element alの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 577件
The metal element includes Na, Al, Pb, Sn, B, Ti, Mo, W, or the like.例文帳に追加
金属元素にはNa、Al、Pb、Sn、B、Ti、Mo、W等が含まれる。 - 特許庁
NEW COMPOUND, Al-BASED FILM-FORMING MATERIAL, METHOD OF FORMING Al-BASED FILM, Al-BASED FILM AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加
新規化合物、Al系膜形成材料、Al系膜形成方法、Al系膜および半導体素子 - 特許庁
Into Nb matrix, Al-X alloy of eutectic series (X is a metallic element capable of forming eutectic with Al) or its powder, or mixed powder of Al and metallic element X capable of forming the eutectic with Al is added as the core, and after having worked this composite into a linear form, rapid heating and quenching are applied and a minute Al-X eutectic texture is formed.例文帳に追加
Nbマトリックス中に共晶系のAl-X合金(Xは、Alと共晶化可能な金属元素)若しくはその粉末又はAlと、Alと共晶化可能な金属元素Xとの混合粉末を芯として入れ、この複合体を線状に加工した後、急熱急冷処理し、微細なAl-X共晶組織を形成させる。 - 特許庁
The aluminum sintered alloy uses Al or an Al alloy as a base material, and contains a transition metal element by 0.2-5 vol.%.例文帳に追加
Al又はAl合金を母材とするアルミニウム焼結合金であり、遷移金属元素を0.2体積%以上5体積%以下含有する。 - 特許庁
Although a crystal is grown on semiconductor crystal containing Al, this semiconductor laser element is formed by using a material containing no Al.例文帳に追加
Alを含む半導体結晶の上に結晶成長をさせていたが、Alを含まない材料を用いて半導体レーザ素子を形成する。 - 特許庁
SPUTTERING TARGET MADE FROM ALLOY COMPOSED OF Al, Ni AND RARE EARTH ELEMENT例文帳に追加
Al−Ni−希土類元素合金スパッタリングターゲット - 特許庁
Thereafter, each element of the produced media data sequence is used for an AL-SDU, and the media data sequence is subjected to AL-PDU processing, MUX-SDU processing, and MUX-PDU processing in the order of reproduction to produce an H.223 bit stream (5).例文帳に追加
以後、生成されたメディアデータ列の各要素をAL-SDUとして、再生順にAL-PDU化、MUX-SDU化、MUX-PDU化を行うことでH.223ビットストリームを生成する(5)。 - 特許庁
The element cover 2 comprises an Fe-Al alloy material containing Fe as a main component and added with Al.例文帳に追加
素子カバー2は、Feを主成分としAlを添加したFe−Al合金材料からなる。 - 特許庁
The Al cabling is made a multi-layer structure and an element which does not form a continuous solid solution with Al is added to each layer.例文帳に追加
Al配線を多層構造とし、各層にはAlと全率固溶しない元素を添加する。 - 特許庁
CYLINDER PRESSURE SENSOR USING AL-SUBSTITUTED LGS SINGLE CRYSTAL AS PIEZOELECTRIC ELEMENT例文帳に追加
Al置換LGS系単結晶を圧電素子とした筒内圧センサ - 特許庁
It is preferable that additive concentrations of an Al element and a B element should be lower than that of the specific element.例文帳に追加
さらにAl元素およびB元素の添加濃度が特定元素の添加濃度より小さいのが好ましい。 - 特許庁
An Al wiring 20 around a light-emitting element is formed into a ladder shape.例文帳に追加
発光素子周辺のAl配線20の形状を梯子状にする。 - 特許庁
In the expressions, C, N, Ni, Cu, Mn, Cr, Si, Al, Mo, and Ti each denote the content (mass%) of each element.例文帳に追加
γmax=420C+470N+23Ni+9Cu+7Mn-11.5Cr-11.5Si-52Al+189…式1γpot =700C+800N+10(Mn+Cu)+20Ni-9.3Si-6.2Cr-9.3Mo-74.4Ti-37.2Al+63.2…式2ここで、C、N、Ni、Cu、Mn、Cr、Si、Al、Mo、Tiは、それぞれの元素の含有量(質量%)を示す。 - 特許庁
Al-Ni-B ALLOY WIRING MATERIAL, AND ELEMENT STRUCTURE USING THE SAME例文帳に追加
Al−Ni−B合金配線材料及びそれを用いた素子構造 - 特許庁
An upper layer Al film 7 for the pat of a test element group TEG1 is arranged to overlap the lower layer Al interconnect 5b of the test element group TEG1.例文帳に追加
テストエレメントグループTEG1のパット用上層Al膜7を、テストエレメントグループTEG1の下層Al配線5bと重なるように配置する。 - 特許庁
An Al electrode 2 is formed on the element forming face of the substrate 1.例文帳に追加
基板1の素子形成面上には、Al電極2が形成されている。 - 特許庁
A sensor element 12a comprises MOSFET, and an aluminum electrode (AL) is arranged as a passive element 80.例文帳に追加
センサ要素12aは、MOSFETを含み、受動素子80として、アルミ電極(AL)が配設されている。 - 特許庁
It is desirable that the electrode pattern of the surface acoustic wave element is formed of Al.例文帳に追加
弾性表面波素子の電極パタンは、Alで形成する方が好ましい。 - 特許庁
HARD NITRIDE FILM MAKING Ti, Cr, Al UNDERLYING ELEMENT AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
Ti,Cr,Alを基底とする硬質窒化物膜及びその製造方法 - 特許庁
A noble metal is supported on a carrier obtained by adding at least one element selected from alkali metals, alkaline earth metals and Al to ZrO_2.例文帳に追加
ZrO_2にアルカリ金属、アルカリ土類金属あるいはAlから選ばれる少なくとも一種が添加された担体に、貴金属を担持した。 - 特許庁
By using this Al film 2 as a lower electrode, dielectric and conductive layers are so laminated on the Al film 2 as to manufacture a capacitor element having no edge portion.例文帳に追加
このAl膜2を下部電極とし、上部に誘電体層・導電層を積層してエッジ部のないキャパシタ素子とする。 - 特許庁
The boride sintered compact contains Al, one element M selected from the groups Ia and IIa in the Periodic Table, and borides consisting of boron.例文帳に追加
Alと、周期律表IaおよびIIa族から選ばれる一つの元素Mと、硼素とからなる硼化物を含む硼化物焼結体である。 - 特許庁
Then the oxide including rare-earth element and Al exists in a boundary division between the rare-earth magnetic particles and the Al particles.例文帳に追加
そして、希土類磁石粒子とAl粒子との境界部分に、希土類元素およびAlを含む酸化物が存在する。 - 特許庁
The high-voltage portion 11 has an Al wiring line 21, an insulating film 22, a switching element 23, and a rectifying element 24.例文帳に追加
高圧部11は、Al配線21と、絶縁膜22と、スイッチング素子23と、整流素子24とを備えている。 - 特許庁
In the second optical fiber 12, Al element is added to the core region in conjunction with the rare-earth element.例文帳に追加
第2の光ファイバ12は、希土類元素に加えてAl元素がコア領域に共添加されたものである。 - 特許庁
To provide a method for producing an Al-based alloy sputtering target material comprising a rare earth element and a high melting point element having a melting point higher than that of Al at a high yield.例文帳に追加
希土類元素、およびAlよりも高融点の高融点元素を含有するAl基合金スパッタリングターゲット材を歩留良く製造できる方法を提供する。 - 特許庁
A luminous element is formed on the smooth (Al, Ga, In)N thin film 624.例文帳に追加
前記平滑な(Al、Ga、In)N薄膜624上に、発光素子を形成する。 - 特許庁
To provide a light emitting element in which, even when an Al containing compound semiconductor layer is disposed on a face side adhered to an element substrate, Al components of the Al containing compound semiconductor layer are effectively prevented from being oxidized, and a contact resistance between the Al containing compound semiconductor layer and the element substrate, and, in addition, a forward voltage are easily reduced.例文帳に追加
素子基板との貼り合わせ面側にAl含有化合物半導体層が配置される場合でも、該Al含有化合物半導体層のAl成分が酸化されることが効果的に防止され、ひいては素子基板との間の接触抵抗ひいては順方向電圧の低減が容易な発光素子を提供する。 - 特許庁
The sintered alloy is obtained by subjecting the powder for an aluminum sintered alloy obtained by mixing base material powder composed of Al or an Al alloy with an additional powder composed of a transition metal element and having the maximum grain diameter of ≤30 μm to liquid phase sintering.例文帳に追加
この焼結合金は、Al又はAl合金からなる母材粉末と、遷移金属元素からなり、最大粒径が30μm以下である添加粉末とが混合されてなるアルミニウム焼結合金用粉末を液相焼結することで得られる。 - 特許庁
AL BASE MATERIAL, METAL SUBSTRATE WITH INSULATING LAYER USING THE SAME, SEMICONDUCTOR ELEMENT, AND SOLAR CELL例文帳に追加
Al基材、それを用いた絶縁層付金属基板、半導体素子および太陽電池 - 特許庁
The porous membrane has pores with a mean pore size of not greater than 10 nm, and is composed of a porous body containing an Al element, a Ni element and an O element.例文帳に追加
本発明の多孔質膜は、平均細孔径が10nm以下の細孔を有し、Al元素と、Ni元素と、O元素とを含む多孔質体からなる。 - 特許庁
The semiconductor laser element (semiconductor light emitting element) 50 includes a semiconductor laser element portion 10 and a metal substrate 30 made of predetermined metal (for example, Al).例文帳に追加
この半導体レーザ素子(半導体発光素子)50は、半導体レーザ素子部10と、所定の金属(たとえばAlなど)からなる金属基板30とを備える。 - 特許庁
The electrode finger group 12a is composed of at least selected one of Al and an alloy whose main component is Al, and the alloy contains Al and a metallic element M2 whose standard electrode potential is large than the standard electrode potential of Al.例文帳に追加
電極指群12aは、Alを主成分とする合金およびAlから選ばれる少なくとも1つからなり、その合金は、標準電極電位がAlの標準電極電位よりも大きい金属元素M2とAlとを含む合金である。 - 特許庁
If Mg or Al is added as a second different element in addition to the first different element, the characteristic is further improved.例文帳に追加
また、第1異種元素に加えて第2異種元素としてのMgあるいはAlを添加すると、さらに特性が向上する。 - 特許庁
M is at least one kind of elements chosen from among the group of Al (aluminum), Ga (gallium), Ti (titanium), Ge (germanium) and Sn (tin), and is an element different from A.例文帳に追加
前記Mは、Al(アルミニウム)、Ga(ガリウム)、Ti(チタン)、Ge(ゲルマニウム)、及びSn(スズ)のグループから選択される少なくとも1種類の元素であり、かつ、前記Aとは異なる元素である。 - 特許庁
In addition, the stainless steel pipe can include Nb and/or Ca, and/or Cu, and/or at least one element among Ti, Zr, B and W, and/or Al, as needed.例文帳に追加
なお、Nb、および/または、Ca、および/または、Cu、および/または、Ti、Zr、B、Wのうちの1種以上、および/または、Alを、必要に応じて選択して含有できる。 - 特許庁
To provide a light emitting element in which the oxidation of the Al component of an Al-containing compound semiconductor layer can be prevented effectively, furthermore, contact resistance between the element and an element substrate and, in addition, the forward voltage of the element can be reduced even when the compound semiconductor layer is disposed on the side of the surface of the element stuck to the element substrate.例文帳に追加
素子基板との貼り合わせ面側にAl含有化合物半導体層が配置される場合でも、該Al含有化合物半導体層のAl成分が酸化されることが効果的に防止され、ひいては素子基板との間の接触抵抗ひいては順方向電圧の低減が容易な発光素子を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an optical semiconductor element for surely removing an Al oxide film.例文帳に追加
Al酸化膜をより確実に除去することができる光半導体素子の製造方法を得る。 - 特許庁
The oxidation suppressing element includes O, and includes one kind or two kinds of Al and V, or Sn.例文帳に追加
酸化抑制元素がOを含み、さらに、Al、Vの1種または2種またはSnを含む。 - 特許庁
In the groove 14, an active layer 15 (a second semiconductor layer) including an Al element is formed.例文帳に追加
溝14内に、Al元素を含有する活性層15(第2の半導体層)を形成する。 - 特許庁
The added elements are made of at least one kind of element selected from Pb, Bi, Ca, Mg, Si, Al, In.例文帳に追加
添加元素は、Pb,Bi,Ca,Mg,Si,Al,Inからなる群より選択される少なくとも1種類の元素からなる。 - 特許庁
Al ALLOY-REFLECTING ELECTRODE FILM FOR FORMING ANODE LAYER OF TOP-EMISSION TYPE ORGANIC EL ELEMENT例文帳に追加
上部発光型有機EL素子の陽極層を形成するAl合金反射電極膜 - 特許庁
The porous membrane has pores with a mean pore size of ≤10 nm, and is composed of an oxide solid solution comprising an Al element, a Ce element and a Zr element.例文帳に追加
本発明の多孔質膜は、平均細孔径が10nm以下の細孔を有し、Al元素と、Ce元素と、Zr元素とを含む酸化物固溶体からなる。 - 特許庁
LENS COMPRISING Al-CONTAINING SEMICONDUCTOR MATERIAL, PLANAR OPTICAL ELEMENT USING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
Alを含む半導体材料からなるレンズ、それを用いた面型光素子、及びその製造方法 - 特許庁
For an N-type ZnO, Al doped is used to form a p-n junction, thus obtaining a light-emitting element.例文帳に追加
N型ZnOとしてはAlをドープしたものを用いてPN接合を形成し発光素子を得る。 - 特許庁
LENS MADE OF SEMICONDUCTOR MATERIAL CONTAINING Al, SURFACE OPTICAL ELEMENT USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING LENS例文帳に追加
Alを含む半導体材料からなるレンズ、それを用いた面型光素子及び、レンズの製造方法 - 特許庁
An element other than the Te, for example, either Al, Zr, Ta, Hf, Si, Ge, Ni, Co, Cu or Au may be added.例文帳に追加
Te以外の他の元素、例えばAlや、Zr,Ta,Hf,Si,Ge,Ni,Co,CuおよびAuのいずれかを添加してもよい。 - 特許庁
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