「dark-field illumination」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

This substrate inspection device for inspecting a foreign matter on the substrate 30 is equipped with an illumination system 1;1a, 1b for illuminating the substrate, an imaging system 2 for performing dark field observation of a domain on the substrate illuminated by the illumination system, and low reflection shielding members 3, 4 arranged on a transmission visual field background and a reflection visual field background of the imaging system.例文帳に追加

基板（３０）の異物を検査する基板検査装置は、基板を照明する照明系（１；１ａ，１ｂ）と、照明系により照明された基板上の領域を暗視野観察する撮像系（２）と、撮像系の透過視野背景および反射視野背景に配置された低反射遮光部材（３，４）とを備えている。 - 特許庁

To solve the problem that when illumination light which is intensely converged to illuminate over a long distance to read a bar code and a two-dimensional code at a distance in a dark place, the read visual field of a lens of an imaging means is larger at a long distance than a lighting area and the read visual field outside the lighting area is of no use.例文帳に追加

暗所で手元から離れたバーコードや２次元コードを読み取るとき、遠距離を照らすように強く集光された照明光を用いた場合、遠距離では照明領域より結像手段のレンズの読み取り視野が大きく、照明領域をはずれた読み取り視野は無駄になる。 - 特許庁

The reticle 2 for projecting a light is subjected to dark-field illumination, and the scattering light from a first reticle pattern is guided to an object lens 4 via a beam splitter 3, collimated at the object lens 4, and projected to an autocollimator mirror M.例文帳に追加

投光用レティクル２が暗視野照明され、第１レティクルパターンからの散乱光が、ビームスプリッタ３を介して対物レンズ４に導かれ、対物レンズ４でコリメートされた散乱光は、オートコリメータミラーＭに投影される。 - 特許庁

To prevent stray light, such as lens-reflected light reaching an image surface from disturbing the inspection sensitivity in a dark field defect detection method by high elevation angle illumination for detecting groove bottom short-circuit defects or scratch, after the completion of etching.例文帳に追加

エッチング完了後の溝底ショート欠陥やスクラッチを検出するための高仰角照明による暗視野欠陥検出方法において、レンズ反射光などの迷光が像面に到達することによる検査感度を阻害することを防止する。 - 特許庁

Several non-traditional polarization conditions, e.g., TM/TE polarization (with or without a central TM region), diagonal polarization, and Y+X polarization (typically used for dark field illumination) are disclosed, and that offer substantial imaging advantages for specific lithographic problems, especially at low k_1 values.例文帳に追加

いくつかの非従来型偏光条件、例えば、（中央ＴＭ領域を有するまたは有さない）ＴＭ／ＴＥ偏光、対角偏光、および（通常、暗視野照明に用いられる）Ｙ＋Ｘ偏光が開示され、それらは特定のリソグラフィ問題、特に低ｋ_１値に対して結像についてのかなりの利点を提供する。 - 特許庁

The method for inspecting the circular lens includes a step of taking an image of the circular lens under dark-field illumination (S1), a step of extracting a blue plane image from the acquired color image and converting to gray scale (S2), a step of calculating the center coordinate of the circular lens by binarizing and labeling (S3) and then a step of expanding the data of the contour part linearly (S4).例文帳に追加

暗視野照明で円形レンズを撮像し（Ｓ１）、得られたカラー画像から青プレーン画像を抽出してグレースケール変換し（Ｓ２）、２値化、ラベリングして円形レンズの中心座標を算出した後（Ｓ３）、輪郭部のデータを直線状に展開する（Ｓ４）。 - 特許庁

A first imaging pick-up device 51 for imaging the light from the sample 12 through the object lens 41 and the first analyzer 43 and a second imaging pick-up device 52 for imaging the light from the sample 12 under the dark-field illumination through the object lens 41 and the second analyzer 44 are provided as an imaging pick-up device.例文帳に追加

撮像装置として、試料１２からの光を対物レンズ４１及び第１の検光子４３を介して撮像する第１の撮像素子５１と、暗視野照明による試料１２からの光を対物レンズ４１及び第２の検光子４４を介して撮像する第２の撮像素子５２とを有する。 - 特許庁

Similarly, the lens 2 supported on the inspection axis L is sequentially illuminated by transmission type dark-field illumination devices 7_1-7_3 having LEDs 8_1-8_3 for irradiating light at different irradiation angles to the lens 2 one by one, and is imaged by the camera 4.例文帳に追加

同様に、検査軸線Ｌ上に支持されたレンズ２は、レンズ２に対して異なる照射角度で光を照射するＬＥＤ８_１〜８_３を有する透過型暗視野照明装置７_１〜７_３よって１装置ずつ順次照明され、カメラ４によって撮像される。 - 特許庁

To provide a color image pickup device and monochromatic image pickup device for dark field of view and to switch the devices smoothly and accurately even when the illumination to a subject changes greatly and frequently.例文帳に追加

カラー撮像装置及び暗視用モノクロ撮像装置を備え、被写体の照度が激しく、かつ、頻繁に変化する場合においても、これらカラー撮像装置及び暗視用モノクロ撮像装置の切換えが円滑、かつ、正確に行われるようにする。 - 特許庁

This substrate inspection device for inspecting a foreign matter on a substrate (30) is equipped with a ring belt-shaped light source (14), an illumination optical system (15) for illuminating superposingly a prescribed domain on the substrate based on a light flux from the light source, and an imaging system (2) for dark field-observing the prescribed domain.例文帳に追加

基板（３０）の異物を検査する基板検査装置は、輪帯形状の光源（１４）と、光源からの光束に基づいて基板の所定領域を重畳的に照明する照明光学系（１５）と、所定領域を暗視野観察する撮像系（２）とを備えている。 - 特許庁

In this defect inspection device 1, a lens 2 supported on an inspection axis L is sequentially illuminated by reflection type dark-field illumination devices 5_1-5_4 having LEDs 6_1-6_4 for irradiating light at different irradiation angles to the lens 2 one by one, and is imaged by a camera 4.例文帳に追加

欠陥検査装置１においては、検査軸線Ｌ上に支持されたレンズ２は、レンズ２に対して異なる照射角度で光を照射するＬＥＤ６_１〜６_４を有する反射型暗視野照明装置５_１〜５_４よって１装置ずつ順次照明され、カメラ４によって撮像される。 - 特許庁

In the case of the dark field illumination, the light from the light source part 11 is made incident on one block of the optical fiber bundle 31 through the aperture of the mask body 14 and emitted from the circular block at the center part of the end face on the emitting side of the optical fiber bundle 31.例文帳に追加

暗視野照明時には、光源部１１からの光がマスク体１４の開口を通して導光用光ファイバ束３１の１つのブロックに入射し、導光用光ファイバ束３１の出射側の端面の中央部の円形のブロックから光が出射される。 - 特許庁

By installing a high-NA objective lens to the inside of a vacuum chamber and providing an illumination optical path for the inside of the objective lens to an object to be inspected in which a transparent film is formed in the surface, it is possible to achieve dark-field illumination and highly sensitively detect reflection scattering light of foreign matter or defects in the surface of the object to be inspected.例文帳に追加

表面に透明膜が形成された被検査対象物に対し、高ＮＡ対物レンズを真空チャンバ内に設置し、対物レンズ内に照明光路を設けたことにより、暗視野照明を可能にし被検査対象物表面の異物または欠陥の反射散乱光を高感度に検出できるようにした。 - 特許庁

To provide a scanning probe microscope, constituted so as to easily perform the light spot positional alignment when a cantilever is irradiated with light in a dark field illumination state, with respect to the objective lens for observing a light spot, or when the light spot is difficult to be recognized from the wavelength of ultraviolet or infrared rays.例文帳に追加

走査型プローブ顕微鏡において、光スポット観察用の対物レンズに対して、暗視野照明状態でカンチレバーに光が照射される場合や、紫外や赤外などの波長でスポットが認識しづらい場合に、光スポット位置合わせが容易に行えるような走査型プローブ顕微鏡を提供する。 - 特許庁

The substrate inspection method detects the defect on the basis of a plurality of detection brightness values and a plurality of comparison brightness values determined to detect diffusion light from a detection position on a substrate and a comparison position corresponding thereto with a plurality of detectors arranged in different directions under dark field illumination.例文帳に追加

本発明に係る基板検査方法は、暗視野照明下において基板上の検査位置及びこれに対応する比較位置からの散乱光を異なる方向に配置された複数の検出器により検出して得られた複数の検査用輝度値及び複数の比較用輝度値に基づいて欠陥を検出する基板検査方法である。 - 特許庁

In the optical system for dark-field illumination 10, an annular illumination flux supplied via a scattering member 13 disposed so as to surround an objective lens 11 coaxially with the optical axis of the objective lens 11 is condensed by a condensing member 12 located near the top end of the objective lens 11 and illuminates sample surface S obliquely.例文帳に追加

対物レンズ１１の光軸と同軸に、前記対物レンズ１１を囲むように設けられた散乱部材１３を介して供給される円環状の照明光束を、対物レンズ１１の先端付近に配置した集光部材１２にて集光させて斜めより標本面Ｓを照明するようにした暗視野照明用光学系１０において、前記散乱部材１３が、所定の発散角を有するとともに、下記式（１）を満たす位置に配置されていることを特徴とする。 - 特許庁

A high contrast defect image is obtained by the dark field illumination, while the defect is observed without relating to the defect direction by having scanning images in different two directions of the wafer.例文帳に追加

ラインセンサを撮像素子として備える撮像手段と、暗視野照明となるようにウエーハ裏面の撮像部位を照明する照明手段と、前記撮像手段および前記照明手段とウエーハとの間を一定方向に相対移動させる移動手段と、ウエーハの略円形の中心を回転中心として回転させるウエーハ回転手段とから成り、暗視野照明によりコントラスト高い欠陥画像が得られるとともに、ウエーハの異なる２方向のスキャン画像を得ることにより欠陥の方向に関係なく欠陥を観測できる。 - 特許庁