「developing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

In the plate making method, a photosensitive planographic printing plate having a photopolymerizable photosensitive layer containing a compound having at least one addition polymerizable ethylenically unsaturated double bond and a photopolymerization initiator on a support is exposed and developed with the developing solution.例文帳に追加

Ａ−Ｗ （Ｉ） （式中、ＡはA-HのlogPが１．５以上の疎水性有機基を表し、ＷはW-HのlogP が１．０未満の非イオン性の親水性有機基を表す。）；付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個有する化合物及び光重合開始剤を含有する光重合性感光層を支持体上に有する感光性平版印刷版を露光後、上記の現像液によって現像することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

To provide a solder mask ink excellent in photosensitivity to active energy rays, able to form patterns by developing with a dilute aqueous alkali solution, not only highly insulative and excellent in tight adhesiveness and plating resistance with having sufficient film strength of cured films prepared by heat curing in the postbake treatment, but expressing stable electric characteristics, especially under high temperature and moisture.例文帳に追加

本発明はプリント配線基板の高信頼性を達成する為に、活性エネルギー線に対する感光性に優れ、希アルカリ水溶液による現像にてパターン形成できると共に、後硬化（ポストベーク）にて熱硬化して得られる硬化膜が十分な膜強度を有し高絶縁性で密着性、メッキ耐性に優れるだけでなく、特に高温高湿下にて安定した電気特性を示すソルダーマスクインキを提供することを目的とする。 - 特許庁

In the positive type electron beam or X-ray resist composition containing (a) a compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays and (b) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid and increases solubility in an alkali developing solution, the compound (a) contains a specified sulfonic ester and a specified onium sulfonate.例文帳に追加

（ａ）電子線又はＸ線の照射により酸を発生する化合物、（ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有するポジ型電子線又はＸ線レジスト組成物において、電子線又はＸ線の照射により酸を発生する化合物が、特定のスルホン酸エステルと特定のオニウムスルホン酸塩を含有することを特徴とするポジ型電子線又はＸ線レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) an acid generating sulfonium slat compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units having a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid, (C) a solvent, (D) an organic basic compound and (E) a surfactant having a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表される酸を発生するスルホニウム塩化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）溶剤、（Ｄ）有機塩基性化合物、及び（Ｅ）特定構造の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

This positive photoresist composition contains (A) a sulfonic acid generating compound represented by a specified structure, (B) an acid decomposable resin containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid, (C) a solvent, (D) an organic basic compound and (E) a surfactant with a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表されるスルホン酸を発生する化合物、（Ｂ）特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性樹脂、（Ｃ）溶剤、（Ｄ）有機塩基性化合物、及び（Ｅ）特定構造の界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive material is provided with a positive photosensitive composition layer containing a photothermoconverting substance for absorbing light from an image exposure light source and converting it into heat, and an alkali-soluble organic polymer compound having a phenolic hydroxyl group, and this photosensitive material is imagewise exposed and developed with the alkaline developing solution containing an alkali metal hydroxide and an alkali metal silicate and silicones and having a pH of ≥12.例文帳に追加

画像露光光源の光を吸収して熱に変換する光熱変換物質、及び、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性有機高分子物質を含有するポジ型感光性組成物層を画像露光したポジ型感光体を、アルカリ金属の水酸化物とアルカリ金属の珪酸塩とを含有し、ｐＨが１２以上で、かつ、シリコーン類を含有するアルカリ現像液で現像するポジ型感光体の現像方法、及びそれに用いる現像液。 - 特許庁

A photosensitive planographic printing plate with a photosensitive layer of a photopolymerization type photosensitive composition containing a compound having an ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator and a polymer binder on an aluminum substrate is imagewise exposed and developed with a developing solution of pH 10.0-12.5 having 3-30 mS/cm electric conductivity and containing an inorganic alkali agent and a nonionic surfactant having a polyoxyalkylene ether group.例文帳に追加

アルミニウム支持体上にエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、光重合開始剤、及び、高分子結合剤からなる光重合型感光性組成物の感光層を有する感光性平版印刷版を、画像露光した後、無機のアルカリ剤とポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン系界面活性剤を含有し、ｐＨ１０．０〜１２．５、導電率３〜３０ｍＳ／ｃｍの現像液で現像することを特徴とする。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with electron beams or X-rays, a resin having the residue of a compound having a smaller ionization potential than p- ethylphenol in a group which is released by the action of the acid and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one acetal compound having a specified structure.例文帳に追加

電子線またはＸ線の照射により酸を発生する化合物、酸の作用により脱離する基の中に、ｐ−エチルフェノールのイオン化ポテンシャル値より小さいイオン化ポテンシャル値を示す化合物の残基を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び特定の構造のアセタール化合物のうち少なくとも一種を含有することを特徴とする電子線またはＸ線用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition is obtained by dissolving a base component (A) which exhibits changed solubility in an alkali developing solution under action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure, in an organic solvent (S).例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を有機溶剤（Ｓ）に溶解してなるレジスト組成物であって、基材成分（Ａ）が、−ＳＯ_２−を含む環式基が側鎖に存在する構成単位（ａ０）を有する高分子化合物（Ａ１）を含有し、有機溶剤（Ｓ）が５〜７員環を有する環式ケトン若しくは一般式：［式中、Ｒ^４は炭素数１〜５のアルキル基、Ｒ^５は炭素数１〜３のアルキル基、ｎは０〜２の整数である。 - 特許庁

The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains (A) a compound generating an acid by irradiation with actinic rays or radiation, (B) a resin showing an increase in dissolution rate with an alkali developing solution by an action of an acid, and (C) a hydrophobic resin.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂および、（Ｃ）疎水性樹脂を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、（Ａ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物が、下記一般式（１）で表される酸を発生する化合物であることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

The photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing repeating units corresponding to hydroxystyrene and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether propionate and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether and ethoxyethyl propionate.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive material superior in sensitivity, developability, etching endurance, heat resistance, and adhesion to a substrate and developable with an aqueous alkaline developing solution and usable for a positive resist for manufacturing the semiconductor integrated circuit and the like by using a copolymer composed essentially of repeating units derived from specified monomers.例文帳に追加

半導体集積回路、液晶表示素子用ＴＦＴ回路等の回路製造用のポジ型レジストとして、アルカリ水溶液からなる現像液によって現像でき、感度、現像性、残膜率、耐熱性、基板との密着性等に優れた感放射線性材料、さらに層間絶縁膜、カラーフィルター保護膜、回路保護膜等の永久膜として、耐熱性、基板との密着性、可視光領域における透明性、耐薬品性、寸法安定性等に優れた感放射線性材料を提供する。 - 特許庁

The resist composition contains a base material component (A), which generates an acid by exposure and the solubility to a developing solution is changed by an action of an acid.例文帳に追加

露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（ａ０−１）で表される基を有する構成単位（ａ０−１）と、α位の炭素原子に結合した水素原子が置換基で置換されていてもよいアクリル酸エステルから誘導される構成単位であって酸の作用により極性が増大する酸分解性基を含む構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

When a silver halide photographic sensitive material having at least one photosensitive silver halide photographic emulsion layer on the substrate is developed, fixed, stabilized and dried with an automatic processing machine having a developing tank, a fixing tank, a stabilizing tank and a drying part, a stabilizing solution not substantially containing aldehydes is used, the stabilizing tank is divided into two or more tanks and heat drum drying is carried out.例文帳に追加

支持体上に少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀写真乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料を現像槽、定着槽、安定化槽及び乾燥部を有する自動現像機を用いて現像、定着、安定化及び乾燥処理するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法において、実質的にアルデヒド類を含有しない安定化液を用い、安定化槽を２槽以上とし、かつ乾燥処理をヒートドラム乾燥とすることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

The resist composition includes: a base component (A) the solubility of which with a developing solution changes by an action of an acid; and an acid generator component (B) which generates an acid by exposure, the acid generator component (B) including an acid generator (B1) having a group expressed by the formula (b1-1) in a cationic moiety.例文帳に追加

酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）は、式（ｂ１−１）で表される基をカチオン部に有する酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物［式中、Ｒ’は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基又はシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基であり、ｐは０〜４の整数である。 - 特許庁

The positive resist composition contains a base material component (A') which has high solubility against alkali developing solution by action of acid and generates acid by exposure.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大し、且つ、露光により酸を発生する基材成分（Ａ’）を含有するポジ型レジスト組成物であって、基材成分（Ａ’）が、一般式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０−１）と、露光により酸を発生する構成単位（ａ０−２）と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）とを有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物［式中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜５のハロゲン化アルキル基であり、Ｒ^２は２価の連結基であり、Ｒ^３は、その環骨格中に−ＳＯ_２−を含む環式基である。 - 特許庁