「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

TRANSFER MASK FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY ALLOWING WRITING OF HIGH-ACCURACY CIRCUIT PATTERN例文帳に追加

高精度回路パターンの描画が可能な電子線リソグラフィー用転写マスク - 特許庁

To provide a gallium nitride light emitting diode manufacturing method capable of solving the problem of a center recess in a far field beam pattern.例文帳に追加

一つの窒化ガリウム系発光ダイオードの製造方法を提出し、この製造方法により遠場光束図案（far field beam pattern）の中央凹みの問題が改善される。 - 特許庁

The patterning device forms a pattern in a radiation beam from the lighting system.例文帳に追加

パターニングデバイスは、照明システムからの放射線のビームにパターンを形成する。 - 特許庁

The vehicle lighting fixture 10 includes a first optical system 20 to form a high-beam pattern and a second optical system 40 to form the low-beam pattern.例文帳に追加

車両用灯具１０は、走行ビームパターンを形成する第１の光学系２０と、すれ違いビームパターンを形成する第２の光学系４０と、を有する。 - 特許庁

When the object is detected between the beam radiating position of the vehicle 22 and the position of the surface of the road to be radiated by the visible light beam in the specified pattern, the visible light pattern by the visible light beam is changed to a pattern avoiding the obstacle, and the visible light beam is radiated by the beam radiating machine 24 in the changed pattern.例文帳に追加

車両２２のビーム照射位置と可視光ビームが所定のパターンで照射されるべき道路路面の位置との間に存在する障害物が検知された場合、可視光ビームによる可視光パターンをその障害物を避けたパターンに変更し、ビーム照射機２４にその変更されたパターンで可視光ビームを照射させる。 - 特許庁

A head light for a vehicle includes a switching function of a light distribution pattern between a low-beam light distribution pattern LP and a driving light distribution pattern HP and a function for obtaining a raining light distribution pattern other than the low-beam light distribution pattern LP and the driving light distribution pattern HP.例文帳に追加

１台の車両用前照灯で、配光パターンをすれ違い用配光パターンＬＰと走行用配光パターンＨＰとに切り替える機能と、すれ違い用配光パターンＬＰおよび走行用配光パターンＨＰ以外の雨用配光パターンが得られる機能とを有する。 - 特許庁

A circuit pattern is used by an electron beam projection exposure method by using the stencil reticle provided with an opening pattern 21 surrounding an island-like central pattern 23 and a support pattern 22 having a pattern width of a resolution limit or less of an electron beam exposure system and supporting the opening pattern 21.例文帳に追加

島状の中心パターン２３を囲む開口パターン部２１と、電子線描画装置の解像限界以下のパターン幅を有し、開口パターン部２１を支持する支持パターン部２２と、を備えたステンシルマスクを用いて、電子線投影露光法により回路パターンを形成する。 - 特許庁

The control part switches to the passing light distribution pattern via the light distribution pattern for a basic low beam from the additional light distribution pattern, or returns to the additional light distribution pattern via the light distribution pattern for the basic low beam from the passing light distribution pattern, when receiving the passing signal when forming the additional light distribution pattern in the ADB mode.例文帳に追加

制御部は、ＡＤＢモードで付加配光パターンを形成しているときにパッシング信号を受けた場合には、付加配光パターンからベーシックロービーム用配光パターンを経由してパッシング用配光パターンに切り換えるか、またはパッシング用配光パターンからベーシックロービーム用配光パターンを経由して付加配光パターンに戻す。 - 特許庁

In the pattern forming method to form a superfine pattern and a large area pattern on a process film on a substrate 11, an electron beam resist pattern film for forming a superfine pattern from the process film is formed by electron beam lithography, and a photoresist pattern film to form a large area pattern from the process film is formed through photolithography.例文帳に追加

基板１１上の加工膜に、超微細パターンと大面積パターンを形成するパターン形成方法において、加工膜を超微細パターンに形成するための電子線レジストパターン膜を電子線描画により形成し、加工膜を大面積パターンに形成するためのフォトレジストパターン膜をフォトリソグラフィにより形成した。 - 特許庁

The laser beam is branched into a main laser beam 13M and a sub-laser beam 13S, pattern irradiation corresponding to the recording pattern is performed by the main laser beam 13M, and the position of the main laser bema 13M is adjusted by the sub-laser beam 13S obtaining the positional information from the area where a pattern irradiation processing by the main laser beam 13M is performed.例文帳に追加

レーザ光を主レーザ光１３Ｍと副レーザ光１３Ｓとに分岐し、主レーザ光１３Ｍによって記録パターンに対応するパターン照射を行い、副レーザ光１３Ｓによって、主レーザ光１３Ｍによるパターン照射処理がなされた領域から、その位置情報を得て、主レーザ光１３Ｍの位置調整を行う。 - 特許庁

In addition, the electron beam is exposed by a filtering result to find an edge periphery of the formed pattern at the time of inspecting the pattern.例文帳に追加

また、パターンの検査時は、形成したパターンのエッジ周辺を求めるフィルタ結果で電子線を照射する。 - 特許庁

To accurately draw a pattern by uniforming an exposure amount when the pattern is drawn on the substrate by a light beam.例文帳に追加

光ビームにより基板にパターンを描画する際、露光量を均一にして、パターンの描画を精度良く行う。 - 特許庁

The patterning device is configured to pattern a beam of radiation according to a desired pattern.例文帳に追加

このパターン形成装置は、所望のパターンに従って放射ビームにパターンを形成するように構成されている。 - 特許庁

To obtain a polymer composition for forming a pattern by laser beam irradiation, and to provide a method for forming the pattern.例文帳に追加

レーザ光の照射によりパターンが形成可能なポリマー組成物と、このパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A vehicle lamp system includes a vehicle lamp that forms a light distribution pattern for a right side high beam and a light distribution pattern for a left side high beam, wherein the light distribution pattern for the left side high beam has an irradiation area where at least a portion thereof is shifted from the irradiation area formed by the light distribution pattern for the right side high beam; and a control unit that controls the vehicle lamp.例文帳に追加

車両用灯具システムは、右片ハイ用配光パターン、および右片ハイ用配光パターンの照射領域に対して少なくとも一部がずれた照射領域を有する左片ハイ用配光パターンを形成するための車両用灯具と、車両用灯具を制御するための制御部と、を備える。 - 特許庁

Furthermore, in a case of a high beam distribution pattern HP, the light C for irradiating the overhead sign board appears in the high beam distribution pattern HP regularly at a same position with the low beam distribution pattern LP and does not adversely affect the high beam distribution pattern HP and can be applied for a headlight 1 of a double light type.例文帳に追加

また、ハイビーム配光パターンＨＰの際も、このオーバーヘッドサイン照射用の光Ｃは、ハイビーム配光パターンＨＰ中において、ロービーム配光パターンＬＰと同じ位置に規則的に現れるため、ハイビーム配光パターンＨＰに悪影響を与えことがなく、２灯式のヘッドランプ１に適用することができる。 - 特許庁

To provide a pattern formation method and a pattern formation device which can form a desired pattern in a processing substrate by using F_2 laser beam.例文帳に追加

Ｆ_２レーザ光を用いて、被加工基板に所望のパターンを形成することのできるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

This castellated wood beam 21 comprises a first beam section 22 having a cutline pattern 26 defining a plurality of first beam section projected parts 44 and a second beam section recessed parts 46.例文帳に追加

複数の第1の梁区画凸部４４と第1の梁区画凹部４６とを画定するカットライン模様２６を有する第1の梁区画２２を含む城郭風の梁２１を提供する。 - 特許庁

To provide a charged beam writing method capable of improving a beam dimensional accuracy during an electron beam writing and consequently improving a resist pattern dimensional accuracy.例文帳に追加

電子ビーム描画時のビーム寸法精度を向上させ、ひいてはレジストパターン寸法精度を向上させ得る荷電ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁

Each shade allows formation of a high-beam light distribution pattern in a retreat position.例文帳に追加

各シェードは、退避位置においてハイビーム用配光パターンの形成を許容する。 - 特許庁

According to this method for observing a specimen, the pattern of the specimen is observed by using an electron beam.例文帳に追加

試料観察方法は、電子ビームを用いて試料のパターンを観察する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING DEVICE, METHOD FOR CALCULATING STAGE POSITION DEVIATION, AND PATTERN DRAWING METHOD例文帳に追加

電子線描画装置、ステージ位置偏差算出方法及びパターン描画方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN ON SURFACE OF SUBSTRATE BY BEAM OF CHARGED PARTICLES例文帳に追加

荷電粒子のビームによって基板の表面上にパターンを形成する方法 - 特許庁

This interference fringe changes pattern, according to the oscillation mode of the laser beam.例文帳に追加

この干渉縞は、レーザ光の発振モードに応じてそのパターンを変化させる。 - 特許庁

To provide a mask for electron beam exposure having a highly accurate ultrafine pattern.例文帳に追加

高精度で超微細パターンを有する電子線露光用マスクを提供する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM TYPE PATTERN INSPECTION DEVICE, AND METHOD FOR SETTING INSPECTION CONDITION OF TEST PIECE例文帳に追加

電子線式パターン検査装置、及び、試料の検査条件の設定方法 - 特許庁

PROJECTOR TYPE VEHICULAR HEADLIGHT IN ORDER TO FORM TRAVELING BEAM LIGHT DISTRIBUTION PATTERN例文帳に追加

走行ビーム配光パターンを形成するためのプロジェクタ型車両用前照灯 - 特許庁

A surface opposite to a light outgoing surface is formed with a fine beam scattering pattern.例文帳に追加

出光面の対向面には微細な光線散乱パターンを形成している。 - 特許庁

A projection system projects the radiation beam with a pattern to a target of the substrate.例文帳に追加

投影システムが、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM OR EUV, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線又はＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

A projection system projects the beam subjected to pattern formation on the target portion of a substrate.例文帳に追加

投影システムは、パターン形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する。 - 特許庁

It is so constructed that beam radiation with a fog-lamp light distribution pattern is done by lighting of a front filament 18a and beam radiation with a high-beam distribution pattern is done by a rear filament 18b.例文帳に追加

前部フィラメント１８ａの点灯によりフォグランプ配光パターンでビーム照射を行うとともに、後部フィラメント１８ｂの点灯によりハイビーム配光パターンでビーム照射を行う構成とする。 - 特許庁

In this case, the rainy weather running light distribution pattern is formed by lighting of a low beam filament 18a, and the high beam light distribution pattern is formed by lighting of a high beam filament 18b.例文帳に追加

その際、ロービーム用フィラメント１８ａの点灯により雨天走行時用配光パターンを形成し、ハイビーム用フィラメント１８ｂの点灯によりハイビーム用配光パターンを形成する構成とする。 - 特許庁

To provide a mask pattern inspecting method for electron beam exposure, with which a position relation between a first complementary pattern and a second complementary pattern, which are formed by dividing an original mask pattern for electron beam exposure, by a cut line, is inspected on a computer.例文帳に追加

元の電子線露光用マスクパターンを切断線で分割して形成した第１の相補パターン及び第２の相補パターンの位置関係を計算機上で検査することができる電子線露光用マスクパターン検査方法を得る。 - 特許庁

A mask 14 for electron beam exposure has a circuit pattern 42 comprising an opening 40 in a pattern forming region 14a of a substrate 46, irradiates an electron beam Eb, and projects and exposes the circuit pattern 42 into a sample 20 by the electron beam Eb through the circuit pattern 42.例文帳に追加

本電子ビーム露光用マスク１４は、開口４０からなる回路パターン４２を基板４６のパターン形成領域１４ａに有し、電子ビームＥｂを照射して、回路パターン４２を透過した電子ビームＥｂによって回路パターン４２を試料２０上に投影露光するように構成されている。 - 特許庁

To substantially enhance central brightness of a high-beam distribution pattern in addition to maintaining a fog-lamp light distribution pattern at nearly even, for a headlamp for a vehicle so constructed as to perform beam switching between a high-beam distribution pattern and a fog-lamp light distribution pattern with an H4 halogen bulb provided.例文帳に追加

Ｈ４ハロゲンバルブを備え、ハイビーム配光パターンとフォグランプ配光パターンとのビーム切換えを行い得るように構成された車両用前照灯において、フォグランプ配光パターンを略均一な配光パターンに維持した上で、ハイビーム配光パターンの中心光度を十分に高める。 - 特許庁

To provide a light guide body for suppressing leakage of a light beam and sufficiently transmitting the light beam to an optical pattern.例文帳に追加

光線の漏洩を抑制して光学模様に光線を十分に伝送することのできるライトガイド体を提供する。 - 特許庁

RECTANGULAR/GRID DATA CONVERSION METHOD OF MASK PATTERN FOR ELECTRICALLY CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE AND ELECTRICALLY CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD USING IT例文帳に追加

荷電粒子ビーム露光用マスクパターンの矩形／格子データ変換方法及びこれを用いた荷電粒子ビーム露光方法 - 特許庁

MASK BLANK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE, MASK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE, MANUFACTURING METHOD THEREOF AND PATTERN EXPOSURE METHOD例文帳に追加

荷電粒子線露光用マスクブランク、荷電粒子線露光用マスク、及びその製造方法、並びにパターン露光方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING PATTERN DATA FOR ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM例文帳に追加

電子線描画描画用パターンデータ作成方法、電子線描画用パターンデータ作成装置および電子線描画装置 - 特許庁

To provide an electron beam drawing device for precisely drawing a desired pattern on a substrate by using an electron beam.例文帳に追加

電子線を用いて基板上に所望のパターンを精度良く描画することができる電子線描画装置を提供する。 - 特許庁

In this exposure process, laser beam intensity for the pit pattern exposure and laser beam intensity for the groove exposure are made equal to each other.例文帳に追加

この露光工程では、ピットパターン露光用のレーザー光強度と、グルーブ露光用のレーザー光強度を同一とした。 - 特許庁

To suppress displacement of a pattern in each scanning, the pattern drawn with a light beam, on drawing the pattern on a substrate by scanning the substrate with a light beam more than once, and thereby, to improve the accuracy of drawing.例文帳に追加

光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する際に、光ビームにより描画されるパターンの走査毎のずれを抑制して、描画精度を向上させる。 - 特許庁

When a high-beam light distribution pattern is formed, a projector type lighting unit 20 having a movable shade 28 is used for forming an additional light distribution pattern to be added to a low-beam light distribution pattern.例文帳に追加

ハイビーム用配光パターンを形成する際、ロービーム用配光パターンに対して付加される付加配光パターンを形成するために、可動シェード２８を有するプロジェクタ型の灯具ユニット２０を用いる。 - 特許庁

To enable selective formation of an intermediate light distribution pattern between a low beam light distribution pattern and a high beam light distribution pattern in a vehicular headlamp equipped with a projector type lighting fixture unit.例文帳に追加

プロジェクタ型の灯具ユニットを備えてなる車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンとの中間的な配光パターンを選択的に形成可能とする。 - 特許庁