「developing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

The radiation sensitive resist composition contains a silicon (Si)-containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent, a solvent and a basic compound having ≥5 repeating units with a specified structure as an average number (n) of repeating units.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加するケイ素（Ｓｉ）を含有する樹脂と、光酸発生剤と、溶剤と、特定構造の繰り返し単位を平均繰り返し単位数（ｎ）で５個以上有する塩基性化合物とを含有してなる感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a photopolymerization type photosensitive phosphor paste composition using pure water as a developing solution, ensuring a low baking temperature after the formation of a fluorescent membrane and capable of easily regulating the line width and sharpness of a fluorescent membrane pattern and to provide a method for forming a fluorescent membrane using the composition.例文帳に追加

純水を現像液として使用し、蛍光膜の形成後、焼成温度が低く、且つ蛍光膜パターンの線幅及びシャープネスを容易に調節することのできる光重合型の感光性蛍光体ペースト組成物及びこれを用いた蛍光膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a resin for resist-protective film, high in water resistance, forming uniform coating film on a photoresist resin layer and also undergoing dissolving treatment with an alkaline developing solution, and to provide a method for producing a semiconductor using the above protective film.例文帳に追加

本発明の目的は、耐水性に優れ、フォトレジスト樹脂層に均一な塗膜形成が可能であり、さらにアルカリ現像液で溶解処理が可能であるレジスト保護膜用樹脂の製造方法及びその保護膜を使用した半導体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The radiation sensitive resist composition contains (A) a resin containing Si atoms and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, (B) a photo-acid generating agent, (C) a solvent and (D) a compound having a nitrogen-containing basic group and an acidic group in one molecule.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する、シリコン原子を含有する樹脂、(Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）溶剤、及び（Ｄ）分子内に含窒素塩基性基及び酸性基を有する化合物を含有することを特徴とする感放射線性レジスト組成物。 - 特許庁

The method of patterning the converted film comprises a step for laying a pattern mask in the presence of air over the ordinal pressure on a surface of polysilazan applied to a base surface, exposing it to short-wavelength UV rays having wavelengths of 100-280 nm, and dissolving and removing unexposed portions by an developing solution.例文帳に追加

該転化膜をパタ−ン化する方法は、基体面に塗膜されたポリシラザン面に、常圧以上の空気の存在下でパタ−ンマスクを載置し、これに１００〜２８０ｎｍの波長を有する短波長紫外線を露光して後、未露光部分を現像溶剤にて溶解除去すること。 - 特許庁

A positive resist composition comprises: (A) a resin which comprises all of repeating units represented by general formulae (I) to (III) and is rendered soluble in an alkali developing solution through the action of acid; and (B) a compound which generates acid upon exposure to an actinic radiation or a radiation.例文帳に追加

（Ａ)一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される各繰り返し単位を全て含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂および（Ｂ)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To realize the manufacture of an original sleeve printing plate with high suitability for printing by virtue of high precision thickness and ideal surface smoothness for printing and achieve enhanced workability, resources saving and environments maintainability due to a negative film making process and a developing solution process being no longer necessary, although conventionally required thus far.例文帳に追加

高精度な厚みと印刷に好適な表面平滑性による印刷適正が高いスリーブ印刷原版を製造することができ、従来のネガフィルム作製工程や溶液現像液工程を不要とすることによる作業性の向上、省資源化及び環境保全を図る。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin containing a fluorine atom and having a group which is decomposed by the effect of a specified acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and a compound (B) which generates an acid by irradiation with active rays or radiation.例文帳に追加

特定の酸の作用により分解してアルカリ現像液への溶解性を増大させる基を有し、フッ素原子を含有する樹脂（Ａ）及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains (A) resin containing repeating units represented by a specified structure and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of acid and (B) a compound which generates acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造で表される繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

After a developing solution is sprayed by a spray means, spray nozzles 71 are turned upwards above a horizontal line by a turning means 73, and in this state, the one end of a spray pipe 70 is moved upwards through the intermediary of an engaging rod 721 by the rotation of a circular cam 722 as a sloping means.例文帳に追加

スプレー手段７による現像液噴射が終了した後、回動手段７３によりスプレーノズル７１１を水平線より上方に回動させ、その状態でスプレーパイプ７０の一端を傾斜手段の円形カム７２２の回転により係止棒７２１を介して上方に持ち上げる。 - 特許庁

To provide a color developing solution for a silver halide color sensitive material whose resistance to the variation of the concentration in the plane caused by unevenness in development is suppressed in development treatment for a large-sized silver halide color sensitive material, and also to provide a method for processing a silver halide color sensitive material.例文帳に追加

本発明の目的は、大判サイズのハロゲン化銀カラー感光材料の現像処理において、現像ムラに起因する面内濃度ばらつき耐性が改良されたハロゲン化銀カラー感光材料用発色現像液とハロゲン化銀カラー感光材料の処理方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an image forming method for a silver halide photographic sensitive material by which high sensitivity and high contrast are ensured, to provide a silver halide photographic sensitive material having stable photographic properties even when the amount of a developing solution replenished is reduced and excellent in storage stability, and to provide a processing system for the material.例文帳に追加

高感度かつ高コントラストであるハロゲン化銀写真感光材料の画像形成方法、及び現像液の補充量を低減させた場合にも写真性が安定であり、また、保存安定性に優れたハロゲン化銀写真感光材料及びその処理システムを提供すること。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin which includes a specific repeating constitutional unit and whose dissolution rate in an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid and a compound which generates the acid by irradiation with active rays or radiations and patterns are formed by using the positive photoresist composition.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a method for producing a ferric sulfate solution to improve the operability without developing a slurried state during the production process, with no concern about the wear of the production apparatus and pressure loss and cloggings, etc., inside the pipings, and conduct the oxidation reaction in a considerably short time compared to the conventional case.例文帳に追加

製造工程中でスラリー状態を生じることなく、操作性の向上を図り、また装置の摩耗、配管内の圧損、目詰まり等のおそれがなく、また酸化反応も従来よりもかなり短時間ですむ、硫酸第２鉄溶液を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains a resin containing a specified repeating unit having a cyano group in a backbone and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

主鎖にシアノ基を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates a perfluoroalkanesulfonic acid when irradiated with active rays or radiation and a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射によりパーフルオロアルカンスルホン酸を発生する化合物、及び特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a polymer having repeating units with specified two acetal structures and having solubility in an alkali developing solution increased by decomposition under the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a solvent.例文帳に追加

特定の２種のアセタール構造を有する繰り返し単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大するポリマー、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains an acid decomposable polymer containing specified silicon-containing repeating units and repeating units with one of specified structures and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性ポリマーを含有する事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates a sulfonic acid having a naphthalene structure when irradiated with active light or radiation of ≤220 nm wavelength and a resin whose solubility to an alkali developing solution is increased by the action of the acid.例文帳に追加

２２０ｎｍ以下の波長の活性光線または放射線の照射によりナフタレン構造を有するスルホン酸を発生する化合物と、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

An original plate for planographic printing with an image forming layer containing an IR absorbent is imagewise exposed by irradiation with IR and developed with an alkali developing solution for a planographic printing plate containing a compound having an amino group and a carboxyl group or its salt in one molecule.例文帳に追加

赤外線吸収剤を含む画像形成層を有する平版印刷用原版を赤外線照射により画像様に露光した後、分子内にアミノ基と、カルボキシル基又はその塩とを有する化合物を含有する平版印刷版用アルカリ現像処理液を用いて現像する。 - 特許庁

Each of the positive photoresist compositions contains an acid decomposable polymer containing at least specified silicon-containing repeating units or repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の構造の繰り返し単位のうち少なくともいずれかの繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する酸分解性ポリマーを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物 - 特許庁

The developing solution for a photosensitive planographic printing plate having a photopolymerizable layer contains an alkanolamine having a 1-10C alkyl group and at least one compound having a 2-10C alkyl group and a polyalkyleneoxy group.例文帳に追加

光重合性層を有する感光性平版印刷版の現像液において、炭素数が１〜１０のアルキル基を有するアルカノールアミン及び、炭素数２〜１０のアルキル基とポリアルキレンオキシ基を有する化合物を少なくとも１種含むことを特徴とする感光性平版印刷版用現像液。 - 特許庁

This resist composition contains (A) a compound which generates an acid by being irradiated with active light or a radioactive ray, (B) resin which is dissolved by the action of the acid and whose solubility increases in alkaline developing solution, and (C) a compound which includes a long chain alkyl radical and an alkali soluble radical.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び（Ｃ）長鎖アルキル基とアルカリ可溶性基とを含有する化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a processing method for a silver halide photographic sensitive material in which a change in photographic performance in running is small and high density is maintained even if the amount of a developing solution replenished is small when a photosensitive material having a reduced amount of silver is processed with an automatic processing machine after passing through an image setter.例文帳に追加

銀量を下げた感光材料をもちいてイメージセッターに続いて自動現像機で処理する時、現像液の補充量が少なくてもランニングでの写真性能の変動が小さく、しかも高濃度を維持するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition developable with an alkali developing solution having a normal concentration, capable of forming a resist pattern having high resolution and a rectangular cross-sectional shape as an ordinary line-and-space pattern and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液を適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で断面形状が矩形であるレジストパターンを形成することができ、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れるネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Upon determination that the substrate S is stagnating at the position of the opening 15 based on the detection of the transport state of the substrate S by the detection mechanism 7, the controller 60 operates the outflow prevention device 20 in order to prevent the developing solution from leaking out from the development processing chamber 121 along the surface of the substrate S.例文帳に追加

コントローラ６０は、検出機構７による基板Ｓの搬送状態の検出に基づき基板Ｓが開口部１５の位置で停滞していると判断した場合には、基板Ｓを伝って現像液が処理室１２１から漏出するのを防止すべく流出阻止装置２０を作動させる。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin containing repeating structural units each having a specified acid decomposable group and having the velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の酸分解性基を有する繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂及び（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that does not contain a chromium compound, enables development using ultraviolet exposure and dilute aqueous alkaline solution, with high sensitivity, and is further suitable as a solder resist ink whose coating exhibits superior performance with a superior thermal stability and developing management width.例文帳に追加

クロム化合物を含まず、紫外線露光及び希アルカリ水溶液による現像が可能であって、高感度であり、しかも熱安定性及び現像管理幅が良好で、塗膜が優れた性能を示すソルダーレジストインクとして好適な感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The seamless belt is obtained by developing a resin solution on the inner surface of a cylindrical metal mold and heating the metal mold by induction heating and is characterized in that the quantities of warpage at both ends of the seamless belt are 5 mm or smaller, respectively, and the difference between the quantities of warpage at both edges is 1 mm or smaller.例文帳に追加

円筒状金型の内面に樹脂溶液を展開し、金型を誘導加熱により加温することで得られるシームレスベルトであって、シームレスベルトのベルト両端部の反り量がともに５ｍｍ以下であり、ベルト両端部の反り量の差が１ｍｍ以下とする。 - 特許庁

To provide a means for interrupting between a resist film and environment or water by applying a coating film onto the resist film, which coating film is characterized in that an exposed portion and a non-exposed portion dissolve at similar rates in a developing solution in a short period of time, for a method for applying a top coat onto the surface of the resist.例文帳に追加

トップコートをフォトレジスト表面にコーティングする方法において、露光部、非露光部ともに同様な速度で、かつ短時間で現像液に溶解するコーティング膜をレジスト膜上にコーティングすることによるレジスト膜と環境又は水と遮断する方策を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin which has a specific repeating unit having a norbornene structure at its side chain and is increased in solubility in an alkaline developing solution by the effect of an acid and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖にノルボルネン構造を有する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises: a resin (A) containing two specified repeating units having an alicyclic group and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid; and a compound (B) which generates an acid upon irradiation with an active light or a radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂環基を有する特定の繰り返し単位を２種含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

This silver halide color photographic sensitive material containing a silver halide emulsion high in silver chloride content is developed with the color developing solution containing a compound represented by formula I and replenished with a replenishing solution containing a sulfite concentration of ≤5×10-3 mol in a replenishing amount of <80 ml/m2.例文帳に追加

発色現像液の補充液を補充しながら連続的に処理するハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法において、前記ハロゲン化銀カラー写真感光材料は、高塩化銀ハロゲン化銀乳剤を含有し、前記発色現像液は、一般式〔Ｉ〕で示される化合物を含有し、発色現像液の補充液の亜硫酸濃度が５×１０^−３モル以下であって、且つ、補充量が８０ｍｌ／ｍ^２未満である。 - 特許庁

The electrostatic charge image developing yellow toner contains at least a colorant and is obtained by dissolving a toner composition containing a modified polyester resin capable of forming urea bonding in an organic solvent, allowing a polyaddition reaction to take place while emulsifying the resulting solution of the toner composition in an aqueous medium, removing the solvent of the resulting dispersion solution and carrying out washing, wherein the colorant is a compound represented by formula (I).例文帳に追加

有機溶媒中にウレア結合し得る変性されたポリエステル系樹脂を含むトナー組成物を溶解させ、水系媒体中でトナー組成物の溶解液を乳化させながら重付加反応させ、この分散液の溶媒を除去、洗浄して得られる、少なくとも着色剤を含むトナーであって、該着色剤が下記構造式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする静電荷像現像用イエロートナー。 - 特許庁

The electrostatic charge image developing yellow toner is a toner containing at least a colorant obtained by dissolving a toner compound containing a polyester resin modified for allowing urea bonding in an organic solvent, allowing a polyaddition reaction to take place while emulsifying the resulting solution of the toner composition in an aqueous medium, removing the solvent of the resulting dispersion solution and carrying out washing, wherein the colorant is a compound represented by formula (I).例文帳に追加

有機溶媒中にウレア結合し得る変性されたポリエステル系樹脂を含むトナー組成物を溶解させ、水系媒体中でトナー組成物の溶解液を乳化させながら重付加反応させ、この分散液の溶媒を除去、洗浄して得られる、少なくとも着色剤を含むトナーであって、該着色剤が下記構造式（Ｉ）で表される化合物であることを特徴とする静電荷像現像用イエロートナー。 - 特許庁

The original plate has a recording layer containing an IR absorbent and a high molecular compound insoluble in water and soluble in an aqueous alkali solution and having solubility in an alkali developing solution increased by exposure with IR laser beam on an aluminum base with an anodic oxide coating formed after surface roughening.例文帳に追加

粗面化され陽極酸化皮膜を形成され、陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの直径をｄ（ｍ）、該マイクロポアの密度をρ（個／ｍ^2）としたとき、両者が下記（１）式を満たす関係にあるアルミニウム支持体上に、赤外線吸収剤、水不溶性且つアルカリ水溶液可溶性高分子化合物を含有し、赤外線レーザ露光によりアルカリ現像液に対する可溶性が向上する記録層を有することを特徴とする。 - 特許庁

In the photomechanical process in which a direct image forming waterless planographic printing plate obtained by successively disposing at least a heat sensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate and imagewise irradiated with laser light is processed with at least a pre-processing solution and developed in the presence of water or a water-base developing solution, the residual rate of the heat sensitive layer after the development is ≥60%.例文帳に追加

レーザーを画像照射した、基板上に少なくとも感熱層、シリコーンゴム層を順次積層してなる直描型水なし平版印刷版を少なくとも前処理液で処理した後に、水または水を主成分とする現像液の存在下で現像する製版方法において、現像後の感熱層の残存率が６０％以上であることを特徴とする直描型水なし平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

In this processing method, at least one of a developing solution in the developing tank of the processing machine and a fixing solution in the fixing tank is circulated in 2.0-10.0 l/min circulation rate.例文帳に追加

支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤層またはその他の非感光性親水性コロイド層に少なくとも一種のヒドラジン誘導体を含有し、且つ色素添加量が１０ｍｇ／ｍ^2以下のハロゲン化銀乳剤層を有する側のＧｅｌ量が３ｇ／ｍ^2以下であるハロゲン化銀写真感光材料をイメージセッターで露光し、その後自動現像機で処理する方法において、該自動現像機の現像槽中の現像液、或いは、定着槽中の定着液の少なくともいずれか一方の液が循環しており、かつ該循環量が２．０ｌ／ｍｉｎ以上１０．０ｌ／ｍｉｎ以下であることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

A silver halide emulsion is applied on a substrate and developed with a diffusion transfer developing solution to form a thin silver film and subsequent processing is carried out with a processing solution having 0 to <0.1 ppm chlorine ion concentration to produce the objective planographic printing original plate used for manufacturing a planographic printing plate by removing the thin silver film by heat-mode laser exposure.例文帳に追加

ヒートモードのレーザ露光を用いて銀薄膜を除去することにより平版印刷版を作製するため用いる平版印刷原版の製造方法であって、少なくとも、平版印刷原版の支持体にハロゲン化銀乳剤を塗布し、拡散転写現像液により現像して銀薄膜を形成させる製造方法において、該現像液による現像処理工程以降の液体処理を塩素イオン濃度が０ｐｐｍ以上０．１ｐｐｍ未満の処理液で行うこと。 - 特許庁

The developing solution for the photosensitive lithographic printing plate used after the photosensitive lithographic printing plate is image exposed is an alkali aqueous solution containing at least a compound represented by general formula (1) :R_1-O-(R_2-O)_n-SO_3^-X^+.例文帳に追加

アルミニウム支持体上に、少なくとも付加重合可能なエチレン性不飽和結合を含有する化合物、光重合開始剤、及び高分子結合材からなる光重合型感光性樹脂組成物の感光層を有する感光性平版印刷版を画像露光した後使用する感光性平版印刷版用現像液が、少なくとも下記一般式（１）で表される化合物を含有するアルカリ水溶液であることを特徴とする感光性平版印刷版用現像液。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which has near IR wavelength region laser responsiveness to make responded portions soluble in a developing solution by exposure to and response with a laser of a near IR wavelength region, is extremely good in adhesion properties to a copper plating surface or copper alloy plating surface even at a lowered burning temperature, is well developed, and has high sensitivity.例文帳に追加

近赤外波長域のレーザーに露光感応して該感応部が現像液に可溶になる近赤外波長域レーザー感応性を有し、バーニング温度を低くしても銅メッキ面又は銅合金メッキ面に対する密着性が極めて良好であり現像が良好にできて高感度であるポジ型感光性組成物。 - 特許庁

To provide a quality control method to keep the quality of a planographic printing plate constant and to continuously form uniform images by easily judging the activity state of a developing solution for a planographic printing plate having a negative image forming layer for an IR laser for direct platemaking and by back feeding the result to the platemaking step.例文帳に追加

ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ネガ型画像形成層を有する平版印刷版の現像液の活性状態を容易に判定し、その結果を製版工程にフィードバックすることで平版印刷版の品質を一定に保ち、均一な画像を連続的に形成するための品質管理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an energy beam curable photosensitive composition excellent in developability, curability, stability and the resistance of the exposed part to a developing solution and capable of forming a cured coating film excellent in adhesion, electric insulating property, resistance to the heat of soldering, solvent, acid and alkali resistances and plating resistance required by a soldering resist.例文帳に追加

現像性、硬化性、安定性、露光部の現像液に対する耐性に優れ、しかもソルダーレジストに要求される密着性、電気絶縁性、はんだ耐熱、耐溶剤性、耐酸性、耐アルカリ性、並びに耐メッキ性に優れた硬化塗膜を形成し得るエネルギー線硬化型の感光性組成物を提供する。 - 特許庁

The resist composition contains a resin component (A) that generates an acid by exposure and shows changes in the solubility with a developing solution by an action of the acid.例文帳に追加

露光により酸を発生し且つ酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ）を含有するレジスト組成物であって、前記樹脂成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１は直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基であり、Ｒ^ｆは炭素数１〜４のフッ素化アルキレン基であり、Ｑ^＋は有機カチオンである。 - 特許庁

To provide a composition for forming the lower layer of a resist film which has strong absorption regarding a KrF excimer laser or the like, does not cause intermixing with the upper layer of the photoresist film, and furthermore can be simultaneously developed when the upper layer of the photoresist is developed with an alkaline developing solution and a crosslinking agent to be used in the composition.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー等に対して強い吸収を持ち、上層のフォトレジスト膜とのインターミキシングを起こさず、さらに上層のフォトレジスト膜がアルカリ性現像液で現像される際に同時に現像されるレジスト下層膜を形成するための組成物、及び当該組成物に用いる架橋剤を提供する。 - 特許庁