「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The terminal B performs directional reception of the DATA by the sector one-beam pattern to acquire DATA.例文帳に追加

端末Ｂはセクタ１ビームパターンで指向性受信を行ないＤＡＴＡを取得する。 - 特許庁

To provide an antenna assembly for which the beam width of the E surface element pattern of an excitation dipole antenna is widened.例文帳に追加

励振ダイポールアンテナのＥ面素子パターンのビーム幅を広げたアンテナ装置を得る。 - 特許庁

PATTERN AREA COMPUTING METHOD, PROXIMITY EFFECT COMPENSATING METHOD, AND CHARGED PARTICLE BEAM DRAWING METHOD例文帳に追加

パターン面積値算出方法、近接効果補正方法及び荷電粒子ビーム描画方法 - 特許庁

A detector 49 detects a portion of the scattered light beam 33 comprising a speckle pattern.例文帳に追加

検出器４９は、スペックルパターンを含む、拡散光ビーム３３の一部分を検出する。 - 特許庁

A projection system is configured to project a radiation beam with a pattern onto the substrate.例文帳に追加

投影システムは、基板上にパターン付放射ビームを投影するように構成される。 - 特許庁

STENCIL MASK BLANK, STENCIL MASK AND PATTERN EXPOSURE METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM USING MASK例文帳に追加

ステンシルマスクブランク及びステンシルマスク並びにそれを用いた荷電粒子線のパターン露光方法 - 特許庁

Then, the spots establish a diffraction pattern for removing optical aberrations from a light beam.例文帳に追加

そして、このスポットは、光線から光学収差を除去する回折パターンを確立する。 - 特許庁

Multiplex reproduction is carried out by changing the reference beam pattern to reproduce the hologram.例文帳に追加

参照光パターンを変えてホログラムを再生することにより多重再生が行なわれる。 - 特許庁

The terminal A performs directional reception by the sector four-beam pattern to acquire the ACK.例文帳に追加

端末Ａはセクタ４ビームパターンによる指向性受信を行ないＡＣＫを取得する。 - 特許庁

TWO-DIMENSIONAL HOLOGRAM PATTERN, AND METHOD FOR GENERATION OF LAGUERRE-GAUSSIAN BEAM, AND OPTICAL MANIPULATION SYSTEM例文帳に追加

ホログラム２次元パターン、および、ラゲールガウシアンビームの生成方法、並びに、光マニピュレーションシステム。 - 特許庁

Then, the wavelength control pattern is irradiated with a reference light being a laser beam (step S2).例文帳に追加

そして、レーザ光である参照光を波長制御パターンに照射する（ステップＳ２）。 - 特許庁

The short-circuit of the wiring pattern is disconnected by the convergence ion beam without using any gas for repair.例文帳に追加

配線パターンの短絡は、リペア用ガスを用いないで集束イオンビームにより切断する。 - 特許庁

The terminal A performs directional reception by the sector four-beam pattern to acquire the DCTS.例文帳に追加

端末Ａはセクタ４ビームパターンによる指向性受信を行ないＤＣＴＳを取得する。 - 特許庁

To provide a raster scan charged particle beam drawing method for performing exposure in a desired pattern.例文帳に追加

所望パターンを露光できるラスタースキャン荷電粒子線描画方法を提供する。 - 特許庁

The measured target spectrum is generated by inducing radiation beam into the target pattern.例文帳に追加

測定ターゲットスペクトルは放射ビームをターゲットパターンに誘導することによって生成される。 - 特許庁

To provide a method for raster scanning charged particle beam exposure by which a substrate can be exposed to a desired pattern.例文帳に追加

所望パターンを露光できるラスタースキャン荷電粒子線描画方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MEASURING STATE OF PATTERN-DRAWING IN VARIABLE AREA TYPE CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHIC APPARATUS例文帳に追加

可変面積型荷電粒子ビーム描画装置におけるパターン描画状態測定方法 - 特許庁

METHOD FOR EVALUATING ABERRATION OF CHARGED PARTICLE BEAM OPTICAL SYSTEM, METHOD FOR ADJUSTING CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSING METHOD, METHOD FOR EVALUATING ASTIGMATISM AND EVALUATION PATTERN例文帳に追加

荷電粒子線光学系の収差評価方法、荷電粒子線装置調整方法、荷電粒子線露光方法、非点収差評価方法及び評価用パターン - 特許庁

To provide an electron beam exposure system which can reduce the memory of an electron beam exposure device and can eliminate the transfer of pattern data and conversion to control data for each electron beam exposure device.例文帳に追加

電子ビーム露光装置のメモリを軽減でき、電子ビーム露光装置毎のパターンデータの転送及び制御データへの変換をなくす電子ビーム露光システムを提供できる。 - 特許庁

To provide a method of adjusting focal point, by which the focal point of a beam including a beam having an arbitrary shape can be adjusted with high accuracy, and to provide an electron beam lithography system which can write a pattern with high accuracy.例文帳に追加

任意形状ビームを含む高精度なビーム焦点調整方法や、高精度なパターン描画を可能とした電子線描画装置を提供すること。 - 特許庁

An electron beam irradiation matrix setting part 65 sets an electron beam irradiation matrix indicating a time series of a two-dimensional pattern of the electron beam to be emitted from a projector 8.例文帳に追加

電子線照射行列設定部６５は、プロジェクタ８から出射すべき電子ビームの２次元パターンの時系列を示す電子線照射行列を設定する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection technique capable of executing measurement and inspection of a minute pattern with high throughput by a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子線による微細パターンの計測、検査を高スループットで行うことを可能にするパターン検査技術を提供する。 - 特許庁

As shown in (a), a position of a center of gravity of a spot group is measured from a diffraction pattern obtained by irradiating a mesh pattern with a laser beam.例文帳に追加

（ａ）に示すように、メッシュパターンにレーザ光を照射して得られる回折パターンからスポット群の重心位置を計測する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, FINE PATTERN DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING UNEVEN PATTERN CARRIER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

A modulation pattern signal generating unit 42 figures out from a projection pattern a laser beam emission intensity matching the scanning angle that has been figured out.例文帳に追加

変調パターン信号生成部４２は、求められた走査角度に対応するレーザー発光強度を投影パターンから求める。 - 特許庁

To provide a verification method of an image drawing pattern capable of verifying the image drawing pattern even during image drawing, and to provide an electron-beam writing apparatus.例文帳に追加

描画中でも描画パターンの検証が可能な描画パターンの検証方法および電子線描画装置を得る。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam capable of forming a high-resolution resist pattern, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

高解像性のレジストパターンを形成できる電子線用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR ELECTRONIC BEAM DRAWING, MICROSCOPIC PATTERN DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING CONCAVE-CONVEX PATTERN SUPPORTER, AND METHOD FOR MANUFACTURING MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体の製造方法および磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

This exposure apparatus exposes a substrate by illuminating a pattern with an exposure beam and transferring an image of the pattern through a liquid onto the substrate.例文帳に追加

露光装置は、露光ビームでパターンを照明し、パターンの像を液体を介して基板上に転写して基板を露光する。 - 特許庁

An optical scanning part 4 scans the inspected pattern with a laser beam and a photoelectric image processing part 5 generates an image of the inspected pattern.例文帳に追加

光学的走査部４は被検査パターンをレーザービームで走査し、光電画像処理部５は被検査パターンの画像を生成する。 - 特許庁

In an alignment method, a beam with a first pattern is irradiated to a first target portion of a substrate to form the first pattern on the substrate.例文帳に追加

基板の第１ターゲット部分に第１パターン付きビームを照射して、基板上に第１パターンを形成する工程を含む。 - 特許庁

As a result, since the movable shades 10 and 11 can be stopped at the high-beam attitude, the low-beam attitude and the middle-beam attitude, three light distribution patterns such as a predetermined low-beam light distribution pattern LP, a predetermined light distribution pattern MP for a motor way, and a predetermined light distribution pattern HP for traveling can be provided.例文帳に追加

この結果、可動シェード１０、１１をハイビーム姿勢とロービーム姿勢とミッドビーム姿勢とに停止させることができるので、所定のすれ違い用の配光パターンＬＰと、所定のモータウエイ用の配光パターンＭＰと、所定の走行用の配光パターンＨＰとの３つの配光パターンが得られる。 - 特許庁

In a step of applying the electron beam, an electron beam is applied to the specimen with the landing energy LE of the electron beam adjusted so that applied electrons U-turn in a recess pattern to act as mirror electrons when the electron beam is applied thereto in a recess pattern with edges on both sides.例文帳に追加

電子ビームを照射するステップは、両側にエッジを有する凹パターンに電子ビームが照射されたときに照射電子が凹パターンにてＵターンしてミラー電子になるようにランディングエネルギーＬＥが調整された電子ビームを試料に照射する。 - 特許庁

This machine 10 is provided with an oscillator 11 of an excimer laser beam and a mask 14 to regulate the excimer laser beam emitted from the oscillator to a prescribed pattern, and is an excimer laser beam machine to machine a work with the excimer laser beam pattern-regulated by the mask.例文帳に追加

本装置１０は、エキシマレーザ光の発振器１１と、発振器から出射されたエキシマレーザ光を所定の形状パターンに規制するマスク１４とを備え、マスクによりパターン規制されたエキシマレーザ光により被加工物に加工を施すエキシマレーザ加工装置である。 - 特許庁

A laser beam detection means is provided for a laser beam generation means for forming the forgery prevention tracking pattern or a laser beam generation means for simultaneously scanning by using the same surface of the rotary polygon mirror with the laser beam generation means for forming the forgery prevention tracking pattern.例文帳に追加

レーザビーム検出手段を、偽造防止追跡パターンを生成するレーザビーム生成手段、又は偽造防止追跡パターンを生成するレーザビーム生成手段と同じ回転多面鏡の面によって同時に走査するレーザビーム生成手段に対して設ける。 - 特許庁

A beam point P1 of a laser beam gun used by one player has a triangular pattern comprising three upwardly sharpened light spots OP, and a beam point P2 of a laser beam gun used by the other player has an overturned triangular pattern having three light spots OP.例文帳に追加

一方のプレーヤが使用するレーザ光線銃のビームポイントＰ__１は３つの光点ＯＰが上に尖った三角形状に並ぶパターンであり、他方のプレーヤが使用するレーザ光線銃のビームポイントＰ_２は３つの光点ＯＰが逆三角形状に並ぶパターンである。 - 特許庁

To provide a vehicular illumination lighting fixture for forming an additional light distribution pattern against a light distribution pattern for a lower beam in which center luminosity of additional light distribution pattern is sufficiently elevated while its depth size is made smaller, when the light distribution pattern for a high beam is formed.例文帳に追加

ハイビーム用配光パターンを形成する際、ロービーム用配光パターンに対して付加される付加配光パターンを形成するための車両用照明灯具において、その奥行寸法を小さくした上で付加配光パターンの中心光度を十分高める。 - 特許庁

To provide a charged particle beam lithography system capable of drawing a chip pattern while varying shot conditions of a specific pattern included in one piece of lithographic data of the chip pattern.例文帳に追加

チップパターンの一つの描画データに含まれる特定のパターンのショット条件を変えながら、チップパターンを描画可能な荷電粒子ビーム描画システムを提供する。 - 特許庁

At this time, the reference pattern and the comparison pattern are formed in mutually different structures so that the direction of the exposure beam passing through each pattern is changed.例文帳に追加

この際、基準パターン及び比較パターンはこれらを各々通過する露光ビームの方向が変わるように互いに異なる構造で形成されることを特徴とする。 - 特許庁

As a result, the incident light to the reflecting surface of a reflector is almost fully utilized, and an excellent low beam luminous intensity distribution pattern and high beam luminous intensity distribution pattern can be provided.例文帳に追加

この結果、リフレクタ４の反射面４０に入射する光がほぼ１００％有効利用され、かつ、良好なロービームの配光パターンＬＰ及びハイビームの配光パターンＨＰが得られる。 - 特許庁

ESTIMATION METHOD OF PATTERN SHAPE IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE TRANSFER, DECISION METHOD OF RETICLE PATTERN USED FOR PARTICLE BEAM EXPOSURE TRANSFER AND ESTIMATION METHOD OF PARAMETER OF PROXIMITY EFFECT例文帳に追加

荷電粒子線露光転写におけるパターン形状の推定方法、荷電粒子線露光転写に使用するレチクルパターンの決定方法、及び近接効果のパラメータの推定方法 - 特許庁

To provide a vehicular headlamp device including a rotary shade, having construction for actualizing quick change-over between a high-beam light distribution pattern and a low-beam light distribution pattern.例文帳に追加

回転シェードを含む構成でもハイビーム用配光パターンとロービーム用配光パターンの高速切り換えを実現できる構造を有する車両用前照灯装置を提供する。 - 特許庁

Then the 2nd pattern data are sent from the CAD system to an electron beam drawing device and a specific area of resist applied onto the reticle is irradiated with an electron beam according to the 2nd pattern data.例文帳に追加

次に、その第二パターンデータをＣＡＤシステムから電子ビーム描画装置に送り、電子ビームを第二パターンデータに応じて、レチクル上に塗布されたレジストの所定領域に照射する。 - 特許庁

An interference pattern is formed in an information recording layer 3 by the interference of the light beam for information and the reference light beam for recording, and the interference pattern is volumetrically recorded in the information recording layer 3.例文帳に追加

情報記録層３内には、情報光と記録用参照光とが干渉して干渉パターンが形成され、この干渉パターンが情報記録層３内に体積的に記録される。 - 特許庁

The solenoid 38 moves the movable shade 34 to the forward movement position on a priority basis during non-control to actualize quick change-over between the high-beam light distribution pattern and the low-beam light distribution pattern.例文帳に追加

ソレノイド３８は、非制御時に移動シェード３４を進出位置に優先移動させることによりハイビーム用配光パターンとロービーム用配光パターンの高速切り換えを実現する。 - 特許庁