「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an apparatus in which throughput is increased by using a pattern-size-dependant beam spot.例文帳に追加

書込進行中に、パターンサイズに依存したビームスポットを適用することにより処理量を増加させる装置を提供する。 - 特許庁

A method and device for programming an array of individually controllable elements is configured to impart a beam with a pattern.例文帳に追加

ビームにパターンを割り当てるように構成された個別に制御可能な素子アレイをプログラミングする方法及び装置である。 - 特許庁

To provide a data processing technology for eliminating unevenness that a pattern on a photomask has in electron beam exposure.例文帳に追加

電子線露光によりフォトマスク上のパターンに発生するムラを解消するデータ処理技術の提示を目的とする。 - 特許庁

To provide an electron beam aligner in which a high accuracy of pattern describing position is realized by minimizing lowering of throughput.例文帳に追加

スループットの低下を最小限にして高精度なパターン描画位置精度を実現した電子ビーム露光装置を得る。 - 特許庁

At first, a via hole 13 reaching the copper wiring pattern 12 is formed in the resin layer 11 by means of a UV pulse laser beam L1.例文帳に追加

まず、ＵＶパルスレーザ光Ｌ１を用いて、樹脂層１１に、銅配線パターン１２に達するするビア穴１３を掘る。 - 特許庁

The defective part is irradiated while scanning with laser beam according to the scan pattern by use of a laser scan optical system (step S11).例文帳に追加

レーザスキャン光学系を用いて、スキャンパターンに従いレーザ光を走査しながら欠陥部に照射する（ステップＳ１１）。 - 特許庁

To provide an electron beam aligner which is capable of projecting a pattern accurately on a wafer for exposure with a plurality of electron beams.例文帳に追加

複数の電子ビームにより精度よくウェハにパターンを露光することができる電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

To expose a pattern, having a fine line width on a resist with high precision by an electron beam exposure method which uses a stencil mask.例文帳に追加

ステンシルマスクを使用する電子ビーム露光方法に関し、微小線幅のパターンを高精度にレジストに露光すること。 - 特許庁

To provide a vehicular headlight system that forms a desired beam pattern with light emitted from a semiconductor light source.例文帳に追加

所望のビームパターンを半導体光源によって放出された光で形成する車両用ヘッドライトシステムを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMATION OF PATTERN, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME, AND OPTICAL PARTS MANUFACTURED THEREBY例文帳に追加

パターン形成方法、この方法を用いる電子ビーム描画装置およびその方法を用いて作製される光学部品 - 特許庁

A part-batch pattern 34 for charged particle beam drawing is formed resting on circuit design data through this method.例文帳に追加

本方法は、回路設計データに基づいて、荷電粒子線描画用の部分一括パターン３４を作成する方法である。 - 特許庁

The modulated exposure beam is reflected on the photosensitive layer 20 to form a pattern on the optical film 40.例文帳に追加

変調された露光ビームは、続いて、光学フィルム４０上にパターンを形成するために、感光層２０上に反射される。 - 特許庁

The projection system projects a pattern projecting a radiation beam onto a target part of a substrate, and the substrate is supported on a substrate table.例文帳に追加

投影システムは、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影し、基板は基板テーブル上に支持される。 - 特許庁

And, the printing means Q forms the pattern 60 separately for the beam A and B.例文帳に追加

および、前記印字手段Ｑは、前記色味検知パターン６０をビームＡ、Ｂ別々に形成するカラー画像形成装置。 - 特許庁

To write a bar-code as a marking pattern on light sensitive material by using a laser beam focused in a shape of a spot.例文帳に追加

スポット状に集光したレーザービームを用いて、感光材料にマーキングパターンとしてバーコードを形成可能とする。 - 特許庁

A resist material exhibiting such properties as the line width of a resist pattern shrinks through irradiation with an electron beam is used.例文帳に追加

レジスト材には、電子線の照射によりレジストパターンの線幅が縮小する性質を示すレジスト材料を使用する。 - 特許庁

The high beam light distribution pattern PH has high illuminance parts PHR1, PHL1 and low illuminance parts PHR2, PHL2.例文帳に追加

ハイビーム用配光パターンＰＨは、高照度部ＰＨＲ１、ＰＨＬ１および低照度部ＰＨＲ２、ＰＨＬ２を有する。 - 特許庁

To enhance positional accuracy of pattern exposure by accurately correcting a beam drift, while preventing reduction in the throughput.例文帳に追加

スループットの低下を防ぎつつビームドリフト補正を正確に行なえるようにして、パターン露光の位置精度を向上させる。 - 特許庁

The inclination direction is set to be equal to a short diametric direction in the elliptic outgoing pattern of a laser beam.例文帳に追加

この傾ける方向はレーザー光の長円形の出射パターンにおける短径方向に等しくなるようにされている。 - 特許庁

A hologram memory structure records a hologram 35 from a plane wave and the interference of light beam diffracted from the data pattern to be recorded.例文帳に追加

ホログラム・メモリ構造が、平面波と蓄積すべきデータパターンから回折された光の干渉からホログラムを記録する。 - 特許庁

It is determined whether a deviation between the waveforms of the laser beam and the specific pattern is within a predetermined amount or beyond the predetermined amount.例文帳に追加

レーザ光の波形と特定パターンの波形とのズレ量が所定内であるか所定外であるかを判定する。 - 特許庁

Vapor deposition through holes of the predetermined pattern may be formed by executing the scanning movement of the laser beam L while the mask blank 3 is fixed.例文帳に追加

マスク素板３を不動とし、レーザービームＬを走査移動させて所定パターンの蒸着通孔を形成してもよい。 - 特許庁

To improve a pattern in joining accuracy, in an exposure method of division transfer system in which an electron beam is used.例文帳に追加

電子線を用いたいわゆる分割転写方式の露光方法において、パターンのつなぎ合わせ精度を向上させる。 - 特許庁

To surely perform passing of a lighting fixture to irradiate beams of light with a high beam pattern which lies outside the visible wavelength range, such as infrared rays.例文帳に追加

赤外線等の可視波長域外の光をハイビームパターンで照射する灯具におけるパッシングを確実に行う。 - 特許庁

To provide a pattern shape prediction program and a pattern shape prediction system, capable of confirming a pattern shape, with no actual electron beam lithography, when manufacturing a mask pattern by utilizing a shot shape arrangement drawing data in which a dose amount is corresponded for each shot shape.例文帳に追加

ショット形状毎にドーズ量を対応付けたショット形状配列描画データを利用してマスクパターン等を製造する場合に、実際に電子線描画することなく、パターンの形状を確認できるパターン形状予測プログラム、パターン形状予測システムを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern defect repairing device where a problem when a laser beam is adopted as a light source of an inspection device of a pattern defect, the defect of a pattern is inspected with higher resolution and the defect of the mask pattern can highly precisely be repaired.例文帳に追加

レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁

As opposed to this, by using a reticle that is so formed that the phase of electrons passing through a periodical pattern on the reticle is alternately shifted by (n+1/2)λ for each unit pattern of the periodical pattern, the pattern of a distribution of the electron beam taking account of phase is, as shown in (c).例文帳に追加

これに対し、レチクル上周期パターンを通過する電子の位相が、当該周期パターンの単位パターン毎に、交互に（ｎ+1/2）λずれるように形成されたレチクルを用いているので、位相を考慮した電子線の分布のパターンは（ｃ）に示すようになる。 - 特許庁

To provide a pattern defect repair apparatus capable of repairing the defect of a higher fineness mask pattern by solving the problem of the case a laser beam is employed as a light source for an inspection apparatus for the pattern defect and by inspecting the defect of the pattern with higher resolution.例文帳に追加

レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁

The method for charged particle beam lithography in which the substrate is exposed to the desired pattern by raster scanning a charged particle beam includes an adjusting step of narrowing the size of the charged particle beam on the substrate in the raster scanning direction as compared with the size of the beam in the direction perpendicular to the raster scanning direction.例文帳に追加

荷電粒子線をラスタースキャンして基板を露光する荷電粒子線描画方法において、基板上の荷電粒子線のラスタースキャン方向における大きさを、前記ラスター方向と直交する方向における大きさに比べ狭める調整ステップを有する。 - 特許庁

The non-contact type alignment measuring device of a vehicle wheel is provided with a laser light source 4 for radiating the laser beam of a prescribed geometrical pattern to a wheel side face and a laser beam controlling means 6 for controlling the width of the beam for irradiating only the prescribed range of the wheel side face with the laser beam.例文帳に追加

非接触式の車両ホイールのアライメント測定装置において、ホイール側面に向けて所定の幾何パターンのレーザビームを放射するレーザ光源４と、レーザビームがホイール側面の所定範囲にのみ照射されるようにビームの幅を制御するレーザビーム制御手段６を具備する。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system configured to provide a radiation beam, a patterning device configured to pattern the radiation beam to form a patterned radiation beam, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを提供するように構成された照明系と、パターニングされた放射ビームを形成するために、放射ビームをパターニングするように構成されたパターニング装置と、パターニングされた放射ビームを基板上に投影するように構成された投影系とを含む。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes: an illumination system configured to adjust a radiation beam; and a support medium constructed to support a patterning device capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを含む。 - 特許庁

During the high beam irradiation, a part of the light from the reflector R1 which is irradiated to the lower half of the low beam light distribution pattern during the low beam irradiation is reflected by a reflecting plate E2 to irradiate the light to the upper side above a horizontal line.例文帳に追加

ハイビーム照射時には、ロービーム照射時にロービーム用配光パターンの下側半分に照射されるリフレクタＲ１からの光の一部を、反射板Ｅ２によって反射し、水平線よりも上側に照射する。 - 特許庁

When alignment is performed using an electron beam in the test, the acceleration voltage of the electron beam in the electron beam alignment and the acceleration voltage in the pattern test can be set at different voltages.例文帳に追加

また、この検査において、電子線を用いたアライメントを行う際には、電子線アライメントにおける電子線の加速電圧と、パターン検査における電子線の加速電圧とを、異なる電圧に設定することができるようにする。 - 特許庁

A laser beam generating device 210 irradiates a first laser beam 130 with which the cut route 200 set on the non-metallic substrate is heated and a scribe line 210 is formed on the cut route 200, and a second laser beam 150 with which a beam pattern is formed along the irradiation route of the first laser beam 130 separated by a predetermined distance from the first laser beam 130.例文帳に追加

レーザビーム発生装置２１０は非メタル基板に設定された切断経路２００を加熱して切断経路２００上にスクライブライン２１０を形成する第１レーザビーム１３０を照射し、第１レーザビーム１３０と所定距離離隔されて第１レーザビーム１３０の照射経路に沿って一つのビームパターンを形成する第２レーザビーム１５０を照射する。 - 特許庁

A pattern forming material layer 49 is formed by coating a pattern forming material 48 on a substrate 41 by a coating mechanism 47, and a laser optical system 45 irradiates laser beam LB on the pattern forming material layer 49 formed on the substrate 41 and by sintering the pattern forming material 48, a pattern is formed.例文帳に追加

塗布機構４７が基板４１上にパターン形成材料４８を塗布してパターン形成材料層４９を形成し、レーザ光学系４５が基板４１上に形成されたパターン形成材料層４９にレーザ光ＬＢを照射してパターン形成材料４８を焼結させてパターンを形成する。 - 特許庁

To make it possible to accurately cut a wiring pattern formed on a surface of a substrate by a laser beam while the substrate is being made to run at a high speed, and also to control to surely prevent the laser beam from being emitted on the part where the wiring pattern is not formed.例文帳に追加

基板を高速で走行させる間に、この基板の表面に形成されている配線パターンをレーザビームにより正確に切断でき、かつ配線パターンが形成されていない部分には確実にレーザビームが照射されないように制御する。 - 特許庁

In an optical system 4 of a laser device 1 including at least one diffraction element 7, dichroic mirrors 8 and 9, and reflection mirrors 10 and 11, a pattern 6' of a guide laser beam 3 is adjusted to a pattern 6 of a processing laser beam 2.例文帳に追加

レーザ装置１の光学系４は、少なくとも１つの回折素子７、二色性ミラー８、９及び反射鏡１０、１１を含んで構成され、案内用レーザ光線３のパターン６′が加工用レーザ光線２のパターン６に適合される。 - 特許庁

To fully enhance the center light intensity of a light distribution pattern for a high beam, after securing the overall luminance of a light distribution pattern for a low beam, in a projector-type vehicular head lamp which has a movable shade and setting its central light intensity at a proper value.例文帳に追加

可動シェードを有するプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンの全体的な明るさを確保し、かつ、その中心光度を適正な値に設定した上で、ハイビーム用配光パターンの中心光度を十分高くする。 - 特許庁

The method comprises a step of preparing an optical mask having a reference pattern and a comparison pattern, and projecting the optical mask on a prescribed image forming plane by using an exposure beam after loading the optical mask in an exposure system wherein a prescribed exposure beam is used.例文帳に追加

基準パターン及び比較パターンを具備する光学マスクを準備して、所定の露光ビームを使用する露光システム内に光学マスクをローディングした後、露光ビームを使用して光学マスクを所定の結像面に投映する段階を含む。 - 特許庁

This method includes steps of providing a radiation source 14 capable of emitting a beam pattern, positioning a detector 16 to receive radiation emitted from the radiation source, and causing the radiation source 14 to emit the beam pattern.例文帳に追加

本方法は、ビームパターンを照射することができる放射線源１４を設けるステップと、放射線源から照射された放射線を受けるように検出器１６を位置決めするステップと、放射線源１４にビームパターンを照射させるステップとを含む。 - 特許庁

Beam emission intensity from the auxiliary lamp unit 18 is regulated by a dimming unit to intensity the blightness of the low-beam light distribution pattern P(L) by the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa of blightness in response to a traveling condition of the vehicle.例文帳に追加

さらに、調光ユニットによって補助灯具ユニット１８のビーム照射強度を調整することにより、車両走行状況に応じた明るさの補助配光パターンＰａでロービーム配光パターンＰ（Ｌ）の明るさを補強可能とする。 - 特許庁

Each movable shade 48 advances or recedes with respect to the light axis of the bulb 30, and forms a light distribution pattern for a low-beam by shielding a part of a light at an advanced position while allowing formation of a partial shape of a light distribution pattern for a high-beam at a receded position.例文帳に追加

各可動シェード４８は、バルブ３０の光軸に対し進退可能であり、進出位置において光の一部を遮ってロービーム用配光パターンを形成し、退避位置においてハイビーム用配光パターンの一部形状の形成を許容する。 - 特許庁

The light supply optical system makes a projection magnification of the intermediate image of the first pattern along an incident face of the first measuring beam to the tested face different from that of the intermediate image of the second pattern along an incidence face of the second measuring beam to the tested face.例文帳に追加

送光光学系は、第１測定光の被検面への入射面に沿った第１パターンの中間像の投射倍率と、第２測定光の被検面への入射面に沿った第２パターンの中間像の投射倍率とを異ならせる。 - 特許庁

By responding to the lamp driving control signal, a stepping motor 2 drives a road lighting lamp 1 so as to add the optical beam of a desired pattern by changing the focus distance of the optical beam of the lamp 1.例文帳に追加

ランプ駆動制御信号に応答してステッピングモータ２は道路照明ランプ１を駆動して、該ランプ１の光ビームの焦点距離を変えて所望のパターンの光ビームを付加する。 - 特許庁