「developing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive type photoresist composition contains (A) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (B) a resin having a specified alicyclic structure in the principal chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）特定の脂環式構造を主鎖に有し、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition comprises (A) a resin including a specified repeating unit having a fluorine atom and a polycyclic structure and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound that generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）フッ素原子を有し多環構造をもつ特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having a specified alicyclic hydrocarbon group in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a black-and-white silver halide photographic sensitive material less liable to variation of photographic performance in running and free of occurrence of unevenness in processing and residual color even if a developing solution is replenished by a small amount in processing using a photosensitive material containing a reduced amount of silver in an automatic processing machine subsequent to an image setter.例文帳に追加

銀量を下げた感光材料を用いてイメージセッターに続いて自動現像機で処理する時、現像液の補充量が少なくてもランニングでの写真性能の変動が小さく、処理ムラや残色が発生しないハロゲン化銀写真感光材料を提供すること。 - 特許庁

At least two or more function members which come into contact with or proximity to each other via a developing solution at the time of image formation operation are parted from each other during the stoppage of the image formation operation and the state that the liquid column of the insulating liquid is maintained in the spaced part.例文帳に追加

画像形成動作時に互いに現像液を介して接触又は近接してる少なくとも２以上の機能部材が、画像形成動作停止時において離間されており、且つ、離間部に絶縁性液体の液柱が形成されている状態が保たれること。 - 特許庁

Then, the rinse liquid is supplied on the substrate 100 by with the rinse liquid discharging nozzle 12, while moving the developing solution discharging nozzle 11 together with the rinse liquid discharging nozzle 16 from the position in one side out of the substrate 100 to the position in the other side out of the substrate 100, passing over the substrate 100.例文帳に追加

その後、現像液吐出ノズル１１をリンス液吐出ノズル１２とともに基板１００外の一方側の位置から基板１００上を通過して基板１００外の他方側の位置へ移動させつつリンス液吐出ノズル１６によりリンス液を基板１００上に供給する。 - 特許庁

To provide a positive lithographic printing plate material which excels in sensitivity and developability (image forming ability and development start time) even in development processing with a developing solution of low pH, therefore excels also in work efficiency, safety and environmental fitness.例文帳に追加

本発明の目的は、低ｐＨの現像液での現像処理でも、感度、現像性（画像形成能力、現像開始時間）に優れた、従って、作業性、安全性、環境適性にも優れた、ポジ型平版印刷版材料およびポジ型平版印刷版の画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁

The positive resist composition includes a base component (A) which exhibits increased solubility in an alkali developing solution under an action of an acid, and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含有し、前記基材成分（Ａ）は、一般式−Ｒ^２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒ^１［式中、Ｒ^１は酸解離性溶解抑制基、Ｒ^２は２価の炭化水素基である。 - 特許庁

The base-reactive, surface-modifying agent is reactive to hydroxide and increases the surface hydrophobicity of a pattern formed in a layer of the radiation-sensitive composition upon treatment with a basic developing solution during lithographic processing of a substrate.例文帳に追加

塩基に反応性の表面を改質する薬剤は、水酸化物に対して反応性のものであると共に基体のリソグラフィーの加工をする間に塩基性の現像する溶液での処理の際に放射に敏感な組成物の層に形成されたパターンの表面の疎水性を増加させる。 - 特許庁

In a method for making a planographic printing plate, a planographic printing plate precursor having an image forming layer on a support having a hydrophilic surface in which a hydrophilic graft polymer chain exists is imagewise exposed and developed with an alkaline developing solution containing at least one chelating agent.例文帳に追加

親水性グラフトポリマー鎖が存在する親水性表面を有する支持体上に、画像形成層を有する平版印刷版用原版を、画像露光後、少なくとも一種のキレート剤を含有するアルカリ性現像液を用いて現像処理することを含む平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) two resins each having an alicyclic hydrocarbon group in a side chain and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）脂肪族環状炭化水素基を側鎖に有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂として２種類の樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a developing roller excellent in set performance and having high uniform conductivity by improving dispersibility and stability in resin solution for coating film to which carbon black is added and forming a resin layer concurrently having a low elastic modulus and high conductivity at the time of coating film.例文帳に追加

カーボンブラックの添加された被膜用樹脂溶液における分散性と安定性を改善し、被膜時に低い弾性率と高い導電性を併せ持つ樹脂層を形成し、セット性能に優れ、均一な高い導電性を有する現像ローラを提供することにある。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定混合溶剤を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a dissolution rate in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified dissolution inhibiting compound.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定の溶解阻止化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing repeating units with a specified structure and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and an organic solvent which dissolves the above components.例文帳に追加

特定の構造の繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物および上記成分を溶解する有機溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photosensitive composition contains a compound which generates a sulfonic acid of formula (X) when irradiated with active light or radiation and a resin having a mono- or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and having solubility in an alkali developing solution increased when decomposed by the action of the acid.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により式（Ｘ）のスルホン酸を発生する化合物と、単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解しアルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂とを含有するポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and repeating units each having a specified acid decomposable group and having solubility in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiation with active light or radiation.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位と、特定の酸分解性基を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

HYDROXYLAMINE BASED COPOLYMER, COLOR-DEVELOPING DEVELOPER FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE MATERIAL USING THE SAME, METHOD FOR TREATING SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC PHOTOSENSITIVE MATERIAL, POLYMERIZATION INHIBITOR, ACID DETERGENT FOR METAL, ELECTROLYTIC ZINC PLATING SOLUTION, DEOXIDIZER, ANTIDETERIORANT FOR RUBBER AND COLOR CHANGE INHIBITOR FOR CLOTHING例文帳に追加

ヒドロキシルアミン系共重合体、それを用いたハロゲン化銀カラー写真感光材料の発色現像液、ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法、重合防止剤、金属用酸洗浄剤、電解亜鉛メッキ液、脱酸素剤、ゴム劣化防止剤及び衣類の変褪色防止剤 - 特許庁

Each of the positive type photoresist compositions contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a specified compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active rays or radiation, a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid and a specified mixed solvent.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び特定の混合溶剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains: a blend of two or more resins each having a specified lactone monomer unit and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid; and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定のラクトンモノマー単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂の２種以上のブレンドと、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains: a resin having a plurality of specified lactone monomer units as constitutional units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid; and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定のラクトンモノマー単位の複数種を構成単位として有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

In the method for manufacturing a printing machine plate, the original plate is irradiated with active energy beams to form an image, and optionally after heating, the original plate is developed with an alkaline developing solution, washed, gummed and dried.例文帳に追加

第二の構成は、得られた平版印刷版原版に活性エネルギー線照射により画像形成し、必要に応じ加熱処理した後、アルカリ性現像液による現像処理、水洗、ガム処理、乾燥を経て印刷刷版を作製することを特徴とする印刷刷版作製方法。 - 特許庁

This composition developing a foaming phenomenon by mixing with water so as to be used for cleaning a body by pouring its aqueous solution on the body and also for tasting the beer-dousing feeling contains a beer like feeling-exhibiting component, foaming component and cleaning component.例文帳に追加

水との混合により発泡現象が起きて該水溶液を身体に掛けることによって身体を洗浄できるようにすると共にビール掛け感を味わえるようにする為の組成物であって、ビール状感奏呈成分と、発泡成分と、洗浄成分とを含有する。 - 特許庁

The positive radiation-sensitive composition contains (A) at least one compound having a specified structure which generates an acid when irradiated with active light and (B) a resin having a group which is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線の照射により酸を発生する特定の構造の化合物少なくとも１種、及び（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。 - 特許庁

This method of making the dendrimers consists in forming the dotty dendrimers of the nanometer size on the substrate by developing a solution prepared by dissolving the dendrimers in a solvent in a manner as to eliminate electrostatic interaction in the form of a thin film on the substrate, then evaporating the solvent at a high velocity.例文帳に追加

静電的相互作用のないようにデンドリマーが溶媒に溶解された溶液を基板上に薄膜状態に展開させた後、溶媒を高速蒸発させて基板上に分散されたナノメータサイズのドット状のデンドリマーを形成させるデンドリマーナノドットの作製方法。 - 特許庁

To provide a positive-type resist composition which is usable for forming patterns by using a high-energy ray having a wave length of 300 nm or shorter or an electron beam and can solve a problem of the occurrence of pattern exfoliation or pattern falling-down due to the penetration of a developing solution into an interface between the resist film and a substrate.例文帳に追加

３００ｎｍ以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成する際に使用できるレジスト組成物であって、レジスト膜と基板との界面に現像液が入り込み、パターンはがれやパターン倒れが生じるという問題を解決する。 - 特許庁

In the processing method, a silver halide photographic sensitive material having a hydrophilic colloidal layer on at least one side of the support and also having a layer containing compounds of formulae 1-4 (where W is an electron withdrawing group; D is an electron donative group; and H is a hydrogen atom) is processed with a developing solution containing reductones.例文帳に追加

支持体の少なくとも一方の側に親水性コロイド層を有し、かつ一般式（１）〜（４）の化合物を含有する層を有するハロゲン化銀写真感光材料を、レダクトン類を含有する現像液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

To provide a fluoropolymer capable of producing a coating composition having excellent properties in adhesiveness of a coating solution to a substrate and homogeneous coatability upon a coating process, recoating ability, developing ability and other after-coating characteristics of a film after a coating process, and foaming ability of a coating composition.例文帳に追加

塗工時における塗布液の基材に対する濡れ性及び均質塗工性、塗工後の被膜のリコート性、現像性等の後工程適性、塗布液の起泡性においていずれも優れた性質を示すコーティング組成物を与えるフッ素系ポリマーを提供すること。 - 特許庁

A developing solution 38 contains a light shielding dye and titanium dioxide and is spread between the 1st sheet 3 and the 2nd sheet 5 after exposure to shield the photosensitive layer 25 from light, After development, the light shielding dye is made transparent by pH lowering and a white ground is formed by the titanium dioxide.例文帳に追加

現像処理液３８は遮光染料と二酸化チタンを含有し、露光終了後に第１シート３と第２シート５との間に展開されて感光層２５を遮光し、現像終了後は遮光染料がpH低下で透明化し、二酸化チタンによって白地になる。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has at least one kind of a recursive unit having at least one radical of a particular structure, and has solubility to an alkaline developing solution increased by the action of acid and (B) a compound that generates acid by the action of active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定構造の基を少なくとも１つ有する繰り返し単位を少なくとも１種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin which has two kinds of repeating units each with a specified structure by at least one each and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, and (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の２種類の繰り返し単位を各々少なくとも一つ有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

A visible light sensitive resin film layer (A), a sheet layer (B) transparent to visible light, a visible light shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a norbornene-based repeating unit having a specified norbornane structure in the side chain and which increases the solubility with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）側鎖に特定のノルボルナン構造をもったノルボルネン系繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

Mixed monomolecular film is formed and then the surface pressure of the mixed monomolecular film is increased by developing mixed solution containing an amphipathic blockcopolymer having a hydrophilic segment and a hydrophobic segment, and a low molecular compound having compatibility with the hydrophobic segment.例文帳に追加

親水性セグメントおよび疎水性セグメントを有する両親媒性ブロックコポリマーと、前記疎水性セグメントと相溶性を有する低分子化合物とを含有する混合溶液を水面に展開して混合単分子膜を形成し、次いで前記混合単分子膜の表面圧を高める。 - 特許庁

The positive photosensitive composition comprises (A) a specified acid generator which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation and (B) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and is decomposed by the action of the acid to increase solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する特定の酸発生剤、（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 特許庁

The positive type resist composition contains (A) a resin having repeating structural units with a specified structure and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and (B) a compound having a specified structure and generating the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し構造単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、（Ｂ）特定の構造の活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) a resin which has a monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon structure and which increases the solubility with an alkali developing solution by the effect of an acid; and (B) a compound of a specified structure which generates an acid by irradiation of active rays or radiation.例文帳に追加

（Ａ）単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）特定構造の、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method of producing a master plate for planographic printing plate which can utilize the conventional processing unit and printer as they are, attains direct plate making from digital information of a computer or the like and has a photosensitive layer capable of forming a wholly uniform image and having a wide electric conductivity latitude of a developing solution.例文帳に追加

従来の処理装置や印刷装置をそのまま利用でき、コンピューター等のデジタル情報から直接製版可能であり、全体に均一な画像を形成し得る、現像液の電導度ラチチュードが広い感光層を有する平版印刷版原版の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition having a small dielectric constant, excellent in pattern accuracy and adhesiveness to a substrate, capable of developing with water or a diluted alkaline solution, and suitable for forming a printed circuit board, a solder resist for IC package or a interlayer dielectric layer or the like, and a photosensitive film using the resin composition.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、プリント配線基板やＩＣパッケージ用のソルダーレジストや層間絶縁層等の形成に適する低誘電率樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

To provide a heat-developable photosensitive material capable of forming an image by a simple environmentally-benign developing system without using solution type processing chemicals, excellent in decolorability after development and giving a high resolution clear black image and to provide an imaging method using the material.例文帳に追加

溶液系処理化学薬品を使用せずに、簡便で環境を損なわない現像処理システムにより画像形成でき、且つ現像処理後の消色性に優れ、解像度の高い鮮明な黒色画像を示す熱現像感光材料及びこれを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition contains: (A) resin which has a specified structural unit, specified molecular weight and a protection rate and which is decomposed by the effect of an acid to increase the solubility with an alkaline developing solution; and (B) a compound which generates an acid by irradiation with active radiation.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造単位を有し、特定の分子量・保護率を持つ、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び（Ｂ）活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The alkali developing solution for a color photosensitive composition contains: (A) a nonionic surfactant containing (A-1) polyoxyalkylene monostyrylphenylether and (A-2) polyoxyalkylene distyrylphenylether, in a mass ratio [(A-1)/{(A-1)+(A-2)}] of 0.2 to 0.9; and (B) a basic composition containing (B-1) potassium hydroxide.例文帳に追加

(A-1)ポリオキシアルキレンモノスチリルフェニルエーテルと、(A-2)ポリオキシアルキレンジスチリルフェニルエーテルとを、質量比［（A-1)／〔(A-1)＋(A-2)〕］が０．２から０．９の範囲で含む（Ａ）非イオン性界面活性剤、及び、(B-1)水酸化カリウムを含む（Ｂ）塩基性組成物、を含有する着色感光性組成物用アルカリ現像液。 - 特許庁

The chemically amplified resist composition contains: (A) a resin which has a specified structure and which is decomposed by the effect of an acid to increase its solubility with an alkaline developing solution; (B) a compound which generates an acid by irradiation of active rays or radiation; and (C) a component having a specified structure.例文帳に追加

（Ａ）特定構造を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）特定構造を有する成分、を含有する化学増幅型レジスト組成物により達成される。 - 特許庁

To provide a photosensitive CTP flexographic printing original plate in which a photosensitive resin layer has excellent workability and a cured body has excellent transparency and elasticity at low temperature, an IR ablation layer has high sensitivity, and both the layers can be developed with water or a water-base liquid as a developing solution.例文帳に追加

感光性樹脂層が加工性や硬化物の透明性及び低温時の弾性などに優れ、ＩＲアブレーション層が高感度であり、且つ両層が水又は水系液体の現像液で現像可能な感光性ＣＴＰフレキソ印刷用原版を提供すること。 - 特許庁