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end Edの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 16



例文

J ED Erase display (default: from cursor to end of display). 例文帳に追加

J ED ディスプレイの消去(デフォルト: カーソルからディスプレイの 最後まで)。 - JM

When lyrics wd of the end exceed a tip end Ed of the staff, correction is made by shifting to the right so that the end matches with the staff end tip Ed (4).例文帳に追加

末尾の歌詞wdが譜表の終端Edを超えると、末端が譜表終端Edに合うように右詰めで修正する(4)。 - 特許庁

If invoked from a terminal, ed pauses at the end of each page until a newline is entered. 例文帳に追加

t (.,.)p指定した範囲の行の内容を表示します。 - JM

Further, an upper end position 36H of the ED hole 36 is arranged in an offset manner to an upper end position 38H of the ED hole 38 on the upper side of a vehicle body.例文帳に追加

また、ED穴36の上端位置36HをED穴38の上端位置38Hに対して車体上側にオフセットして配置する。 - 特許庁

例文

If invoked from a terminal, ed pauses at the end of each page until a newline is entered. The current address is set to the last line printed. 例文帳に追加

現在行番号は、表示された最後の行に設定されます。 - JM


例文

The core loss absorption end of each EELS spectrum data and an ELNES absorption end are searched, and difference Ed of the energy loss between them is displayed as the distribution image of (X, Y, Ed).例文帳に追加

各EELSスペクトルデータのコア・ロス吸収端及びELNES吸収端を探索し、両者のエネルギー損失量の差Edを(X,Y,Ed)の分布像として表示する。 - 特許庁

An end ED of the source electrode 110 or drain electrode 111 is formed inside an end ES of the semiconductor layer, so that a leakage current at the end ED of the semiconductor layer is eliminated.例文帳に追加

ソース電極110あるいはドレイン電極111の端部EDは、半導体層の端部ESよりも内側に形成されているので、半導体層の端部ESにおけるリーク電流を無くすことが出来る。 - 特許庁

A slope SL is provided which descends toward a coating region Rp side to a distal end ED of a mask side part SD in the state that the distal end ED is directed to the coating region Rp, and the difference in level between the mask side part SD and the surface of the substrate W is restrained small.例文帳に追加

先端EDを塗布範囲Rpに向けた状態において、塗布範囲Rp側に向けてマスク辺部SDの先端EDにまで下るスロープSLを有しており、マスク辺部SDと基板W表面の段差が小さく抑えられている。 - 特許庁

Intervals P1 to P7 of gratings G1 to G8 are made narrow at both the end parts ED of a grating formation part GF and made wider toward the center CE of the grating formation part.例文帳に追加

グレーティングG1〜G8のピッチP1〜P7をグレーティング形成部GFの両端部EDで狭く、グレーティング形成部の中央CEに行くにしたがってグレーティングのピッチを広くする。 - 特許庁

例文

The fourth semiconductor layer 20 is etched into a mesa shape for a gate electrode 24, and has an end (etching surface) ED creating a stepped portion S against the third p-type semiconductor layer 18.例文帳に追加

第4の半導体層20は、ゲート電極24のためにメサ状にエッチングされ、第3の半導体層18との間に段差部Sを生じさせる端部(エッチング面)EDを有する。 - 特許庁

例文

Further, a parameter measurement section 11 measures the diagnostic parameter, such as PI or RI, in the specific region of the trace waveform set by a PS/ED (peak of systolic/end of diastolic) detecting section 10.例文帳に追加

そして、パラメータ計測部11は、PS/ED検出部10が設定する前記トレース波形の所定区間においてPIあるいはRIなどの診断パラメータを計測する。 - 特許庁

A power source unit Ed includes one end at a low-potential side connected to the switching element Ty2 at a side of a power line LL, and serves as an operation power source for outputting a switch signal to the switching element Ty2.例文帳に追加

電源供給部Edは電源線LL側でスイッチング素子Ty2と接続される低電位側の一端を有し、スイッチング素子Ty2へとスイッチ信号を出力するための動作電源となる。 - 特許庁

The end ED has a push-out portion 40 composed of a first side formed as a forward mesa, a second side opposite to the first side and formed as a forward mesa, and a third side formed as a reverse mesa.例文帳に追加

端部EDには、順方向のメサとなる第1の側部と、第1の側部に対向し順方向のメサとなる第2の側部と、逆方向のメサとなる第3の側部とからなる迫出し部40が形成されている。 - 特許庁

This method is used for updating a program in a wireless ad-hoc network comprising a network management terminal CD, a relay function holding terminal RD, and a plurality of end terminals ED, and having a parent-child relationship among the terminals.例文帳に追加

ネットワーク管理端末CDと中継機能保持端末RDと複数のエンド端末EDから構成され端末間に親子関係を備えた無線アドホックネットワークにおけるプログラムの更新方法である。 - 特許庁

In this method for detecting an etching end point, only a signal change based on an etching reaction in each etching cycle is extracted, a discontinuous location in a waveform corresponding to the extracted signal change is continuously corrected with the use of a first correction waveform and then a second correction waveform CW2 to detect an etching end point ED, based on a continuos waveform after correction.例文帳に追加

各エッチングサイクルにおけるエッチング反応に基く信号変化だけを取り出すとともに、取出した信号変化に相応する波形の不連続個所を第1補正波形、次いで第2補正波形CW2によって連続させる補正を行い、補正後の連続波形よりエッチング終点EDを検出する。 - 特許庁

例文

A radiation element 3 is provided to the front side of a dielectric board 6, its one ed 3a is coupled with an excitation electrode 2 to receive power, and the other end 3b is connected to a ground conductor 1 provided to the rear side of the dielectric board 6 via one side face 6a of the dielectric board 6.例文帳に追加

誘電体基板6の表面に放射素子3が設けられ、その一端3a側は励振電極2と結合することにより給電され、他端3b部側は誘電体基板6の一側面6aを介して誘電体基板6の裏面に設けられる接地導体1に接続されている。 - 特許庁




  
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この対訳コーパスは独立行政法人情報通信研究機構の研究成果であり、Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unportedでライセンスされています。
  
Copyright (c) 2001 Robert Kiesling. Copyright (c) 2002, 2003 David Merrill.
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