「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

As the pattern of the beam, the beam cut distance of a center beam 3 is long in the case of a straight-line section (a), and side beams 4, 5 are short.例文帳に追加

このビームのパターンは、直線区間の場合（ａ）は、センタビーム３のビームカット距離が長く、サイドビーム４，５は短い。 - 特許庁

An electron beam irradiating pattern mask 10 is stuck close to an electron beam hardening type pattern formation layer 2, and the pattern formation layer 2 is irradiated with electron beams to form a prescribed conductive pattern.例文帳に追加

電子線硬化型のパターン形成層２に電子線照射用パターンマスク１０を密着させ、パターン形成層２に電子線を照射し、所定の導電パターンを形成する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING PATTERN-FORMED BODY, AND ELECTROMAGNETIC BEAM MACHINING DEVICE例文帳に追加

パターン形成体の製造方法および電磁ビーム加工装置 - 特許庁

DRAWING PATTERN RESIZING METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY METHOD例文帳に追加

描画パターンのリサイズ方法及び荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING PATTERN-FORMED BODY AND ELECTROMAGNETIC BEAM MACHINING APPARATUS例文帳に追加

パターン形成体の製造方法および電磁ビーム加工装置 - 特許庁

FOCUS CORRECTION METHOD IN ELECTRONIC BEAM APPLIED CIRCUIT PATTERN INSPECTION例文帳に追加

電子ビーム応用回路パターン検査における焦点補正方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PATTERN DATA LITHOGRAPHY OF ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC DEVICE例文帳に追加

電子ビーム描画装置のパターンデータ描画方法及び装置 - 特許庁

An electron beam batch exposure method is used as a pattern manufacturing method.例文帳に追加

パターン作製法として、電子ビーム一括露光法を用いる。 - 特許庁

PRESUMPTION METHOD OF EXPOSURE PATTERN IN CHARGED PARTICLE BEAM ALINGER例文帳に追加

荷電粒子線露光装置における露光パターンの推定方法 - 特許庁

PATTERN SIZE MEASURING METHOD AND ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD例文帳に追加

パターン寸法測定方法及び荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子ビーム露光方法及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

(5) The marking within the outline pattern is cured by ultraviolet beam at the step S7.例文帳に追加

（５）輪郭パターン内のマーキングを紫外線で硬化する（Ｓ７）。 - 特許庁

STENCIL RETICLE INCLUDING SCATTERING PATTERN FOR ELECTRON BEAM PROJECTION LITHOGRAPHY例文帳に追加

電子ビーム投影リソグラフィ用の散乱パターンを含むステンシルレチクル - 特許庁

VEHICULAR HEADLIGHT WITH BEAM PATTERN FORMED BY SEMICONDUCTOR LIGHT SOURCE例文帳に追加

ビームパターンが半導体光源で形成される車両用ヘッドライト - 特許庁

FORMING METHOD OF RESIST PATTERN AND WRITING METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM例文帳に追加

レジストパターンの形成方法、及び荷電粒子線描画方法 - 特許庁

BEAM FORMING OPTICAL ELEMENT AND PATTERN PLOTTING APPARATUS WITH THE SAME例文帳に追加

ビーム成形光学素子およびそれを備えたパターン描画装置 - 特許庁

MASK FOR TRANSFERRING PATTERN AND CHARGED PARTICLE BEAM TRANSFER EXPOSURE METHOD例文帳に追加

パターン転写用マスク及び荷電粒子線転写露光方法 - 特許庁

PATTERN DRAWING METHOD AND APPARATUS FOR CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

荷電粒子ビーム描画装置のパターン描画方法及び装置 - 特許庁

PATTERN TRANSFER TYPE CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE DEVICE, EXPOSING METHOD OF PATTERN TRANSFER TYPE CHARGED PARTICLAE BEAM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン転写型荷電粒子線露光装置、パターン転写型荷電粒子線露光方法及び半導体素子の製造方法 - 特許庁

The obtained beam pattern, beam direction, and transmission time slot are used to transmit a down signal.例文帳に追加

求められたビームパタン、ビーム方向及び送信タイムスロットを用いて、下り信号を送信する。 - 特許庁

Then, either one in two beam paths of the laser beam 3 is positioned according to the working pattern.例文帳に追加

そして、加工パターンに応じてレーザ光３を２つの光路のいずれか一方に位置決めする。 - 特許庁

When a projection beam PB irradiates the reticle, the projection beam is patterned with a pattern on the reticle.例文帳に追加

レチクルに投影ビームＰＢを照射すると、投影ビームはレチクル上のパターンにパターン形成される。 - 特許庁

HOLOGRAM PLATE FOR ELECTRON BEAM HOLOGRAPHY AND PATTERN FORMING METHOD BY ELECTRON BEAM HOLOGRAPHY例文帳に追加

原子線ホログラフィ用のホログラム板およびそれを用いた原子線ホログラフィによるパターン形成方法 - 特許庁

This electron beam exposure system exposes a pattern on a wafer by an electron beam, and has a wafer stage 152 and an electron beam generating section for generating the electron beam.例文帳に追加

電子ビームによりウェハにパターンを露光する電子ビーム露光装置は、ウェハステージ１５２と、電子ビームを発生する電子ビーム発生部とを備える。 - 特許庁

A beam scan controller 22 and a beam scan pattern table 52 are provided, and a changing pattern in the irradiation direction in a scan process due to the transmission beam is switched for each scan.例文帳に追加

ビーム走査制御器２２とビーム走査パターンテーブル５２とを設けて、送信ビームによる走査の過程における照射方向の切り換えパターンを、個々の走査毎に切り換える。 - 特許庁

To provide a lamp unit for vehicle capable of turning over a light distribution pattern of low beam and high beam in one projector lens, and forming a superimposed strong light-condensing pattern in the high beam, without a sense of incongruity with the low beam.例文帳に追加

一つの投影レンズでロービームとハイビームの配光パターンを切替でき、ハイビームではロービームと違和感なく重ね合わせた強い集光パターンを形成できる車両用灯具ユニットを提供する。 - 特許庁

To provide a laser beam machining method and a laser beam machining apparatus where contact and spacing deviation do not occur between a pattern formed on a substrate in a preprocess by a laser beam and a pattern formed on the substrate in the postprocess by a laser beam.例文帳に追加

前段のプロセスでレーザ光により基板に形成したパターンと、後段のプロセスでレーザ光によりこの基板に形成するパターンとが接触や間隔ずれを起こさないようにする。 - 特許庁

The transfer apparatus writes a pattern with a beam on a resist on a substrate.例文帳に追加

基板上のレジストにビームによってパターンを描く転写装置。 - 特許庁

A formed aperture with pattern 12 is positioned in the optical path of an electron beam.例文帳に追加

パターン付成形開口１２を電子線光路内に位置させる。 - 特許庁

ANTENNA BEAM PATTERN CONTROL METHOD, BASE STATION DEVICE, AND WIRELESS COMMUNICATION SYSTEM例文帳に追加

アンテナビームパターン制御方法、基地局装置、及び無線通信システム - 特許庁

METHOD FOR REPAIRING DEFECT OF PATTERN FORMED ON TRANSFERRED MASK FOR ELECTRON BEAM例文帳に追加

電子線用転写マスクに形成されたパターンの欠陥修正法 - 特許庁

To provide an optical unit forming both a low beam light distribution pattern and a high beam light distribution pattern with a simpler structure.例文帳に追加

より簡単な構成でロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンとを形成することができる光学ユニットを提供する。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To improve positioning accuracy of a pattern in the circumferential direction in an electron beam lithography method to conduct pattern drawing by irradiation of an electron beam.例文帳に追加

電子ビームを照射してパターン描画を行う電子ビーム描画方法において、パターンの円周方向配置精度を向上させる。 - 特許庁

ELECTRON BEAM APPARATUS AND PATTERN EVALUATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線装置及び該電子線装置を用いたパターン評価方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE ACTIVE ENERGY BEAM-SENSITIVE DRY FILM AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感活性エネルギー線性ドライフィルム及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a beam former having an improved light distribution pattern.例文帳に追加

改良された光分配パターンを有するビーム成形装置を得る。 - 特許庁

VERIFICATION TOOL FOR WRITING PATTERN DATA FOR VARIABLE SHAPED BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

可変成形型描画装置用の描画図形データの検証ツール - 特許庁

The first light line of the interference pattern is utilized as a scanning beam.例文帳に追加

この干渉縞の最初の明線を走査ビームとして使用する。 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING PERIODIC UNEVENNESS CORRECTION PATTERN, AND LIGHT BEAM SCANNER例文帳に追加

周期的むら補正パターンの決定方法及び光ビーム走査装置 - 特許庁

VARIABLE RECTANGULAR ELECTRON BEAM EXPOSURE APPARATUS AND PATTERN EXPOSURE FORMATION METHOD例文帳に追加

可変矩形型電子ビーム露光装置及びパターン露光・形成方法 - 特許庁

The terminal B performs directional transmission of an ACK by the sector one-beam pattern.例文帳に追加

端末Ｂはセクタ１ビームパターンでＡＣＫを指向性送信する。 - 特許庁

CHARGED BEAM WRITING DEVICE, PATTERN WRITING METHOD AND STORAGE MEDIUM例文帳に追加

荷電ビーム描画装置およびパターン描画方法並びに記録媒体 - 特許庁

A pattern (1) is made up of a horizontal line pattern 30 drawn by a beam from a light source LD0 and a diagonal line pattern 31 whose angle of inclination is 45° drawn by a beam from a light source LD1.例文帳に追加

パターン（１）は光源ＬＤ０からのビームで描く水平線パターン３０と他の光源ＬＤ１からのビームで描く傾き４５°の斜め線パターン３１からなる。 - 特許庁