「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

A positional correction of a pixel 5 of image information is made sufficiently small for a pattern on a substrate by using a controllable minimum pitch to a beam scanning pitch 6 by a charged particle beam equipment, thereby, a position/angle shift of the pattern of the pixel 5 can be prevented.例文帳に追加

ビームのスキャンピッチ６に荷電粒子ビーム装置で制御可能な最小ピッチを用いることにより、画像情報の画素５の丸め込みを基板上のパターンに対して充分小さくして、画素５のパターン目はずれを防止する。 - 特許庁

To make possible to draw the high precision line pattern, increasing degree of freedom in drawing a high precision line pattern, determine a defect and measure a length, not only forming a linear beam to a X-axis and a Y-axis directions, but also forming a linear beam to a certain direction.例文帳に追加

Ｘ軸、Ｙ軸方向の線形ビームを形成するだけでなく、任意の方向の線形ビームは形成して、高精度なラインパターン描画の自由度を増し、高精度なパターン描画、欠陥検査、測長を可能する。 - 特許庁

In the image formation device for writing an image to an image carrier according to output data by irradiating laser beams emitted from two light sources onto the image carrier, the sensor pattern for processing is recorded by either of a first laser beam and a second laser beam or by alternately using the first laser beam and the second laser beam for every formation of the sensor pattern for processing.例文帳に追加

２つの光源から出射したレーザビームを像担持体に照射して出力データに応じて像担持体に画像を書き込む画像形成装置において、プロセス用センサパターンを第１レーザビーム若しくは第２レーザビームの一方で記録するか、あるいはプロセス用センサパターン形成毎に第１レーザビームと第２レーザビームを交互に使用して記録する。 - 特許庁

A vehicular headlight device 10 includes a lighting fixture 20H for high beam which forms a light distribution pattern for high beam including an area above the cut-off line of the light distribution pattern for low beam, and a headlight device control ECU 40 which acquires information from a vehicle detector 150 and a navigation system 144 and controls the irradiation of the lighting fixture 20H for high beam.例文帳に追加

車両用前照灯装置１０は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含むハイビーム用配光パターンを形成するハイビーム用灯具２０Ｈと、車両検出装置１５０およびナビゲーションシステム１４４から情報を取得し、ハイビーム用灯具２０Ｈの照射を制御する前照灯装置制御ＥＣＵ４０と、を備える。 - 特許庁

The vehicle headlight device includes a high beam lamp unit capable of forming a high beam light distribution pattern PH including a region above cut-off lines CL1, CL2, CL3 of a low beam light distribution pattern PL, and having an adjustable optical axis, and a control part for adjusting the optical axis of the high beam lamp unit in accordance with information obtained by a travel environment detecting device.例文帳に追加

ロービーム用配光パターンＰＬのカットオフラインＣＬ１、ＣＬ２、ＣＬ３から上方の領域を含むハイビーム用配光パターンＰＨを形成可能であり、光軸を調整可能に設けられたハイビーム用灯具ユニットと、走行環境検知装置から得られた情報に基づいて、ハイビーム用灯具ユニットの光軸を調整する制御部と、を備える。 - 特許庁

In this radar system provided with a transmission antenna having L_t of beam width, and the receiving antenna of L_r (L_r>L_t) of beam width having a plurality of receiving elements of element space d, the element space d is determined not to generate a main beam 17 in one reception pattern and the grating lobe 18 therein concurrently in a main beam in a transmission pattern.例文帳に追加

ビーム幅がＬ_ｔである送信アンテナと、素子間隔がｄである複数の受信素子を有しビーム幅がＬ_ｒ（ただしＬ_ｒ＞Ｌ_ｔ）である受信アンテナとを備えるレーダ装置において、１つの受信パターンの主ビーム１７とグレーティングローブ１８が、同時に送信パターンの主ビーム１６の中に発生しないように素子間隔ｄを決定する。 - 特許庁

To easily set a laser irradiation condition in an apparatus for correcting a pattern, in which a laser beam is used for correcting the defective part of a minute pattern formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に形成された微細パターンの欠陥部を修正するためにレーザ光が用いられるパターン修正装置におけるレーザ照射条件を容易に設定する。 - 特許庁

To provide an exposure method, by which a pattern having satisfactory dimensional accuracy can be obtained through pattern formation with a charged particle beam, and to provide a method for producing a master disk of an optical disk.例文帳に追加

荷電粒子線によるパターン描画によって、寸法精度の良好なパターンを得ることができる露光方法及び光ディスク原盤の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a prescribed light distribution pattern for a low beam and a prescribed light distribution pattern for travelling.例文帳に追加

簡単な発光部の設計やリフレクタの光学設計で、所定のすれ違い用の配光パターンと所定の走行用の配光パターンとが確実に得られることを目的とする。 - 特許庁

To provide a dimension measuring pattern and a dimension measuring method for measuring dimensions accurately when the length of the dimension measuring pattern is measured by using a charged beam.例文帳に追加

荷電ビームを用いて寸法測定パターンの測長を行う際に、正確に寸法測定を行うことができる寸法測定パターン及び寸法測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method with which the shape controllability of a pattern to be formed by irradiating ejected liquid droplets with a laser beam is improved and a liquid droplet ejection device.例文帳に追加

吐出した液滴にレーザ光を照射して形成するパターンの形状制御性を向上させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

As a result, due to variable control of the flat-face reflector 12, a headlamp can obtain a plurality of light distribution patterns by way of a low-beam light distribution pattern and a light distribution pattern for running.例文帳に追加

この結果、平面リフレクタ１２の可変制御により、ヘッドランプにあっては、すれ違い用配光パターンと、走行用配光パターンとの複数の配光パターンが得られる。 - 特許庁

To provide a high-speed patterning method using electron beam lithography that reduces time for forming a total pattern including a ultra-fine circuit pattern with a high dimensional accuracy.例文帳に追加

高寸法精度で超微細な回路パターンを含んだトータルパターンの形成時間を短縮させる電子線描画を利用したパターンの高速加工方法を提供する。 - 特許庁

To enable a highly accurate and high quality defect correction of an isolated fine pattern and an OPC pattern which is hardly observed by an ion beam defect correcting device because of charge-up.例文帳に追加

チャージアップのためにイオンビーム欠陥修正装置で観察しにくい微細化な孤立したパターンやOPCパターンの高精度かつ高品位な欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

The plurality of stripes which are set are scanned S with the beam one after another to draw the mask pattern in the pattern drawing area.例文帳に追加

そして、その設定した複数のストライプのそれぞれへ、順次、ビームを走査するスキャンＳを複数実施することによって、パターン描画領域にマスクパターンを描画する。 - 特許庁

To obtain a resist pattern having a prescribed shape by preventing the deformation of the resist pattern, caused by connection errors between partial exposure regions when a charged particle beam is used.例文帳に追加

荷電粒子線を用いる際の部分露光領域間の接続誤差に起因するレジストパターンの変形を防止し、所定の形状を有するレジストパターンを得られるようにする。 - 特許庁

To provide a mask inspection method and an inspection apparatus for the mask, in which a pattern connecting portion can be easily verified, when forming a pattern using two or more charged particle beam masks.例文帳に追加

２以上の荷電粒子線マスクを用いてパターン形成を行う場合に、パターン接続部の確認が容易なマスクの検査方法および検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a technology capable of effectively using a left-piece-high light distribution pattern and a right-piece-high light distribution pattern, in a high-beam state of a lamp fixture for a vehicle.例文帳に追加

車両用灯具のハイビーム状態において左片ハイ用配光パターンおよび右片ハイ用配光パターンを有効に利用できる技術を提供する。 - 特許庁

Before starting length measurement, a diffraction pattern is obtained from a single crystal part of the specimen to offset the inclined angle of the specimen against a charged particle beam based on the obtained diffraction pattern.例文帳に追加

測長前に、試料の単結晶部分から回折パターンを取得し、取得された回折パターンに基づいて荷電粒子線に対する試料の傾斜角を補正する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam microscope which can obtain information about pattern materials and stereostructure without lowering throughput of pattern dimension measurement.例文帳に追加

パターン寸法計測のスループットを低下させることなくパターンの材料や立体構造に関する情報を得ることができる荷電粒子線顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The plurality of sub-reflectors 50a-50d are combined with the low-beam light distribution pattern and form an additional light distribution pattern so that each of them may have different synthetic light distribution patterns.例文帳に追加

複数のサブリフレクタ５０ａ〜５０ｄは、ロービーム配光パターンと組み合わされてそれぞれが異なる合成配光パターンとなるような付加配光パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern, with which detection and inspection of a pattern can be precisely performed by using light or an electron beam.例文帳に追加

光または電子ビームを用いてパターンの位置検出および位置検査を高精度に行うことを可能とするパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To make light distribution patterns appropriate for both of a light distribution pattern for low beams and a light distribution pattern for high beam, in a projector type vehicle headlight having a movable shade.例文帳に追加

可動シェードを有するプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンとを共に適正な配光パターンとする。 - 特許庁

The resist pattern 14A is then irradiated with an electron beam 16 while cooling the substrate 10 by means of a chiller 15, thus obtaining a cured resist pattern 14B.例文帳に追加

次に、基板１０をチラー１５により冷却しながらレジストパターン１４Ａに対して電子線１６を照射することにより、キュアされたレジストパターン１４Ｂを得る。 - 特許庁

To manufacture an information carrier in which a highly reliable thin film pattern corresponding to a digital information signal is formed using a pattern exposing process by an electron beam drawing apparatus.例文帳に追加

電子ビーム描画装置によるパターン露光工程を用いてディジタル情報信号に対応する信頼性の高い薄膜パターンが形成された情報担体を製造する。 - 特許庁

When a circuit pattern is directly drawn on a semiconductor wafer 9 with an electron beam lithography equipment, a dummy pattern is also drawn on a scribe area SA of the semiconductor wafer 9.例文帳に追加

電子ビーム描画装置により半導体ウエハ９へ直接回路パターンを描画する際に、該半導体ウエハ９のスクライブエリアＳＡにもダミーパターンを描画する。 - 特許庁

To provide a method of drawing a pattern for magnetic transfer for drawing a pattern corresponding to a reference servo signal of a spiral system recorded by a magnetic head by using an electron beam.例文帳に追加

磁気ヘッドで記録されるスパイラル方式のリファレンスサーボ信号に対応するパターンを電子ビームで描画する磁気転写用パターンの描画方法を提供する。 - 特許庁

To form a high resolution pattern by preventing multiple exposures against the pattern by directing the light beam transmitted through a glass substrate to the direction away from the substrate without rereflection.例文帳に追加

ガラス基板を透過した光線を再反射せずに基板から遠ざかる方向に向け、パターンに対する多重露光を防ぎ、高い解像度のパターンを形成すること。 - 特許庁

To reduce or prevent the scanning area boundary lines from appearing on a pattern when forming the pattern on the substrate by scanning the substrate several times with a light beam.例文帳に追加

光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する際に、パターンに走査領域の境界線が発生するのを抑制又は防止する。 - 特許庁

In order to sense a main scanning length difference between respective laser beams, a pattern for compensation is formed by a forming speed of 1/(beam quantity), and the pattern for compensation is sensed by a photo-sensor 60.例文帳に追加

各レーザビームの主走査長差を検知するために、補正用パターンを１／（ビーム数）の形成速度で形成し、フォトセンサ６０で補正用パターンを検知する。 - 特許庁

To provide an apparatus for generating lithographic pattern data which can convert pattern data to lithographic pattern data for an objective electron-beam exposure system and the processing of which is practical and has no problem in accuracy.例文帳に追加

図形データを、目的とする電子ビーム露光装置用の描画図形データに変換することができる描画図形データ作成装置で、且つ、処理が実用的で、精度的にも問題のない装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method in which a desired resist pattern is obtained by performing electron beam lithography on a resist film on a substrate, wherein the resist pattern of high precision is formed without deterioration of a pattern profile by eliminating an influence of electrostatic charging of the resist film.例文帳に追加

基板上のレジスト膜に電子線露光を行って所望のレジストパターンを得る基板処理方法において、レジスト膜の帯電の影響を排し、パターンプロファイルの劣化が無い、高精度なレジストパターンを形成する。 - 特許庁

Data of the pattern for determination stored in a pattern data storage part 301 includes data in which light deflection surfaces 43, to which a light beam LB is radiated in formation of an electrostatic latent image of each thin-width pattern, are the same.例文帳に追加

パターンデータ記憶部３０１に記憶されている判定用パターンのデータは、各細幅パターンの静電潜像の形成において光ビームＬＢを照射する光偏向面４３が同じとなるデータを含む。 - 特許庁

Even if the reflected light from the main beam expands radially from the center of the recording medium because of scratches or the like, its pattern is converted to a pattern on a line in a prescribed direction, with the expanded state of the pattern limited.例文帳に追加

メインビームからの反射光が傷等により光記録媒体中心から放射状に拡がっても、そのパターンが所定の方向の直線上のパターンに変換されパターンの拡がり状態が限定される。 - 特許庁

To dissolve the shortage in proximity effect in the exposure position of the device pattern at the end, in a pattern exposure mask where the proximity effect arises in the exposure by the charged beam scattered on the surface of circuit material when exposing the device pattern.例文帳に追加

デバイスパターンを露光するとき、回路素材の表面で散乱された荷電ビームによる露光で近接効果が発生するパターン露光マスクで、端部のデバイスパターンの露光位置での近接効果の不足を解消する。 - 特許庁

The method for forming the rugged pattern comprises the steps of placing a transparent thermoplastic resin film W on the mold 5; of pressurizing the film by a transparent member 6 from above; and of spot illuminating the pattern of the mold 5 with a semiconductor laser beam to heat the pattern.例文帳に追加

そして、金型５上に熱可塑性の透明な樹脂フィルムＷを載せて上方から透明部材６で加圧し、半導体レーザ光を順次金型５の凹凸パターンにスポット照射して加熱する。 - 特許庁

In the method of setting the condition for measuring the pattern of a charged particle beam device and the device of setting the condition for measuring the pattern, a beam condition of an SEM is derived based on pattern information in and/or out of the field of view of the SEM obtained from design data of a sample on which a pattern is formed.例文帳に追加

上記目的を達成するために、以下に荷電粒子ビーム装置のパターン測定条件設定方法、及びパターン測定条件設定装置であって、パターンが形成された試料の設計データから得られるＳＥＭの視野内、及び／又は視野外のパターン情報に基づいて、ＳＥＭのビーム条件を導出する方法、及び装置を提案する。 - 特許庁

Edges which form a cut-off line CL of a low-beam light distribution pattern LP are provided in a shade 5.例文帳に追加

この発明は、シェード５にはすれ違い用配光パターンＬＰのカットオフラインＣＬを形成するエッジが設けられている。 - 特許庁

Then, a grating is written in the optical fiber by irradiating it with a laser beam through the phase modulation pattern so transferred (S160).例文帳に追加

そして転写された位相変調パターンを通してレーザを照射して光ファイバにグレーティングを書き込む（Ｓ１６０）。 - 特許庁

A third shade 42 forms a partial shape of the low-beam light distribution pattern in an advance position including the backward focal position.例文帳に追加

第３シェード４２は後方焦点位置を含む進出位置でロービーム用配光パターンの一部形状を形成する。 - 特許庁

The method relates to the exposure and transfer of a transfer pattern to an object to be transferred by an electron beam drawing apparatus.例文帳に追加

本方法は、電子線描画装置により露光して、転写元パターンを被転写体に転写する方法である。 - 特許庁

To provide a means capable of leading an optimal inspection condition in a short period at an electron beam type pattern inspection device.例文帳に追加

電子線式パターン検査装置において短時間で最適な検査条件を導くことができる手段を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam for suppressing variations in magnetic field at manipulator operation and improving an accuracy of pattern formation.例文帳に追加

マニュピレータ作動時の磁場変動を抑え、パターン形成精度を向上させた荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vessel having a pattern such as a character, a figure or a three-dimensional image given to the inside, by utilizing a laser beam machining technique.例文帳に追加

レーザ加工技術を利用して、内部に、文字や図形、立体像等の模様が付与された容器を提供する。 - 特許庁

The lighting apparatus unit body 18 is supported by a lamp body and is caused to widely carry out beam radiation in a base light distribution pattern P1.例文帳に追加

灯具ユニット本体１８はランプボディに支持せしめ、ベース配光パターンＰ１で幅広くビーム照射を行わせる。 - 特許庁