「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent a lowering in the accuracy of pattern observation or inspection on the basis of information signals from a target via the irradiation of each charged particle beam, and an electron beam property measurement or the like.例文帳に追加

各荷電粒子ビーム照射によるターゲットからの情報信号に基づくパターン観察やパターン検査、あるいは電子ビーム性状測定などの精度が低下を防止する。 - 特許庁

A device manufacturing method includes a process that a pattern is given to an array of a plurality of individually controllable elements so as to modulate a radiation beam, and the modulated radiation beam is projected to a substrate.例文帳に追加

デバイス製造方法は、放射ビームを変調するよう複数の個別制御可能素子アレイにパターンを与え、変調された放射ビームを基板に投影することを含む。 - 特許庁

A beam irradiation machine 24 for irradiating a visible light beam with a pattern determined in accordance with a predetermined rule on the road surface is installed so as to notify another person of the presence of the one's own vehicle.例文帳に追加

自車両の存在を他者に知らせるべく道路路面上に所定の規則に従って定められたパターンで可視光ビームを照射するビーム照射機２４を設ける。 - 特許庁

To provide a recording device and method for forming a latent pattern by irradiation with an exposure beam, the device and method causing no beam current loss and achieving highly precision and high throughput.例文帳に追加

露光ビームを照射して潜像パターンを形成する記録装置と記録方法において、ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高い装置及び方法を提供する。 - 特許庁

A pattern 2 of array marks 20 widely distributed on a substrate 1, and arrays 21 and 22 of dots, are projected on the substrate 1 by a beam patterning and projection system 3 with a patterning radiation beam.例文帳に追加

基板１上に広く分布する整列マーク２０のパターン２、ドットの列２１、２２を、一方ビームパターニングおよび投影システム３によりパターン化放射線ビームを基板１上に投影する。 - 特許庁

To improve resolution, decrease line edge roughness, and furthermore enable irradiation of pixels, in accordance with grey scale in the region defining device for multi-beam pattern of a particle-beam processing device.例文帳に追加

粒子ビーム処理装置のマルチビームパターンの画定デバイスにおいて、解像度を向上させ、ラインエッジ粗さを軽減させ、さらに画素をグレースケールに従って照射することを可能とさせる。 - 特許庁

The primary axis 100 of the light beam emitted from the surface emitting laser 1 is approximately perpendicular to the photodetector 3, and a beam spot is formed on the optical pattern surface of the scale 2.例文帳に追加

面発光レーザ１より出射される光ビームの主軸１００は光検出器３に対し略垂直であり、スケール２の光学パターン面にビームスポット８０を形成する。 - 特許庁

To obtain a pattern forming method which facilitates application of an electron beam lithography technique, and to obtain an electron beam emission element used for the method and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

電子ビーム描画技術を容易に適用することができるパターン形成方法並びにその方法に使用される電子線放出素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electron beam detector and an electron beam drawing technology using it wherein an effective range of an opening pattern on a scattered body is made large and drawing with a high precision is possible.例文帳に追加

散乱体上の開口パターンの有効な範囲を広くし、高精度な描画を可能にする電子ビーム検出器とそれを用いた電子ビーム描画技術を提供する。 - 特許庁

Accordingly, the beam emitted from the end face 3 becomes substantially single lobe of the far field pattern by the recesses 4 and 4 to become the beam suitable for an optical communication equipment or an optical memory device.例文帳に追加

したがって、光出射端面３から出射するレーザ光は、凹面４，４によって遠視野像が略単一ローブになって、光通信機器や光メモリ機器に好適なレーザ光になる。 - 特許庁

To prevent drawing data from being very large in amount owing to a smaller beam diameter and higher resolution which are inevitable for a finer pattern to be exposed in a laser beam exposing method.例文帳に追加

レーザビーム露光方法において、露光するパターンの微細化に対応するために不可避となる描画ビーム径や分解能の微細化による描画データの肥大化を防ぐことを課題とする。 - 特許庁

The decorating device 10 includes a laser beam irradiation device 13 and a control device 14 for controlling the laser beam irradiation device 13, and decorates a pattern on a surface of an automobile decorating component 1.例文帳に追加

加飾装置１０は、レーザ照射装置１３とそのレーザ照射装置１３を制御するための制御装置１４とを備え、自動車用加飾部品１の表面に絵柄を加飾する。 - 特許庁

To eliminate a wiring pattern and connection hole for controlling an electrical potential of a beam, in an optical modulator which deforms the beam fixed at both ends having a light reflection area with electrostatic attraction.例文帳に追加

光反射領域を有する両端固定梁を静電力で変形させる光変調装置において、梁の電位を制御するための配線パターンや接続光を排除する。 - 特許庁

Even if there is a interference generating source, if the wireless terminal exists in a direction different in terms of a beam space, the interference wave can be suppressed by the beam pattern and the base station can communicate with the wireless terminal.例文帳に追加

干渉波発生源があってもこれとビームスペース的に異なる方向に無線端末があれば干渉波をビームパターンにより抑圧でき無線端末と通信可能になる。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure system capable of shortening a time of waiting deflection control only in exposure of a specific pattern without remarkably revamping a conventional electron beam exposure system.例文帳に追加

従来の電子線露光装置に大幅な改造を加えることなく、特定のパターンの露光時にのみ偏向制御待ち時間を短くすることが可能な電子線露光装置を提供する。 - 特許庁

The arithmetic unit calculates the coefficients of the elements in a proposed method so that the beam pattern of the array antenna has a flat top main lobe having an adjustable beam width and a specified side lobe ratio.例文帳に追加

演算器は、アレイアンテナのビームパターンが調整可能なビーム幅を持つフラットトップなメインローブと所定のサイドローブ比を持つように、提案された方法で素子の係数を演算する。 - 特許庁

The lithographic apparatus has a support configured so as to support a patterning device capable of forming a patternized radiation beam by giving a pattern to the section of the radiation beam.例文帳に追加

リソグラフィ装置は放射線ビームのその断面にパターンを与えてパターン化放射線ビームを形成することの可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持を備える。 - 特許庁

The lithographic projection apparatus comprises a radiation system for providing a projection beam of radiation having a wavelength λ_1 smaller than 50 nm, a support structure for supporting the patterning means that serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

５０ｎｍ未満の波長λ_1を有する放射線の投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

The lithographic apparatus is comprised of a radiation system for providing a projection beam of radiation, a first support structure for supporting patterning means which serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a second support structure for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ機器は、放射投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターン化手段を支持する第１支持構造と、基板を支持する第２支持構造と、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影する投影システムとを備える。 - 特許庁

To provide a resist composition capable of improving the performance in minute processing of a semiconductor element using an electron beam, an X ray, a KrF excimer laser beam, or an ArF excimer laser beam, excellent in terms of sensitivity, resolution, focal margin (DOF) performance, LWR, reduction of blur, and reduction of pattern surface roughness; and to provide a pattern-forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上であり、感度、解像力、フォーカス余裕度（ＤＯＦ）性能、ＬＷＲ、裾引き低減、パターン表面荒れの低減に優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system which forms a beam of radiation, the pattern grant equipment which is supported by a support structure and gives a desired pattern to a cross section of the beam of radiation, a substrate holder which holds the substrate, a projection system which projects the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a conditioned chamber.例文帳に追加

リトグラフ装置が、放射ビームを形成する照射系と、支持構造体により支持され、放射ビームの横断面に所望パターンを付与するパターン付与装置と、基板を保持する基板保持具と、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、調整室とを含む。 - 特許庁

Concerning equalization of the beam width to the 20 GHz and 30 GHz signals, a feed 16 overlaps the beam pattern of 20 GHz on the beam pattern of 30 GHz and performs both transmission and receiving of signals between the satellite and the same prescribed block on the ground.例文帳に追加

２０ＧＨｚ及び３０ＧＨｚ信号に対してビーム幅を等しくすることに関して、フィード１６は、３０ＧＨｚビーム・パターン上に２０ＧＨｚビーム・パターンを重ね合わせ、衛星及び地表上の同じ所定区域間において信号の送信及び受信双方を行なうように構成することができる。 - 特許庁

A micromachining apparatus is used, which includes an AFM having a plurality of independently actuatable probes and uses an electron beam or a helium ion beam produced by a gas field ion source; wherein an isolating pattern 9 including a defect is grounded by bringing the conducting probe 6 into contact with the pattern, and then an opaque defect 8 is corrected while preventing charge-up by the electron beam 1.例文帳に追加

独立に駆動できる複数の探針を有するAFMを付加した電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビーム微細加工装置で、導電性探針6を接触させることで欠陥を含む孤立したパターン9を接地して、電子ビーム1によるチャージアップを防止しながら黒欠陥8を修正する。 - 特許庁

Lithographic equipment is provided with an illumination system for supplying a radiation beam, a pattern applying device integrated with the array of respectively controllable elements for applying a pattern to a beam cross-section, a substrate table for supporting a substrate and a projection system integrated with a micro-lens array for projecting a beam to the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ機器は、放射ビームを供給する照明系と、ビーム断面にパターンを付与する個々に制御可能な素子の配列の組み込まれたパターン付与装置と、基板を支持する基板テーブルと、基板の目標部分にビームを投影する微小レンズ配列の組み込まれた投影系とを備える。 - 特許庁

By this, the light distribution pattern for low beam with the intended pattern form and lightness distribution is obtained as a synthesized light distribution pattern of light irradiated from the three kinds of lighting fixture units.例文帳に追加

そしてこれにより、これら３種類の灯具ユニットからの光照射により形成される配光パターンの合成配光パターンとして、所望するパターン形状および光度分布を有するロービーム用配光パターンが得られるようにする。 - 特許庁

Then, a laser beam 20 is irradiated to the part where the wiring 2 and the pattern 11 are brought into contact and to the part where the protection film 4 and the circuit pattern 11 are brought into contact to fuse the wiring 2 or the circuit pattern 11, thus joining the two.例文帳に追加

そして配線２と回路パターン１１の接する部分及び保護膜４と回路パターン１１の接する部分にレーザ光２０を照射して、配線２または回路パターン１１を融解させることで接合を行う。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of forming a highly accurate pattern having no shortcircuit between conductive patterns at a high degree of freedom in pattern formation using an energy beam and a colloidal material containing ultrafine particles.例文帳に追加

エネルギービームと超微粒子を含むコロイド材料を用いたパターン形成において、導電パターン間の短絡の無い高精細なパターンを自由度高く形成することが出来るパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The monochrome pattern 36 of the test pattern 34A has length covering all over the area in a light beam scanning direction and includes yellow(Y), magenta(M), cyan(C), black(K) and a secondary color pattern 36YC by the secondary color (superimposition) of yellow(Y) and cyan(C).例文帳に追加

テストパターン３４Ａの単色パターン３６は、光ビーム走査方向全域を覆う長さとなっており、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）、イエロー（Ｙ）とシアン（Ｃ）の二次色（重ねあわせ）による二次色パターン３６ＹＣを含んでいる。 - 特許庁

To prevent each pattern of the tracking patterns from being separated from a grid, the data mask circuit 66 generates a tracking pattern signal so that each pattern may have a length equivalent to at least two periods of the clock in a beam scanning direction.例文帳に追加

データマスク回路６６は追跡パターンの個々のパターンがグリッドから外れることを防止するため、個々のパターンが少なくともビーム走査方向に沿ってクロック２周期分に相当する長さとなるように追跡パターン信号を生成する。 - 特許庁

The method for regenerating the pattern of a photomask, for regenerating a pattern 2 formed by using chromium or molybdenum silicide on the substrate 1 of a photomask 10, includes an exposure step of exposing the pattern 2 to an argon fluoride laser beam 3.例文帳に追加

フォトマスク１０の基板１上にクロム又はモリブデンシリサイドを用いて形成されたパターン２を再生するためのフォトマスクのパターン再生方法は、パターン２にフッ化アルゴンレーザ３を露光する露光工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁

In the dimension measuring pattern formed on a substrate and being used for measuring dimensions by using a charged beam, a main pattern 10m having a length measuring portion 6 of which dimensions being measured, and a subpattern 10s adjacent to the main pattern 10m and having a focus position of charged beam equivalent to that of the length measuring portion 6 are provided.例文帳に追加

基板上に形成され、荷電ビームを用いた寸法測定に使用される寸法測定パターンにおいて、寸法が測定される測長部６を有するメインパターン１０ｍと、メインパターン１０ｍに隣接して、前記荷電ビームの合焦点位置が前記測長部６と等価であるサブパターン１０ｓを設ける構成とする。 - 特許庁

The laser beam emitted from a laser beam source 61 is subjected to on-off control by an AOM 62 in accordance with the image data, such as wiring patterns, to be formed on the body to be pattern formed and the prescribed patterns are formed on the body 100 to be pattern formed moving in a +Y direction by scanning the body to be pattern formed by means of an AOD 66.例文帳に追加

被描画体１００に描画すべき配線パターンなどの画像データに基づいて、レーザ光源６１から照射されたレーザ光をＡＯＭ６２でオン・オフ制御するとともに、ＡＯＤ６６でＸ方向に走査させて、＋Ｙ方向に移動する被描画体１００上に所定のパターンを描画する。 - 特許庁

The exposure device is equipped with a lighting system for providing a projection radiation beam, a support structure which is equipped with a pattern and supports equipment functioning to impart a pattern to a section of the projection beam, a table for holding a target object, a projection system for projecting a patterned beam on the target object, and the tilt equipment for providing a tilted projection beam.例文帳に追加

本発明は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、パターンを備えた、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能する機器を支持するための支持構造と、目標対象を保持するためのテーブルと、パターン化されたビームを目標対象に投射するための投影システムと、傾斜した投影ビームを提供するための傾斜機器とを備えた露光装置に関する。 - 特許庁

In this case, the receiving apparatus comprises a means for receiving the pilot channel in the antenna gain pattern of the multi-beam formed of a plurality of fixed directivity beams including different fixed directivity directions, or a variable directivity beam including directivity direction changing in accordance with location of a mobile terminal; and a means for receiving the data channel in the antenna gain pattern of the multi-beam or variable directivity beam.例文帳に追加

本装置は、互いに異なる固定された指向方向を有する複数の固定指向性ビームより成るマルチビーム又は移動端末の位置に応じて変化する指向方向を有する可変指向性ビームのアンテナ利得パターンで、前記パイロットチャネルを受信する手段と、マルチビーム又は可変指向性ビームのアンテナ利得パターンで、前記データチャネルを受信する手段とを備える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a stamper capable of reducing a height defect of a pattern and fluctuation of a pattern width and accurately forming a more minute pattern shape by reducing scattering of an electron beam when a conductive layer is formed under a resist layer to draw a pattern on the resist layer.例文帳に追加

レジスト層の下に導電化層を形成してレジスト層にパターンを描画する際の電子線の散乱を低減することにより、パターンの高さ不良やパターン幅のばらつきを低減し、以ってより微細なパターン形状を精度よく形成可能なスタンパの製造方法を提供する。 - 特許庁

All stripe defects contained in the dummy pattern and the main pattern are inspected, and the stripes of the dummy pattern or the main pattern rather than the defective stripes are subjected to electron beam exposure process, so that masks are improved in manufacturing yield.例文帳に追加

ダミーパターン及びメインパターンに含まれている全てのストライプの欠陥を調べ、その結果を用いてメインパターンまたはダミーパターンの欠陥ストライプの電子ビーム露光工程を行う代わりに、ダミーパターンまたはメインパターンのストライプの電子ビーム露光工程を行うことにより、マスクの製造収率を高めることができる。 - 特許庁

When an original pattern profile 1 which is to be transferred by the use of an electron beam projection exposure mask is divided into a plurality of pattern profiles that are complementary to each other, the original pattern profile 1 is divided into demarcations by the use of grids 2 whose size is determined on the basis of the minimum line width of the original pattern profile 1.例文帳に追加

電子線投影露光用マスクを用いて転写すべき原パターン形状１を、相補的な複数のパターン形状に分割するのにあたって、先ず、前記原パターン形状１を、その最小線幅を基準に一区画の大きさが決定された格子２を用いて分割する。 - 特許庁

To provide a nanoimprint mold manufacturing method and a resist pattern formation method capable of preventing a resist pattern shape from deteriorating even in an atmosphere in which oxygen exists and forming a fine transfer pattern in means for improving dry etching resistance of a resist pattern via electron beam irradiation.例文帳に追加

電子線照射によるレジストパターンのドライエッチング耐性を向上させる手段において、酸素が存在する雰囲気中でも、レジストパターンの形状劣化を防止し、微細な転写パターンを形成することを可能とするナノインプリント用モールドの製造方法およびレジストパターンの形成方法を提供する - 特許庁

A fine pattern is formed on a resist by charged beam exposure (21), the resist is heat treated (22), a rough pattern is formed on the resist through light exposure (23), the resist is heat treated again (24), and lastly the resist on which the rough pattern and the fine pattern are formed is developed (25).例文帳に追加

荷電ビーム露光によりレジストにファインパターンを形成し（２１）、次いでレジストに加熱処理を施し（２２）、次いでレジストに光露光によりラフパターンを形成し（２３）、次いでレジストに再び加熱処理を施し（２４）、最後にラフパターンとファインパターンとが形成されたレジストを現像する（２５）。 - 特許庁

By using a reference pattern surface wherein only one of the reference patterns is a special pattern different from other reference patterns to modulate power of an electron lens L1, the reference pattern surface is positioned so that main beam from the center of the special pattern pass the center of the electron lens L1.例文帳に追加

標準パターンのうち１個だけが他の標準パターンと異なった特殊パターンである標準パターン面を使用し、電子レンズＬ１のパワーを変調することにより、この特殊パターンの中心からの主光線が電子レンズＬ１の中心を通るように、標準パターン面の位置合わせを行う。 - 特許庁

Consequently, a resist pattern 12b of a lower-layer part which is not irradiated with the electron beam fluidizes to have its section tapered, thereby obtaining a resist pattern 12c whose lower opening part is reduced.例文帳に追加

これにより、電子ビームが照射されていない下層部のレジストパターン１２ｂが流動化し、断面がテーパー状となって下部の開口部が縮小したレジストパターン１２ｃが得られる。 - 特許庁

To form an intermediate conductive layer using a simple process, to prevent displacement of the pattern due to accumulated charge when a pattern, is made on a resist film with an electron beam.例文帳に追加

レジスト膜を電子ビームによりパターン描画する際に生じる電荷蓄積による描画の位置ずれを防止するための中間導電層の成形を、簡便な工程で実現する。 - 特許庁

To provide a method for forming a minute pattern on a substrate by forming a desired pattern to a resist from the center part to periphery of the substrate by two light flux interference exposure using a laser beam.例文帳に追加

レーザ光を用いた２光束干渉露光により、基板中心部から周辺部に至るまでレジストに所望のパターン形成して、基板に微細パターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

The ideal low-beam pattern PL is a light distribution pattern where a part on the side of a driving lane within the highest illuminance zone HZ (a latticed part within (C) in Fig. 2) increases.例文帳に追加

この理想のすれ違い用の配光パターンＰＬは、最高照度ゾーンＨＺ（図２（Ｃ）中、格子が施された部分）のうち、走行車線側の部分が増大している配光パターンである。 - 特許庁

In a print process carried out by lithography, a substrate moves in the direction of scanning relatively to a radiation beam with a pattern projected on the substrate, in exposure for scanning a pattern feature.例文帳に追加

リソグラフィによるプリントプロセスにおいて、パターンフィーチャのスキャン露光中に、基板上に投影されているパターン付き放射ビームに対して相対的に、基板がスキャン方向において移動される。 - 特許庁