「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The checking bit pattern consists of the first checking bit pattern for removing the diffused external light by the sun beam and the second checking bit pattern for performing the identification from any peripheral similar light source.例文帳に追加

前記確認用ビットパターンは、太陽光による外乱光を取り除くための第１確認用ビットパターンと、周辺の類似光源と識別するための第２確認用ビットパターンからなる。 - 特許庁

A dummy pattern of chrome or tungsten is further formed in a free space on the membrane of a conventional electron beam mask, which contains only a main pattern corresponding to the pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子のパターンに対応するメインパターンだけを含む従来の電子ビームマスクのメンブラン上の余裕空間に、クロムまたはタングステンパターンよりなるダミーパターンをさらに形成する。 - 特許庁

When a substrate 31 having a rugged pattern on a surface is made, plotting of a pattern in accordance with the rugged pattern is performed by scanning of an electron beam EB.例文帳に追加

表面に凹凸パターンを有する基板３１を作製する際、レジスト１２が塗布された円形基盤１１に、電子ビームＥＢの走査により凹凸パターンに応じたパターンの描画を行う。 - 特許庁

To provide a head light for a vehicle constituted so as to form a light distribution pattern for low beam, capable of forming the light distribution pattern for low beam with an intended pattern form and lightness distribution.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、その光源として半導体発光素子を用いた場合においても、所望するパターン形状および光度分布でロービーム用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁

To provide a vehicular illumination lamp with a first and a second light source units arranged in a back side of a projection lens, in which luminance at a boundary part between a low beam light distribution pattern and an additional light distribution pattern in a high beam light distribution pattern is sufficiently secured.例文帳に追加

投影レンズの後方に第１および第２光源ユニットが配置された車両用照明灯具において、ハイビーム用配光パターンにおけるロービーム用配光パターンと付加用配光パターンとの境界部分の明るさを十分に確保する。 - 特許庁

At formation of a mask for pattern transfer after the step of electron beam exposure, an overcorrection is performed by adding the proximity effect produced at electron beam transfer exposure, using the mask for pattern transfer to the proximity effect correction produced at the formation of the mask for pattern transfer.例文帳に追加

電子線露光工程を経てパターン転写用マスクを作製する際に、パターン転写用マスク作製時の近接効果補正分に、該パターン転写用マスクを使用した電子線転写露光時の近接効果分を上乗せして過剰に補正する。 - 特許庁

A function showing a transition of a change of a pattern dimension when the electron beam is irradiated on a sample is prepared in each the sample pattern, a dimension value of the pattern measured by scanning the electron beam on a specific pattern is applied to the function prepared for the specific pattern, and the dimension of the specific pattern before the change is calculated.例文帳に追加

この目的を達成するために、本発明によれば、試料パターンの種類ごとに、試料上に電子線を照射したときのパターン寸法の変化の推移を示す関数を用意し、特定パターンに前記電子線を走査して測定された前記パターンの寸法値を、当該特定パターンのために用意された前記関数に当てはめて、前記特定パターンの変化前の寸法を算出する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method and a charged particle beam aligner in which degradation of pattern accuracy dependent on the error in the Z axis position of a wafer stage can be prevented.例文帳に追加

ウェハステージのＺ軸方向位置の誤差に依存するパターン精度の劣化を防止する荷電ビーム露光方法及び荷電ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

In the laser beam machining method, laser beam is emitted to irradiate a substrate 600 with an image through a pattern formed on a mask 501 and an imaging lens 506.例文帳に追加

本レーザ加工方法では、レーザ光を照射し、マスク５０１に形成されたパターンを介し、結像レンズ５０６を経て、基板６００上に像を照射する。 - 特許庁

To detect failure in a spatial light modulator modulating a light beam in an early stage, upon drawing a pattern on a substrate by scanning the substrate with a light beam.例文帳に追加

光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、光ビームを変調する空間的光変調器の不具合を早期に検出する。 - 特許庁

The glass board 10 is irradiated with a laser beam as an energy beam to pattern the required regions of the ZnO film 3 by etching (c).例文帳に追加

エネルギビームとしてのレーザ光を透明導電膜付きガラス基板１０に照射して、ＺｎＯ膜３の所望の複数の領域をパターンエッチングする（ｃ）。 - 特許庁

Optical position on the belt 5 can be irradiated with a laser pattern by controlling the laser beam irradiation while adjusting irradiation position of the laser beam.例文帳に追加

レーザ光の照射位置を調整しながら、レーザ光照射を制御することにより、ベルト５上の任意の位置にレーザパタンを照射することが可能となる。 - 特許庁

The first projected pattern P comprises a bright part P1 formed by the radiation of laser beam thereon and a dark part P2 not radiated by the laser beam thereon.例文帳に追加

第１の投影パタ−ンＰは、レ−ザ光が照射されることによって形成される明部Ｐ１と、レ−ザ光が照射されない暗部Ｐ２とから成る。 - 特許庁

Pattern data which is larger than the maximum beam size of an electron beam are virtually divided into a peripheral part Po and an inside pat Pi by an outline figure dividing function.例文帳に追加

電子ビームの最大ビームサイズより大きなパターンデータを、輪郭図形分割機能により周辺部分Ｐｏと内部部分Ｐｉとに仮想的に分割する。 - 特許庁

To automatically move a position for focusing a charged beam on a sample from a measuring position, in dimension measurement for a pattern using the charged beam.例文帳に追加

荷電ビームを用いたパターンの寸法測定において、試料上で荷電ビームの焦点合わせを行う位置を測定位置から自動的に移動させる。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device capable of surely drawing a pattern, without causing significant defocusing, and to provide a method for controlling the charged particle beam.例文帳に追加

顕著なフォーカスずれを起こさずにパターンを確実に描画することのできる荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビームの制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam aligner in which pattern transfer accuracy can be enhanced by reducing a disturbance magnetic field having an adverse effect on the track of a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子線の軌道に悪影響を与える外乱磁場を低減し、パターン転写精度を向上できる荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

A system comprising an illumination system for supplying a radiation beam, an array of individually controllable elements for forming a pattern to the beam, and a projection system are disclosed.例文帳に追加

放射ビームを供給する照明システムと、ビームにパターンを形成する個別に制御可能なエレメントのアレイと、投影システムとを有するシステムである。 - 特許庁

A scanning route of the laser beam on a substrate is decided from pattern information of the sub-island so that the sub-island is irradiated with the laser beam.例文帳に追加

さらにサブアイランドのパターン情報から、少なくともサブアイランドにレーザー光が照射されるように、基板上におけるレーザー光の走査経路を定める。 - 特許庁

To solve problems resulting from charge-up upon correcting a defect in an isolated pattern with an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームで孤立パターンの欠陥を修正するときのチャージアップに起因する問題点を解決する。 - 特許庁

Besides, it is also possible to adjust the light quantity of a diffraction pattern by the usual diffracted light beam 1b to reproduce information by the dummy diffracted light beam 1c.例文帳に追加

また、ダミーの回折光１ｃにより、情報を再生する通常の回折光１ｂによる回折像の光量調整を行うことも可能である。 - 特許庁

METHOD FOR CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY, METHOD AND PROGRAM FOR CREATING CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY PATTERN DATA AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

荷電ビーム描画方法、荷電ビーム描画のパターンデータの作成方法、荷電ビーム描画のパターンデータの作成プログラム、及び、半導体装置の製造方法 - 特許庁

Proximity effect correcting processing is performed at the time of forming the pattern, and the electron beam is exposed by a filtering result having reverse characteristics of the exposure characteristics of the electron beam.例文帳に追加

パターン形成時は、近接効果補正処理を行い、かつ電子線の露光特性の逆特性を有するフィルタ処理結果で電子線を露光する。 - 特許庁

The latent image pattern of the resist layer 70 is formed by the emitted electron beam and electrons scattered on the base layer 42 of the electron beam.例文帳に追加

レジスト層７０は、照射された電子ビームと当該電子ビームのベース層４２において散乱された電子とによって、その潜像パターンが形成される。 - 特許庁

The image characteristics of the pattern is optimized by calculating the optical phase of a preferable first-order diffraction beam relative to the optical phase of the zeroth diffraction beam.例文帳に追加

パターンの像の像特性は、０次回折ビームの光位相に関して、望ましい１次回折ビームの光位相を計算することにより最適化される。 - 特許庁

Thus, the degree of diffusion of a laser beam made incident on the effective diffraction pattern 15 of the diffraction grating 2 is narrowed, and aberration generated in a diffracted optical beam is suppressed.例文帳に追加

これにより回折格子２の有効回折パターン１５に入射されるレーザービームの拡散度を狭くし、回折光ビームに発生する収差を抑制する。 - 特許庁

After projecting an electron beam on a reticle 3 by an illumination optical system, the electron beam passed through a pattern formed on the reticle 3 is imaged on a wafer by two lenses 1, 2.例文帳に追加

照明光学系によりレチクル３が電子線で照射され、その上のパターンを通過した電子線が２つのレンズ１，２によりウェハ上に結像される。 - 特許庁

A Gray code pattern 46 is exposed by using a master disk exposure device having a main exposure beam and an auxiliary exposure beam after a photoresist is coated on the master disk.例文帳に追加

原盤上にフォトレジストを塗布した後、主露光ビーム及び補助露光ビームを有する原盤露光装置を用いて、グレーコードパターン４６を露光する。 - 特許庁

In addition, the paper detecting device has an image sensor for reading the interference fringe pattern of laser beam due to the irregularities on the surface of the paper by utilizing the laser beam.例文帳に追加

前記用紙検出装置は、レーザー光を利用して、用紙表面の凹凸によるレーザー光の干渉縞パターンを読み取るイメージセンサーを有している。 - 特許庁

A mask 112 has a transfer pattern including a blocking area 3 and a transparent area 4 and transmits the electron beam 1a from the electron beam gun 102.例文帳に追加

マスク１１２は、ブロッキング領域３及び透明領域４からなる転写パターンを有し、電子ビーム銃１０２からの電子ビーム１ａが通過される。 - 特許庁

When forming an objective fine pattern on a resist film using electron beam lithography, an auxiliary pattern, with due consideration to a pattern density, is formed simultaneously in the periphery of the objective fine pattern to suppress the change in the size of the fine pattern near the boundary thereof.例文帳に追加

目的とする微細パターンを、電子線リソグラフィーを用いてレジスト膜上に形成する際、目的とする微細パターン周辺に、パターン密度を考慮した補助パターンを同時に形成することにより、微細パターン境界近傍での寸法変化を抑制する。 - 特許庁

To provide a beam irradiating method and a beam irradiator capable of aligning a recording pattern with a moving object being irradiated with a beam, concerning the beam irradiating method and irradiator for irradiating the moving object with the beam and an original disc forming method.例文帳に追加

移動する照射対象にビームを照射するためのビーム照射方法及び装置並びにディスク原盤作成方法に関し、移動する照射対象に高速に記録パターンに対応したビーム照射が行なえるビーム照射方法及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A coating pattern is printed on a substrate with the coating material and is cured by using an electron beam ('EB') processing.例文帳に追加

基体に被覆材で被覆模様を印刷し、そして電子ビーム（“ＥＢ”）加工処理を使用して硬化させる。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EXTREME ULTRAVIOLET RAY (EUV), AND PATTERN FORMING PROCESS BY USE OF IT例文帳に追加

電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

BLOOD COAGULATON TIME MEASURING METHOD USING GRANULAR SPOT PATTERN BY REFLECTED LASER BEAM, AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加

レーザ反射光による粒状斑点模様を利用した血液凝固時間測定方法とその装置 - 特許庁

Then the wireless apparatus 10 carries out wireless communication with the wireless apparatus 11 by using a beam pattern different from the beam pattern extracted during the standby period and the wireless apparatus 11 makes wireless communication with the wireless apparatus 10 by using the beam pattern receptible of a signal from the wireless apparatus 10 with the maximum strength.例文帳に追加

そして、無線装置１０は、待機期間中に抽出したビームパターンと異なるビームパターンを用いて無線装置１１との間で無線通信を行ない、無線装置１１は、無線装置１０からの信号を最大強度で受信可能なビームパターンを用いて無線装置１０との間で無線通信を行なう。 - 特許庁

An electron beam 1 has passed a reference pattern formed in a mask, and it shows the direction of the mask.例文帳に追加

電子ビーム１はマスクに形成された基準パターンを通過したものであり、マスクの方向を示す。 - 特許庁

ELECTRON BEAM DRAWING METHOD, MICROPATTERN DRAWING SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING RUGGED PATTERN CARRIER MAGNETIC DISK MEDIUM例文帳に追加

電子ビーム描画方法、微細パターン描画システム、凹凸パターン担持体磁気ディスク媒体の製造方法 - 特許庁

A pattern 10' not narrower than some width can be exposed by increasing the quantity of a beam current.例文帳に追加

ここで、幅がある程度以上に広いパターン１０´は、ビーム電流量を上げて露光することができる。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV AND PATTERN-FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

電子線、Ｘ線またはＥＵＶ用レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

The first and second patterns pattern respective ones of the first and second portions of the illumination beam.例文帳に追加

第１および第２のパターンは、照明ビームの第１部分および第２部分の各々にパターンを付与する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV OR X-RAY, AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

電子線、ＥＵＶ又はＸ線用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To produce a phase servo pattern on a magnetic transfer substrate by using an electron beam.例文帳に追加

磁気転写用マスター担体における位相サーボパターンを、電子ビームにより容易に且つ高精度で描画する。 - 特許庁

When an electron beam at about 100 kV is used, a minute pattern is formed and throughput is raised.例文帳に追加

よって、100ｋＶ程度の電子線を使用すれば、微細パターンを加工でき、かつスループットもあげることができる。 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, X-RAY OR EUV RAY, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁