「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The method includes: controlling an emission beam; imparting a pattern to the emission beam by a reticle having a pattern image area and a reticle mark so as to form an emission beam with the pattern; and projecting the emission beam with the pattern on a target part of a substrate through a projection system.例文帳に追加

方法は、放射ビームを調節すること、パターン付き放射ビームを形成するためにパターン像領域及びレチクルマークを有するレチクルによって放射ビームにパターンを与えること、及び、投影システムによってパターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影することを含む。 - 特許庁

To provide a pattern width measuring device for accurately measuring the pattern width of a pattern formed on a wafer using electron beam.例文帳に追加

電子ビームを用いてウェハ上に形成されたパターンのパターン幅を精度よく測長するパターン幅測長装置を提供する。 - 特許庁

The patterning device imparts the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam.例文帳に追加

パターン化デバイスは、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームの断面にパターンを付与する。 - 特許庁

The interference fringe pattern is generated by the ± first order diffraction beam of an applied light beam.例文帳に追加

格子１２３に照射された光ビームの±１次回折光によって干渉縞パターンが作成される。 - 特許庁

An array antenna 10 receives L arrival waves by switching its beam pattern into a plurality of beam patterns.例文帳に追加

アレーアンテナ１０は、そのビームパターンが複数のビームパターンに切換えられ、Ｌ個の到来波を受信する。 - 特許庁

In the pattern drawing apparatus, a laser beam L1 becomes a laser beam L2 which advances while being contracted after the laser beam L1 is passed through a microlens array 4, and is imparted to a pinhole plate 5.例文帳に追加

レーザ光Ｌ１はマイクロレンズアレイ４を通過後、絞られながら進むレーザ光Ｌ２となって、ピンホール板５に与えられる。 - 特許庁

For example, the deflection pattern to the charged particle beam is made into a parallelogram.例文帳に追加

例えば、荷電粒子ビームの偏向パターンを平行四辺形となる。 - 特許庁

METHOD FOR ESTIMATING PATTERN SHAPE IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE TRANSFER, AND METHOD FOR DETERMINING RETICLE PATTERN USED IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE TRANSFER例文帳に追加

荷電粒子線露光転写におけるパターン形状の推定方法、及び荷電粒子線露光転写に使用するレチクルパターンの決定方法 - 特許庁

BASE MATERIAL ON WHICH PATTERN IS FORMED AND ITS METAL MOLD, OPTICAL PICKUP DEVICE, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY, BASE MATERIAL ON WHICH PATTERN IS FORMED BY THE SAME METHOD, AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC DEVICE例文帳に追加

被描画基材、その金型、光ピックアップ装置、電子ビーム描画方法、その方法にて描画された基材、及び電子ビーム描画装置 - 特許庁

CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE, EXPOSURE DATA CREATING METHOD AND PATTERN EXPOSURE METHOD例文帳に追加

荷電粒子ビーム装置、露光データ作成方法およびパターン露光方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, ELECTRON BEAM EMISSION ELEMENT AND ITS MANUFACTURE例文帳に追加

パターン形成方法並びに電子線放出素子及びその製造方法 - 特許庁

To improve throughput of electron beam exposure to a wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンに対する電子ビーム露光のスループットを向上させること。 - 特許庁

BEAM FORMING NETWORK HAVING CELL REUSE PATTERN AND ITS CONSTITUTING METHOD例文帳に追加

セル再使用パターンを有するビーム形成ネットワークおよびその構成方法 - 特許庁

A terminal A performs directional transmission of a DRTS by a sector four-beam pattern.例文帳に追加

端末Ａはセクタ４ビームパターンでＤＲＴＳを指向性送信する。 - 特許庁

PATTERN DRAWING SYSTEM, CHARGED BEAM DRAWING METHOD, AND PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

パターン描画システム、荷電ビーム描画方法、及びフォトマスク製造方法 - 特許庁

The terminal B performs directional transmission a DCTS by the sector one-beam pattern.例文帳に追加

端末Ｂはセクタ１ビームパターンでＤＣＴＳを指向性送信する。 - 特許庁

The terminal A performs directional transmission of DATA by the sector four-beam pattern.例文帳に追加

端末Ａはセクタ４ビームパターンでＤＡＴＡを指向性送信する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY MASK, AND METHOD FOR EXPOSURE OF PATTERN例文帳に追加

荷電粒子線リソグラフィマスクの製造方法及びパターン露光方法 - 特許庁

To provide a charged particle beam lithography apparatus that achieves desired pattern dimension and pattern accuracy.例文帳に追加

所望のパターン寸法とパターン精度を実現することが可能な荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY METHOD, FINE PATTERN DRAWING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING PROTRUDING AND RECESSING PATTERN SUPPORT, AND MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

To provide an electron beam exposure method and a reticule, for exposing a doughnut pattern, a leaf-pattern, etc.例文帳に追加

ドーナッツパターンや、リーフ状のパターン等を露光するための電子線露光方法及びレチクルを提供する。 - 特許庁

In such a case, a pattern which also can be observed by the ion beam defect correcting device is selected as the pattern of alignment.例文帳に追加

このとき、位置あわせのパターンはイオンビーム欠陥修正装置でも観察可能なものを選んでおく。 - 特許庁

The patterning device is configured to pattern the beam of radiation according to a desired pattern.例文帳に追加

パターニングデバイスは、所望のパターンに従って放射線のビームにパターンを形成するように構成される。 - 特許庁

Consequently, a spot light distribution pattern SP can be overlapped with a light distribution pattern LP for meeting beam.例文帳に追加

この結果、すれ違い用配光パターンＬＰにスポット配光パターンＳＰを重畳することができる。 - 特許庁

Based on a plurality of beam transmission angles of a multi beam transmission antenna pattern and characteristics of signals received by the wireless station, an azimuth angle is estimated from the standard location of the multi beam transmission antenna pattern.例文帳に追加

マルチビームアンテナパターンの複数のビーム角度と、無線局が受信した信号の特性とに基づいて、マルチビームアンテナパターンの基準位置からの方位角を推定することが行われる。 - 特許庁

To form a light distribution pattern for a high beam into an appropriate light distribution pattern without adversely affecting a light distribution pattern for a low beam, in a projector type vehicular headlamp equipped with a movable shade.例文帳に追加

可動シェードを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンに悪影響を及ぼすことなく、ハイビーム用配光パターンを適切な配光パターンとする。 - 特許庁

As a result, the lighting fixture is suitable for obtaining a high beam light distribution pattern HP for running and a low-beam light distribution pattern LP for passing which has combined the condensing light distribution pattern SP and the diffusion light distribution pattern WP.例文帳に追加

この結果、この発明は、集光配光パターンＳＰと拡散配光パターンＷＰとを組み合わせた走行用の配光パターンＨＰおよびすれ違い用の配光パターンＬＰを得るのには適している。 - 特許庁

The electron beam exposure system has a plurality of the electron beam exposure devices which deflect electronic beam, based on the control data and expose a pattern on an exposed object, and a data control means which sends the control data, corresponding to the exposed pattern to the electron beam exposure devices which sends pattern information, in response to the pattern information about the exposed pattern which is sent from the electron beam exposure devices.例文帳に追加

制御データに基づいて電子ビームを偏向し、被露光物体上にパターンを露光する複数の電子ビーム露光装置と、前記電子ビーム露光装置から送られてくる露光されるパターンに関するパターン情報に応じて、前記パターン情報を送出した電子ビーム露光装置に前記露光されるパターンに対応した前記制御データを送出するデータ制御手段とを有する。 - 特許庁

The electron beam control device is equipped with an electron gun which emits an electron beam, and a reflected electron beam detector which detects an electron beam reflected from a specimen provided with a prescribed pattern so as to evaluate a reflected electron beam and to control an electron beam.例文帳に追加

電子ビーム管理装置は、電子ビームを放射する電子銃と、所定のパターンを有する試料から反射した反射電子ビームを検出する反射ビーム検出器とを有し、反射電子ビームを評価し、電子ビームを管理する。 - 特許庁

This interferometer system is provided with a beam production mechanism, a beam reflecting mirror, and a sensing device for detecting interference pattern of overlapped reflection beam.例文帳に追加

干渉計装置は、ビーム生成機構、ビーム反射鏡、および重複する反射ビームの干渉パターンを検出する検出デバイスを有する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM OF PATTERN DEFECT INSPECTION BY USING ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE AND MIRROR ELECTRON PROJECTION TYPE OR MULTIPLE BEAM TYPE ELECTRON BEAM INSPECTION DEVICE例文帳に追加

電子線検査装置を用いたパターン欠陥検査方法及びそのシステム、並びに写像投影型又はマルチビーム型電子線検査装置 - 特許庁

An electron beam writing system includes an electron beam patterning machine operable to emit an electron beam to form a pattern on a substrate.例文帳に追加

電子ビーム描画システムは、基板上にパターンを形成するために、電子ビームを放射するべく動作可能な電子ビームパターニング装置を備えている。 - 特許庁

In addition, the CQI can be used to determine the appropriate beam assignment or to update the beam pattern.例文帳に追加

加えて、ＣＱＩを使用して、適切なビーム割り当てを決定する、又はビームパターンを更新することができる。 - 特許庁

To provide an electronic beam aligner which is capable of projecting a pattern on a wafer very accurately for exposure with an electron beam.例文帳に追加

電子ビームにより精度よくウェハにパターンを露光することができる電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

The beam widths 525, 526 and 527 vary according to a predetermined pattern along the longitudinal direction 518 of the beam 510.例文帳に追加

ビーム幅５２５，５２６，５２７はビーム５１０の長さ５１８方向に沿い所定のパターンに従い変化している。 - 特許庁

To provide a method of drawing an interatomic force electron beam line which draws an electron beam line of a detailed pattern of 10 nm or less.例文帳に追加

１０ｎｍ以下の微細パターンの電子線描画を可能とする原子間力電子線描画法の提供。 - 特許庁

To provide a technique which can improve front visibility by a light-distribution pattern for a high beam while the maximum luminous intensity permitted by a light-distribution pattern for a low beam is satisfied.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンで許容される最大光度を満たしつつ、ハイビーム用配光パターンによる前方視認性を向上する技術を提供する。 - 特許庁

Thereby, both a low-beam light distribution pattern of visible light and a high-beam light distribution pattern of infrared ray can be obtained with one lighting device.例文帳に追加

この結果、１個の灯具で、可視光によるすれ違い用の配光パターンＬＰと、赤外線による走行用の配光パターンＨＰとが得られる。 - 特許庁

To provide an electrically charged particle beam drawing apparatus and an electrically charged particle beam drawing method, that can attain a desired pattern size and pattern precision.例文帳に追加

所望のパターン寸法とパターン精度を実現することが可能な荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁

The hologram is irradiated with the reference light beam while changing its incident angle to generate a reproduction light beam, and an image pattern is detected by an image pattern detector.例文帳に追加

入射角度を変えながら参照光ビームがホログラムに照射されて再生光ビームが発生され、画像パターンが画像パターン検出器で検出される。 - 特許庁

A terminal B receives DRTS tone by directional reception by a rotational sector beam pattern and specifies a sector one-beam pattern with the maximum receiving level.例文帳に追加

端末Ｂは回転セクタビ−ムパターンよる指向性受信でＤＲＴＳのトーンを受信し、受信レベルが最大のセクタ１ビームパターンを特定する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM PATTERN INSPECTION APPARATUS, AND METHOD OF SETTING INSPECTION CONDITION THEREFOR, AND PROGRAM例文帳に追加

電子線式パターン検査装置、その検査条件設定方法、及びプログラム - 特許庁

OBJECT DETECTOR, VEHICLE, BEAM PATTERN GENERATION METHOD, PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

物体検知装置、車両、ビームパターン生成方法、プログラム及び記録媒体 - 特許庁

POSITIVE TYPE ELECTRON BEAM RESIST COMPOSITION AND PRODUCTION OF RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型電子線レジスト組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法 - 特許庁

To improve a verification beam by using a particle optics system provided with a pattern definition device for a beam exposure system, or a pattern definition device comprising an aperture array.例文帳に追加

ビーム露光装置のパターン規定デバイスまたはアパーチャアレイからなるパターン規定デバイスを備えた粒体光学システムで証明ビームを改良する。 - 特許庁