「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To stably form a groove pattern which is thinner than the spot diameter of an exposure beam through a simple process.例文帳に追加

露光ビームのスポット径よりも細い溝パタ−ンを簡単な工程で安定して形成する。 - 特許庁

PATTERN TEST DEVICE USING ELECTRON BEAM, AS WELL AS MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

電子ビームを用いたパターン検査装置、並びに、それを用いた半導体デバイス製造方法 - 特許庁

ORGANIC SOLVENT BASED DEVELOPMENT OR MULTIPLE DEVELOPMENT PATTERN-FORMING METHOD USING ELECTRON BEAM OR EUV RAY例文帳に追加

電子線又はＥＵＶ光を用いた有機溶剤系現像又は多重現像パターン形成方法 - 特許庁

To provide an innovative layout of pixels of a pattern generating device of a reflection electron beam lithography device.例文帳に追加

反射電子ビームリソグラフィ装置のパターン生成器の画素素子の革新的なレイアウトを提供する。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM OR EUV (EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION) AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線またはＥＵＶ（極端紫外光）用レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide an electron beam exposure method using a VSB system and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

ＶＳＢ方式の電子ビーム露光方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To achieve a light distribution pattern for high beam not giving glares to an oncoming car with a simple structure.例文帳に追加

対向車に対してグレアを与えないハイビーム用配光パターンを簡易な構成で実現する。 - 特許庁

The characteristics of the signals received by the wireless station are the characteristics of a plurality of wireless signals transmitted from each beam transmission of the multi beam transmission antenna pattern by a plurality of the beam transmission angles.例文帳に追加

無線局が受信した信号の特性は、複数のビーム角度の各々により、マルチビームアンテナパターンのビーム各々から送信された複数の無線信号各々についての特性である。 - 特許庁

A measure is prepared in a multi-beam charged particle beam apparatus, the measure that can change micro-field size so that each beam will not make a micro field size that is to be drawn become an even-numbered multiple of a drawing pattern size.例文帳に追加

マルチビーム荷電粒子線装置において各ビームが描画する微小フィールドサイズを描画パターンサイズの偶数倍にしない為に、微小フィールドサイズを変更する手段を設ける。 - 特許庁

A laser beam Lf as an energy beam is irradiated, and by an optical trap effect (optical pincette effect) of the energy beam, the barrier rib material layer is upheaved and a barrier rib pattern 5P (barrier rib) is formed.例文帳に追加

エネルギビームとしてのレーザ光Ｌｆを照射して、エネルギビームの光トラップ効果（光ピンセット効果）により隔壁材料層を隆起させ隔壁パターン５ｐ（隔壁）を形成するものとする。 - 特許庁

The electron beam recording device makes the electron beam pass through a passage position of the shielding plate and shields the electron beam in shielding positions of the shielding plate to record a desired pattern on the resist master disk.例文帳に追加

電子線記録装置は、電子線を、遮蔽板の通過位置を介して通過させ、遮蔽板の遮蔽位置において遮蔽させて、レジスト原盤に所望のパターンを記録する。 - 特許庁

A relation among area density of a pattern, an irradiation amount of an electron beam, and edge roughness of the pattern is found, and based upon area density of the pattern and an irradiation amount of the electron beam in a predetermined area, it is determined whether the edge roughness of the pattern is equal to or smaller than an allowable value using the relation.例文帳に追加

パターンの面積密度と、電子ビームの照射量と、パターンのエッジラフネスとの関係を求め、所定の領域におけるパターンの面積密度と電子ビームの照射量とから、上記関係を用いて、このパターンのエッジラフネスが許容値以下であるか否かを判定する。 - 特許庁

To provide: a generation method of pattern data for electron beam drawing, which can draw an excellent minute pattern without using a trial-and-error method by test drawing, in drawing a minute pattern using an electron beam drawing device; a proximity effect correction method used for it; and a pattern formation method using the data.例文帳に追加

電子線描画装置を用いて極小なパターンを描画する際、テスト描画による試行錯誤無しに、良好な極小パターンが描画できる電子線描画用パターンデータの作成方法及びそれに用いる近接効果補正方法、そのデータを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A highly-luminous intensity area HZ1 of the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa is formed to be partially overlapped with a highly-luminous intensity area HZ(L) of the low-beam light distribution pattern P(L), to connect the low-beam light distribution pattern P(L) smoothly to the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa.例文帳に追加

その際、補助配光パターンＰａの高光度領域ＨＺ１をロービーム配光パターンＰ（Ｌ）の高光度領域ＨＺ（Ｌ）と部分的に重複させるように形成し、これによりロービーム配光パターンＰ（Ｌ）と補助配光パターンＰａとを滑らかに接続する。 - 特許庁

(stage G.) Then the cholesteric liquid crystal layer 16 is heated up to a temperature different from the temperature at the time of forming the first pattern and exposed to the active light beam at this temperature using a pattern different from the pattern at the time of forming the first pattern to form a second pattern.例文帳に追加

(工程Ｇ） 次にコレステリック液晶層１６に対して、第一のパターン形成時と異なる温度で加熱し、この温度条件下で活性光線を第一のパターン形成時と異なるパターンで露光して第二のパターンを形成する。 - 特許庁

In this pattern forming method, a double exposed part 16 exposed by both a light and an electron beam is arranged at the connecting part of a light exposing part 10 and an electron beam exposing part 12.例文帳に追加

光露光部１０と電子ビーム露光部１２の接続部に、光と電子ビームの双方で露光する二重露光部１６を設ける。 - 特許庁

A bright spot of a laser beam on a transfer belt 30 to which the laser beam has been emitted is read as a pattern of a speckle image by a reading camera 404.例文帳に追加

読取カメラ４０４により、レーザ光が照射されている転写ベルト３０上のレーザ光輝点をスペックル画像のパターンとして読み取る。 - 特許庁

Next, the negative type resist 102 is irradiated with an electron beam (corresponding to an energy beam) 103 with a first pattern as shown in Fig. 1(c) (first exposure step).例文帳に追加

次に、図１（ｃ）のように、ネガ型レジスト１０２に、電子ビーム（エネルギービームに対応）１０３を第１のパターンで照射する（第１の露光ステップ）。 - 特許庁

The rate of deviation of the electron beam 5 is set, at such a value as to obtain optimum light exposure for every pattern of designed size formed with the electron beam 5.例文帳に追加

電子線５の偏向速度は、電子線５で描画する各設計寸法のパターン毎に最適露光量が得られる値に設定される。 - 特許庁

An electron-beam exposure system is focused while the stepped pattern 11 is irradiated with a drawing electron beam and the secondary-electron image of the edge 15 is observed.例文帳に追加

電子線描画のフォーカス合わせを、段差状パターン１１に描画電子ビームを当ててエッジ１５の二次電子像を観察しながら行う。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure apparatus that can expose and transfer a pattern of finer line width, as compared with an electron beam exposure apparatus of conventional conception.例文帳に追加

従来考えられている電子線露光装置に比して微細な線幅のパターンを露光転写可能な電子線露光装置を提供する。 - 特許庁

This wiring layer serves as a dummy pattern for making an area irradiated with a laser light beam uniform and easy to absorb the laser light beam.例文帳に追加

この配線層は、レーザー光線の照射領域を均一化し、且つレーザー光線を吸収しやすくするためのダミーパターンとして働く。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor laser element where the far-field pattern shape of a laser beam is satisfactory, and the laser beam of single mode can be obtained.例文帳に追加

レーザ光のファーフィールドパターン形状が良好で、単一モードのレーザ光が得られる窒化物半導体レーザ素子を提供することである。 - 特許庁

To provide an electron beam projection exposure system for efficiently determining the sectional shape of an electron beam for exposing to a pattern to be exposed to light.例文帳に追加

露光すべき電子ビームの断面形状を、露光すべきパターンに対して効率よく定めることができる電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

In the electron beam lithography method, aperture identification data for cell transfer are included in the data processed, in a process of adding an OPC pattern to a designed pattern or converting a designed pattern with an OPC pattern into the lithography data characteristic of the electron beam lithography system, by incorporating aperture data information for cell transfer in the process by applying a cell projection type electron beam lithography method.例文帳に追加

一括露光方式の電子ビーム描画方式を適用し、設計パタンにＯＰＣパタン付加する処理過程あるいはＯＰＣ付きの設計パタンを描画装置固有の描画データに変換する過程に、一括転写用アパーチャデータ情報を組み込み、上記過程で処理されたデータ内に一括転写用アパーチャ識別データを含ませる。 - 特許庁

The optical disk recording/reproducing device drives a laser diode of an optical pickup with a specific pattern, emits a laser beam in the specific pattern and detects a waveform of the laser beam by a detection signal of a front monitor which monitors the amount of the laser beam emitted from the laser diode.例文帳に追加

光ピックアップのレーザダイオードを特定パターンで駆動させ、特定パターンでのレーザ光の発光を行い、レーザダイオードから出射されたレーザ光の出射光量をモニタするフロントモニタの検出信号によりレーザ光の波形を検出する。 - 特許庁

To provide a headlamp in which a low beam light distribution pattern most suitable for low speed driving of an automobile and a high speed high beam light distribution pattern most suitable for high speed driving of the automobile can be certainly obtained.例文帳に追加

自動車の低速走行に最適なすれ違い用配光パターンと、自動車の高速走行に最適な高速走行用配光パターンとを確実に得ることのできるヘッドランプを提供すること。 - 特許庁

The pattern comprises a surface pattern of periodic grooves formed such that when the top surface is irradiated with an incident light beam, the incident light beam will be split into a plurality of diffracted light beams.例文帳に追加

前記パターンは、入射光ビームが上面に照射される場合に、入射光ビームが複数の回折光ビームに分離されるように形成された、周期的な溝の表面パターンを備える。 - 特許庁

The pattern includes a periodic surface pattern of grooves formed such that when an incoming light beam is shone onto the top surface, the incoming light beam will be split into a plurality of diffracted light beams.例文帳に追加

前記パターンは、入射光ビームが上面に照射される場合に、入射光ビームが複数の回折光ビームに分離されるように形成された、周期的な溝の表面パターンを備える。 - 特許庁

To provide a projector type vehicle headlight using a light emitting device as a light source, capable of selectively forming a variety of light distribution patterns including a low beam light distribution pattern and a high beam light distribution pattern.例文帳に追加

発光素子を光源とするプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンおよびハイビーム用配光パターンを含む多様な配光パターンを選択的に形成可能とする。 - 特許庁

To efficiently separate a signal from a pattern from a signal from a defect, in a technique for inspecting a micro circuit pattern using an image formed by irradiation with a white light, a laser beam or an electron beam.例文帳に追加

白色光・レーザ光・あるいは電子線を照射して形成された画像を用いて微細な回路パターンを検査する技術において、パターンからの信号と欠陥からの信号を効率的に分離する。 - 特許庁

A solenoid 34 which serves as a preferential moving mechanism switches light from a bulb 14 between at least the low-beam distribution pattern and a high-beam distribution pattern by moving the variable shade 12.例文帳に追加

優先移動機構として機能するソレノイド３４はバルブ１４からの光を可変シェード１２を移動させて、少なくともロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンとの切り換えを行う。 - 特許庁

To provide a light distribution pattern for a high beam with excellent distant visibility without adversely influencing a light distribution pattern for a low beam, in a projector type vehicular headlamp having a movable shade.例文帳に追加

可動シェードを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンに悪影響を及ぼすことなく、ハイビーム用配光パターンを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁

In the method of manufacturing the liquid droplet discharge head, a predetermined nozzle hole pattern formed in a mask is irradiated with a laser beam and a workpies is irradiated with the laser beam after passing through the nozzle hole pattern of the mask.例文帳に追加

本発明の液滴吐出ヘッドの製造方法によれば、マスクに形成された所定のノズル孔パターンにレーザビームを照射してマスクのノズル孔パターンを透過して加工試料に照射する。 - 特許庁

SAMPLE HOLDER, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING DEVICE, SEMICONDUCTOR INSPECTION DEVICE, CIRCUIT PATTERN INSPECTION DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM APPLICATION DEVICE, CALIBRATING BOARD, SAMPLE HOLDING METHOD, CIRCUIT PATTERN INSPECTION METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM APPLICATION METHOD例文帳に追加

試料保持機，半導体製造装置，半導体検査装置，回路パタ—ン検査装置，荷電粒子線応用装置，校正用基板，試料の保持方法，回路パタ—ン検査方法、および、荷電粒子線応用方法 - 特許庁

By processing the image imaged by the imaging device 44, the self-pattern by the visible light beam of the one's own vehicle, and another pattern by another vehicle, infrastructure visible light or an invisible light beam are extracted.例文帳に追加

撮像装置４４が撮像した画像を処理することにより自車両の可視光ビームによる自パターンおよび他車両又はインフラの可視光又は非可視光ビームによる他パターンを抽出する。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern using an ArF laser beam, which prevents deformation or the defective shaping of the pattern formed on a photosensitive film.例文帳に追加

感光膜に形成されるパターンの変形や形状不良を抑制できるArFレーザ光を用いるパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by which a recessed part in a resist pattern can be formed to a desired depth by using an exposure beam at a short wavelength.例文帳に追加

短い波長の露光用ビームを用いてレジストパターンにおける凹部を所望の深さに形成し得るレジスパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for performing more accurate pattern formation, when a fine resist pattern is formed by a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子線による微細なレジストパターン形成においてより正確なパターン形成を行う為のレジストパターンを形成する方法を開発する。 - 特許庁

To obtain a method for projecting a charged-particle beam for exposure, which can expose only an arbitrary pattern region to improve the throughput and pattern transfer accuracy.例文帳に追加

任意のパターン領域のみを露光でき、スループットやパターン転写精度を向上できる荷電粒子線投影露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which allows such pattern formation as comprising a resolution characteristics of electron beam and productivity of light.例文帳に追加

電子ビームの解像性と光の生産性を兼ね備えたパターン形成を可能とするパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Therefore, a light distribution pattern for a low beam and a light distribution pattern for a high bean can selectively formed even if a single light source 22a is used.例文帳に追加

これにより光源２２ａが単一であってもロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンとを選択的に形成可能とする。 - 特許庁

To solve a problem that a missing portion of light is generated between a light distribution pattern for low beam (passing light) and a sub-light distribution pattern in a conventional headlight.例文帳に追加

従来の車両用前照灯では、すれ違い用の配光パターンとサブ配光パターンとの間に光の抜け部分が発生する。 - 特許庁

A lamp driving control device 3 puts out a lamp driving control signal, according to the pattern change-over signal from a change-over switch 4 of beam pattern.例文帳に追加

ビームパターンの切換用スイッチ４からのパターン切換信号に応じてランプ駆動制御装置３はランプ駆動制御信号を出力する。 - 特許庁

To solve a problem that a conventional vehicular lighting tool can not obtain a main light-distribution pattern with a cut-off line and a sub light-distribution pattern of a beam-convergent type.例文帳に追加

従来の車両用灯具では、カットオフラインを有するメイン配光パターンと集光タイプのサブ配光パターンとを得ることができない。 - 特許庁