patterned beam is projected onto an object.例文帳に追加

パターニング用デバイスは、放射ビームにパターンを付与するのに用いられ、パターンが付与された放射ビームは対象物に投影される。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography device that accurately draws a pattern on a substrate by irradiating the substrate with an electron beam without any deviation.例文帳に追加

基板の上に電子線をずれなく照射して、基板にパターンを正確に描画しうる電子線描画装置を提供する。 - 特許庁

The electron beam lithography is for drawing a specified pattern on a blank with an electron beam scanned over the blank.例文帳に追加

基材に対して電子ビームを走査することにより前記基材に所定の描画パターンを描画する電子ビーム描画である。 - 特許庁

LINEARLY DRIVING DEVICE, VARIABLE SHUTTER DEVICE, BEAM SHAPING DEVICE, BEAM IRRADIATING DEVICE, DEFECT CORRECTION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

直線駆動装置、可変シャッター装置、ビーム成形装置、ビーム照射装置、欠陥修正方法及びパターン基板の製造方法 - 特許庁

The charged-particle beam lithography apparatus images a pattern on a substrate with the projected charged-particle beam through a projection system.例文帳に追加

本発明は、荷電粒子線を用いて投影系を介して基板にパターンを描画する荷電粒子線描画装置である。 - 特許庁

A prism 80 is disposed on the optical path of the laser beam, reflected on the light controller 8 for correcting the pattern of the laser beam.例文帳に追加

プリズム８０は、光制御装置８から反射されるレーザ光の光路上に配置され、レーザ光のビームパターンを補正する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, ELECTRON BEAM DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING CONCAVO-CONVEX PATTERN CARRIER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、電子ビーム描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

To provide a vehicle headlamp for forming a desired light distribution pattern for a low beam.例文帳に追加

所望のロービーム用配光パターンを形成する車両用前照灯を提供する。 - 特許庁

To obtain a receiver that controls an array antenna beam pattern to surely receive a desired wave.例文帳に追加

アレーアンテナビームパターンを制御して希望波を確実に受信できる受信装置を得る。 - 特許庁

The lamp unit 10 is one for forming a light distribution pattern for low beam.例文帳に追加

灯具ユニット１０は、ロービーム用配光パターンを形成するための灯具ユニットである。 - 特許庁

A light scattering pattern 4 is formed with a laser beam at the side face of the light transmission body 1.例文帳に追加

導光体１の側面には光散乱パターン４がレーザ光にて形成されている。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, METHOD FOR CALCULATING VARIATION AMOUNT OF MOVING STAGE, AND PATTERN DRAWING METHOD例文帳に追加

電子線描画装置、移動ステージ変動量算出方法及びパターン描画方法 - 特許庁

METHOD OF ESTIMATING LINE WIDTH AND OUT-OF-FOCUS AMOUNT OF PATTERN FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

荷電粒子線露光装置におけるパターンの線幅及びボケ量の推定方法 - 特許庁

To restrain light irradiated more upward than a cutoff line of a low-beam light distribution pattern.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンのカットオフラインよりも上方へ照射される光を抑制する。 - 特許庁