「developing solution」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a development method for developing a positive infrared photosensitive planographic printing original plate by which development is performed while supplementing development solution etc. by an automatic development machine, and a fluctuation in the sensitivity and the dot reproducibility of the plate is reduced, so that the discriminability of the plate is stably maintained for a long period of time.例文帳に追加

ポジ型赤外感光性の平版印刷用原板を自動現像機によって補充を行いながら感度と網点再現性の変動を低減させて長期安定に識別性を維持しつつ現像処理する現像処理方法を提示すること。 - 特許庁

To provide a processing method for a photosensitive planographic printing plate material, the method excellent in contamination preventing property on a non-image portion during printing and excellent in preventing sludge production in a developing solution when a great number of photosensitive planographic printing plates are processed.例文帳に追加

本発明の目的は、印刷時の非画像部の汚れ防止性に優れ、多数枚感光性平版印刷版を処理した場合の現像液中のスラッジ発生防止性に優れる感光性平版印刷版材料の処理方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition capable of forming a resist pattern good in sensitivity and resolution at the time of using an exposure light of ≤250 nm, especially, ≤220 nm, and by using a specified resin which has repeated units and is decomposed by acid to increase solubility to alkaline developing solution.例文帳に追加

２５０ｎｍ以下、特に２２０ｎｍ以下の露光光源の使用時に、良好な感度及び解像度で、密着性に優れた現像欠陥の少ないレジストパターンを与え、更に充分な耐ドライエッチング性を示すポジ型感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

The developing solution for photoresist contains 80-95% aliphatic hydrocarbon mixture containing ≥80% n-heptane and 5-20% monocyclic aromatic hydrocarbon mixture containing ≥80% 9C alkylbenzene.例文帳に追加

フォトレジスト用現像液として、ｎ−ヘプタンを８０％以上含有する脂肪族炭化水素混合物を８０％以上９５％以下と、炭素数９のアルキルベンゼンを８０％以上含有する単環式芳香族炭化水素混合物を５％以上２０％以下含む。 - 特許庁

To provide a photocuring and thermosetting resin composition highly sensitive in ultraviolet and laser exposure, having excellent hardening depth, excelling in storage stability, work efficiency and developing property with a dilute alkaline aqueous solution and suitable for a solder resist.例文帳に追加

紫外線及びレーザー露光において高感度であって、しかも硬化深度が良好であり、さらに保存安定性、作業性に優れると共に、希アルカリ水溶液による現像性に優れ、ソルダーレジストに好適な光硬化性・熱硬化性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with specified active rays or radiation and a resin having a specified structure and a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin containing specified silicon-containing repeating units and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of an acid, a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and a specified solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photoresist composition contains a resin containing specified repeating structural units and having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid and a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation.例文帳に追加

特定の繰り返し構造単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

The production process of seamless belt includes the steps of: developing a polyamide acid solution containing 2-methylimidazole as an imidization catalyst on inner or outer periphery surface; heat drying the developed layer; and making a film of a polyimide resin layer.例文帳に追加

本発明のシームレスベルトの製造方法は、イミド化触媒として２−メチルイミダゾールを含有するポリアミド酸溶液を、円筒状金型の内周面又は外周面に展開し、該展開層を加熱乾燥して、ポリイミド樹脂層を製膜する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the method for producing a planographic printing plate, an original plate for the planographic printing plate with a photosensitive layer comprising a photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator containing ≥4 aromatic rings is exposed and processed with a developing solution of ≤pH 13.0.例文帳に追加

芳香族環を４つ以上含有する光重合開始剤を含有する光重合性組成物からなる感光層を有する平版印刷版用原版を露光後、ｐＨ１３．０以下の現像液で処理することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 - 特許庁

Then, a flow reverse developing means 13 reversely develops the flow of the prescribed element in the production process flow from a product to a raw material, based on the conversion data, calculates the amount of the prescribed element by back calculation from the LP solution data, and provides the result to a user.例文帳に追加

次に、フロー逆展開手段１３は、生産プロセスフローにおける所定の要素の流れを変換データに基づいて製品から原料まで逆展開するとともに、ＬＰ解データから逆算して所定の要素の量を算出し、ユーザに提供する。 - 特許庁

By this constitution, the material component such as a cell or the like in the sample solution sufficiently reacts with the cell contracting reagent 7 and contracted to smoothly penerate in the developing layer 2 without causing clogging to enable more accurate measurement with high precision.例文帳に追加

これにより、前記試料溶液中の細胞等の有形成分が、前記細胞収縮試薬７と十分反応し、収縮してから前記展開層２へ目詰まりを起こすことなくスムーズに浸透し、より正確、かつ高精度な測定が可能となる。 - 特許庁

The radiation sensitive resin composition contains an Si- containing resin having a velocity of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of an acid, a photo-acid generating agent and a solvent and has ≤6.0 mPa.sec viscosity at 25°C.例文帳に追加

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する性質を有し、しかもＳｉ元素を含有している樹脂と、光酸発生剤と、溶剤とを含み、２５℃での粘度が６．０ｍＰａ・ｓｅｃ以下であることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。 - 特許庁

A UV sensitive resin film layer (A), a UV transmitting sheet layer (B), a UV shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面に紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）、紫外線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な紫外線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

The suction tube of the solution is thrust to the section to be fed of the automatic developing machine etc., and is thus connected thereto.例文帳に追加

底面と底面の外側端から垂直方向に立設形成した側壁を以って構成した保持部材に、フィルム膜厚が３００μ以下のフレキシブル容器に充填された溶液を装填し、溶液の吸引管を突刺して自動現像機等の被供給部に接続を行なう。 - 特許庁

After the substrate 100 is transferred to the tilting section 300, the tilting section 300 is tilted around the axis parallel to the first direction X, so that one side of the substrate 100 may be higher than the other side, to let the developing solution on the substrate 100 run off as the tilting section 300 inclines.例文帳に追加

基板１００が傾動部３００へ搬送された後、第１の方向Ｘに平行な軸を中心として基板１００の一方側が他方側よりも高くなるように傾動部３０が傾いて基板１００上の現像液が流れ落ちる。 - 特許庁

To provide a photosensitive material having high sensitivity to high energy rays such as a far ultraviolet radiation, an electron beam, an X-ray, etc., capable of developing in an alkali aqueous solution, excellent in heat resistance, and useful for a chemical amplification positive type resist material which is suitable for micromachining technology, etc.例文帳に追加

遠紫外線、電子線、Ｘ線などの高エネルギー線に対して高い感度を有し、アルカリ水溶液で現像可能であり、耐熱性に優れかつ微細加工技術に適した化学増幅ポジ型レジスト材料等に有用な感光性材料を提供する。 - 特許庁

The positive resist composition has (A) a resin which has at least two specific recurring units and has its solubility to an alkaline developing solution increased by the effect of an acid, and (B) a compound which generates an acid by the effect of active rays or radiations.例文帳に追加

（Ａ）少なくとも２種の特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び（Ｂ）活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

In the processing method for a silver halide photographic sensitive material with an automatic processing machine, a silver halide photographic sensitive material containing a compound of formula (1) is processed with a developing solution prepared from a solid processing agent not substantially containing hydroquinone and containing a compound of formula (A) as a developing agent.例文帳に追加

自動現像機を用いたハロゲン化銀写真感光材料の処理方法において、下記一般式（１）で表される化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料を、実質的にハイドロキノンを含まず、下記一般式（Ａ）で表される化合物を現像主薬として含有する固形処理剤から調製した現像液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

In the image forming method, a developing solution containing 0.5-5 mol/l developing agent is applied to a silver halide photographic sensitive material by an amount 1/10 to 10 times the maximum amount of water absorbed in the sensitive material and image information formed in the sensitive material is read out with an image sensor using infrared light to produce digital image information.例文帳に追加

０．５モル／リットル以上５モル／リットル以下の現像主薬を含む現像液を、ハロゲン化銀感光材料の最大吸水量の１／１０倍以上１０倍以下の量を該ハロゲン化銀感光材料に付与した後、該ハロゲン化銀感光材料に形成された画像情報を赤外光によるイメージセンサーで読み取ることによりデジタル画像情報を作成することを特徴とする画像形成方法である。 - 特許庁

To provide a developing solution for a photosensitive planographic printing plate which forms images having excellent developability and printing durability, drastically decreases development dregs accumulating in a developing bath in development processing and achieves stable processing for a long period of time in so-called direct plate making negative type photosensitive planographic printing plate for preparing a printing plate by scanning with a laser on the basis of a digital signal in particular of a computer etc.例文帳に追加

特にコンピュータ等のデジタル信号に基づいてレーザーを走査することにより直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能なネガ型感光性平版印刷版において、現像性及び耐刷性に優れた画像を形成し、現像処理において現像浴内に蓄積する現像カスを著しく低減可能にし、長期間安定に処理をすることができる感光性平版印刷版用現像液を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of achieving excellent compatibility when forming a dry film and excellent resolution and close adhesion property, showing equal sensitivity when exposed to light of exposure machines of both types of i-line and h-line, and developing by an alkaline aqueous solution without generating condensate during development.例文帳に追加

ドライフィルム作成時の相溶性が良好で、ｉ線、ｈ線の両方タイプの露光機した場合に同等の感度を示し、かつ解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像可能であり、かつ現像時に凝集物を発生しない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The developing solution contains at least one alkali agent selected from (A) phosphoric acid-base alkali agents, (B) silicic acid-base alkali agents, (C) carbonic acid-base alkali agents, (D) boric acid-base alkali agents, (E) amine-base alkali agents and (F) ammonium-base alkali agents and an alkylnaphthalene-base surfactant.例文帳に追加

（Ａ）リン酸系アルカリ剤、（Ｂ）ケイ酸系アルカリ剤、（Ｃ）炭酸系アルカリ剤、（Ｄ）硼酸系アルカリ剤、（Ｅ）アミン系アルカリ剤、および（Ｆ）アンモニウム系アルカリ剤より選択される少なくとも一種のアルカリ剤と、アルキルナフタレン系界面活性剤とを含むことを特徴とする現像液である。 - 特許庁

Then the insulating layer 4 is exposed to an exposure light beam 6 through a photomask 5, baking processing is carried out after the exposure, and then development is carried out for an arbitrary development time by using an arbitrary developing solution to form the insulating pattern which is sectioned in the forward tapered shape or trailing shape.例文帳に追加

その後、フォトマスク５を介して露光光線６により絶縁層４の露光を行い、露光後ベーク処理を施した後、任意の現像液と現像時間で現像することにより順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成することができる。 - 特許庁

The positive photoresist composition contains a resin-containing specified silicon-containing repeating units and having solubility with respect to an alkali developing solution increased by the action of an acid, an acid generating agent which generates acid, when it is irradiated with active light or radiation and a specified mixed solvent.例文帳に追加

特定のシリコン含有繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の混合溶剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

To provide a method for producing a planographic printing plate in which an alkali developing solution of a relatively low pH favorable to the environment and safety is used, a non-image area stably has good developability and is free of stain in printing and an image area is hardly damaged by development and ensures high image strength.例文帳に追加

環境、安全上好ましい比較的低ｐＨのアルカリ現像液を用い、安定的に、非画像部は良好な現像性を有し、印刷での汚れがなく、かつ画像部に対して現像でのダメージが少なく強固な画像強度が得られる平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

To improve the throughput of a photographic processing device by shortening standby time without increasing power consumption in a photographic printing and developing machine (photographic processing device) equipped with a drying part 12 which dries photographic paper processed with processing solution while conveying it along a predetermined conveyance path.例文帳に追加

処理液によって処理された印画紙を、所定の搬送路に沿って搬送しながら乾燥させる乾燥部１２を備えた写真焼付現像機（写真処理装置）において、消費電力を増大させることなく待機時間を短縮して、写真処理装置の処理能力を向上させる。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive resin composition useful for forming a patterned resin film which has high transparency, a low dielectric constant, high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance, and excellent adhesiveness with a substrate and which is obtained by developing with an alkali aqueous solution.例文帳に追加

高透明性、低誘電率性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた樹脂膜の形成に有用なポジ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Each of the positive type resist compositions contains (A) a resin which has repeating units with a specified structure and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The positive type photosensitive composition for a thermal flow pattern forming system contains (a) a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and (b) a resin or a mixture which is decomposed by the action of the acid to increase it solubility in an alkali developing solution.例文帳に追加

（ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び（ｂ）酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂又は混合物、を含有することを特徴とするサーマルフローパターン形成方式用ポジ型感光性組成物。 - 特許庁

Each of the positive type resist compositions contains (A) a resin which has at least three repeating units with specified separate structures and is decomposed by the action of an acid to increase its solubility in an alkali developing solution, (B) a compound which generates the acid when irradiated with active light or radiation and (C) a solvent.例文帳に追加

（Ａ）特定の構造の繰り返し単位を少なくとも３種有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition contains: resin which contains a repeating unit derived from an isosorbide (meth)acrylate and of which the dissolving rate to an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and a compound which has a naphthalene skeleton and generates an acid by being irradiated with active rays or radiation.例文帳に追加

イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、ナフタレン骨格を有する特定の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁

After the pattern exposure is performed by irradiating the resist film 11 with KrF excimer laser light 12 (the exposure light having the light component entering the resist film 11 at the Brewster angle) having the NA (numeric aperture) of 0.92, the resist pattern 14 is formed by the development with an alkaline developing solution.例文帳に追加

レジスト膜１１に対して、ＮＡが０．９２であるＫｒＦエキシマレーザ光１２（レジスト膜１１に対してブリュースター角で入射する光成分を有する露光光）を照射してパターン露光を行なった後、アルカリ性現像液により現像を行なって、レジストパターン１４を形成する。 - 特許庁

In a near IR sensitive positive type photosensitive composition with a recording layer containing a polymer soluble in an alkaline developing solution and a near IR absorbing dye, a near IR sensitive photosensitive layer having a higher alkali resistance than the recording layer is disposed as a top coat layer on the recording layer.例文帳に追加

アルカリ性現像液に可溶性のポリマーと近赤外線吸収染料を含有する記録層を有する近赤外線感応性ポジ型感光性組成物において、該記録層上に耐アルカリ性が該記録層より強い近赤外線感応性感光層を上塗り層として設ける。 - 特許庁

The resist composition contains: resin which contains a repeating unit derived from an isosorbide (meth)acrylate and of which the dissolving rate to an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid; and a specified sulfonium compound having an enone structure which generates an acid by being irradiated with active rays or radiation.例文帳に追加

イソソルバイド（メタ）アクリレートに由来する繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生するエノン構造を有する特定のスルホニウム化合物を含有する感光性組成物。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a compound having a disulfone group, (B) a low molecular dissolution inhibiting compound which is decomposed by the action of an acid to increase solubility in an alkali developing solution and has a molecular weight of ≤3,000 and (C) an alkali-soluble resin.例文帳に追加

（Ａ）ジスルホン基を有する化合物、（Ｂ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する、分子量３０００以下の低分子溶解阻止化合物、及び（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする電子線又はＸ線用ポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The color developing solution for a silver halide color sensitive material used for the development treatment of a silver halide color sensitive material comprises: a compound expressed by the general formula (1); and a compound expressed by the general formula (2).例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー感光材料の現像処理に用いるハロゲン化銀カラー感光材料用発色現像液において、下記一般式（１）で表される化合物及び下記一般式（２）で表される化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀カラー感光材料用発色現像液。 - 特許庁

In a processing method in which a silver halide photographic sensitive material is processed using an automatic developing machine, a compound of formula (1) is contained in the sensitive material and an aluminum salt is not contained in a fixing solution.例文帳に追加

自動現像機を用いてハロゲン化銀写真感光材料を処理する処理方法において、ハロゲン化銀写真感光材料中に下記一般式（１）で表される化合物を含有し、定着液中にアルミニウム塩を含有しないことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

As the developing solution 20d reaches the bottom and near the bottom of the aperture 10w, the second resist layer 17 in the region from a part on the pad electrode 12 to the dicing line DL is reliably removed to reliably expose a part of the second insulating film 16.例文帳に追加

ここで、現像液２０ｄが開口部１０ｗの底部及びその近傍に行き渡り、当該底部のパッド電極１２の一部上からダイシングラインＤＬに至る領域の第２のレジスト層１７が確実に除去されて、第２の絶縁膜１６の一部が確実に露出される。 - 特許庁

To provide a developing solution for a photosensitive lithographic printing plate and a method for engraving the photosensitive lithographic printing plate by which sludge accumulated in a development vessel is reduced to reduce load on cleaning operations and dirt adhesion to a plate material and film wear of a photosensitive layer of an image part after development is reduced.例文帳に追加

現像槽にたまるスラッジヘドロを低減し清掃作業の負担、版材の汚れ付着を減らし、更に、現像後の画像部感光層の膜減りを低減する感光性平版印刷版用現像液および感光性平版印刷版の製版方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which is highly sensitive with respect to light having wavelength of 350 nm to 410 nm and excellent in terms of resolution, adhesion and developing property after exposure and has a good solubility with respect to solution and with which a stable throughput can be obtained and deposit on resist hardly occurs.例文帳に追加

波長３５０ｎｍ〜４１０ｎｍの光線に対して非常に高感度であり、解像性、密着性、露光後の焼き出し性に優れるとともに、安定したスループットが得られ、更に溶剤に対する溶解性が良好で、レジストに析出物が発生し難い感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

Moreover, after forming the barrier rib by coating a solution obtained by dispersing only barrier rib resin over the entire surface of the substrate including the flaw part while correcting the alignment positions of the substrate and a reticle, exposing the coated surface again in a barrier rib pattern shape at the same position, and developing the substrate again, the barrier rib flaw part is repaired by thermally curing the barrier rib.例文帳に追加

また、欠陥部を含む基板全面に亘り、隔壁樹脂のみを分散させた溶液を塗布し、基板とレチクルとをアライメント位置補正し、同位置で隔壁パターン状に再露光、再現像し、隔壁を形成した後、隔壁を熱硬化することで隔壁欠陥部を修復する。 - 特許庁

To provide a photocatalyst coated object capable of developing high-degree photocatalytic decomposition activity and hydrophilic self-cleaning capacity even in a case that a photocatalyst layer is applied to the surface of a base material in a thickness of above 2 μm so as to suppress the deterioration of an enamel coating surface or clear coating surface, and a photocatalyst coating solution.例文帳に追加

エナメル塗装面やクリア塗装面の劣化を抑制するように２μｍをこえる厚膜で塗膜する場合でも高度な光触媒分解活性および親水セルフクリーニング性能を発揮することの可能な光触媒塗装体および光触媒コーティング液を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition having a low dielectric constant, high transparency, high solvent resistance, high water resistance, high acid resistance, high alkali resistance, high heat resistance, excellent adhesion to a base, and the like, the composition which is useful for forming a patterned organic film obtained by developing with an alkali aqueous solution.例文帳に追加

低誘電率であり、さらに高透明性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性、下地との密着性等に優れ、アルカリ水溶液で現像することにより得られるパターニングされた有機膜の形成に有用なポジ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁