「exp」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A point that the complex numbers of exp (ikΔz) and exp(-ikΔz) appear differs from a conventional case by newly applying a boundary condition.例文帳に追加

境界条件を新たに適用することで、exp(ikΔｚ)やexp(-ikΔｚ)という複素数が現れる点が従来と異なる。 - 特許庁

For a discussion of the errors that can occur for these functions, see exp (3). 例文帳に追加

これらの関数で発生するエラーについては、exp (3) を参照のこと。 - JM

function returns the result of multiplying the floating-point number x by 2 raised to the power exp . 例文帳に追加

関数は、浮動小数点実数xと 2 のexp乗との積を返す。 - JM

An electron emission time constant t_s^exp (t_i, T) of a priming electron is calculated.例文帳に追加

プライミング電子の電子放出時定数ｔ_ｓ^exp（ｔ_ｉ，Ｔ）を算出する。 - 特許庁

If x is zero, and exp is positive infinity, a domain error occurs, and a NaN is returned. 例文帳に追加

xがゼロでexpが正の無限大の場合、領域エラー (domain error) が発生し、NaN が返される。 - JM

A useful set of states is Exp (for experimental), Stab (for stable), and Rel (for released). 例文帳に追加

一般に用いられる識別子としては、Exp(experimental: 実験的)、Stab(stable: 安定した)、Rel(released: リリースした)があります。 - JM

If x is an infinity, and exp is negative infinity, a domain error occurs, and a NaN is returned. 例文帳に追加

xが無限大でexpが負の無限大の場合、領域エラー (domain error) が発生し、NaN が返される。 - JM

P_n=A_D×EXP(-k_n×n) (1).例文帳に追加

Ｐ_ｎ＝Ａ_Ｄ×ＥＸＰ（−ｋ_ｎ×ｎ） （１） - 特許庁

Rd ≥ 4.0...(1), Rd × [0.1 + 1/exp(T/500)] ≥ 10...(2).例文帳に追加

Ｒｄ≧４０ …（１）、Ｒｄ×（０．１＋１／ｅｘｐ（Ｔ／５００））≧１０ …（２） - 特許庁

They will live on as exp points within us!例文帳に追加

経験値として 私達の中に生き続ける - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

For various special cases, including the handling of infinity and NaN, as well as overflows and underflows, see exp (3). 例文帳に追加

無限大や NaN の扱いや、オーバーフローとアンダーフローなどのさまざまな特別な状況については、exp (3) を参照のこと。 - JM

If x is positive infinity (negative infinity), and exp is not negative infinity, positive infinity (negative infinity) is returned. 例文帳に追加

xが正の無限大 (負の無限大) でexpが負の無限大でない場合、正の無限大 (負の無限大) が返される。 - JM

The A-line is represented by T=exp(7.78-0.18C).例文帳に追加

Ａ線は、Ｔ＝ｅｘｐ（７．７８−０．１８Ｃ）で表される。 - 特許庁

An average value, a dispersed value, and an effective number of the activated energy wherein an average mean square error of t_s^exp (t_i, T) and t_s^th (t_i, T) becomes the least are determined.例文帳に追加

ｔ_ｓ^exp（ｔ_ｉ，Ｔ）とｔ_ｓ^ th（ｔ_ｉ，Ｔ）の平均二乗誤差が最小となる活性化エネルギーの平均値、分散値、実効数を決定する。 - 特許庁

When an exposure process is completed in an exposure unit EXP, an exposure complete signal 71 is transmitted from the exposure unit EXP to a main controller MC.例文帳に追加

露光部ＥＸＰにおいて露光処理が完了すると、露光部ＥＸＰからメインコントローラＭＣに向けて露光完了信号７１が送信される。 - 特許庁

Formula (1): Δt≤350×EXP(-0.004×T), where T is the temperature of the substrate 1.例文帳に追加

Δｔ≦３５０×ＥＸＰ（−０．００４×Ｔ） 但し、Ｔは基板の温度 - 特許庁

Its output Cn is Cn=P+(Cn-1-P)*EXP(-t/T).例文帳に追加

この出力Ｃｎは、Ｃｎ＝Ｐ＋（Ｃｎ−１−Ｐ）・ＥＸＰ（−ｔ／Ｔ）である。 - 特許庁

The function is defined as, for example, R(T, t)=EXP[(T-100)/14.75]×t.例文帳に追加

上記関数は、例えばＲ（Ｔ，ｔ）＝ＥＸＰ[（Ｔ−１００）／１４．７５]×ｔとする。 - 特許庁

A threshold voltage generator 10 receives the expected value data EXP and generates threshold voltage Vth having a voltage level according to the expected value data EXP in synchronization with the signal S1 to be tested.例文帳に追加

しきい値電圧発生器１０は、期待値データＥＸＰを受け、当該期待値データＥＸＰに応じた電圧レベルを有するしきい値電圧Ｖｔｈを、被試験信号Ｓ１と同期して生成する。 - 特許庁

σ[MPa]=A×exp(D/T[K])×(dε/dt)^m ...(1), T[K]+(1+0.002V[mm/sec])×K(T)<T_0 [K]...(2).例文帳に追加

σ［ＭＰａ］＝Ａ×ｅｘｐ（Ｄ／Ｔ［Ｋ］）×（ｄε／ｄｔ）^m … （１）Ｔ［Ｋ］＋（１＋０．００２Ｖ［ｍｍ／ｓｅｃ］）×Ｋ（Ｔ）＜Ｔ_0 ［Ｋ］… （２） - 特許庁

In an computer software product, the hybridization intensity I is determined by using I=exp[ΣiPiSi].例文帳に追加

１つの実施形態において、ハイブリダイゼーション強度（Ｉ）は、Ｉ＝ｅｘｐ［Σ_iＰ_iＳ_i］を使用して決定される。 - 特許庁

On the other hand, in the independent control, the target displacement angles INP, EXP are calculated as optimal valves depending on the engine operational status, the actual displacement angles INR, EXR are brought close to the target displacement angles INP, EXP.例文帳に追加

一方、独立制御では、エンジン運転状態に応じた最適な値として上記目標変位角ＩＮＰ，ＥＸＰがそれぞれ算出され、これらに向けて実変位角ＩＮＲ，ＥＸＲが近づけられる。 - 特許庁

When the cleaning operation of the substrate stage or an alignment operation is performed in the exposure unit EXP, the cleaning substrate CW or the dummy substrate DW is conveyed from the substrate processing apparatus SP to the exposure unit EXP.例文帳に追加

露光ユニットＥＸＰ内にて基板ステージの洗浄作業またはアライメント作業を行うときには、基板処理装置ＳＰから露光ユニットＥＸＰにクリーニング基板ＣＷまたはダミー基板ＤＷを搬送する。 - 特許庁

The material is subjected to aging at aging temperature T(K) in a range of 373-523 K for an aging period (s) of 10^-7exp(9880/T)×T×(exp((AI+6)/3.9))^-1.5 s or longer to form a thin steel plate having yield elongation YP-El of 0.5% or more.例文帳に追加

そして、該素材に、373〜523Ｋの範囲の時効温度Ｔ（Ｋ）で、時効時間（ｓ）：10^−７exp（9880/Ｔ）×Ｔ×［exp（（AI＋６）/3.9）］^−1.5 ｓ以上の時効処理を施し、0.5％以上の降伏伸びYP-Elを有する薄鋼板とする。 - 特許庁

A complex linear operation circuit 108 stores the inverse matrix of a matrix consisting of q rows and p columns of exp(2πjk_pn_q/N) about a set {k_p} using the carrier numbers of M effective carriers as elements and a set {n_q} using sample numbers 0 to M-1 as elements.例文帳に追加

複素線形演算回路108には、M本の有効キャリアの番号を要素とする集合｛k_p｝、サンプル番号0乃至M-1を要素とする集合｛n_q｝について、ｑ行ｐ列がexp(2πjk_pn_q／N)である行列の逆行列が記憶されている。 - 特許庁

When the substrate stage is to be cleaned or aligned in the exposure unit EXP, the stage cleaning substrate CW or the dummy substrate DW is carried from the substrate processor SP to the exposure unit EXP.例文帳に追加

露光ユニットＥＸＰ内にて基板ステージの洗浄作業またはアライメント作業を行うときには、基板処理装置ＳＰから露光ユニットＥＸＰにステージ洗浄用基板ＣＷまたはダミー基板ＤＷを搬送する。 - 特許庁

Based on these operating condition parameters and model constants A-H, a function model parameter X is calculated according to equation: X=A×P^B×Veff^C×Pc^D×EGR^E×Ne^F×q^G×exp(H/T).例文帳に追加

Ｘ＝Ａ×Ｐ^Ｂ×Ｖeff^Ｃ×Ｐc^Ｄ×ＥＧＲ^Ｅ×Ｎe^Ｆ×ｑ^Ｇ×ｅｘｐ（Ｈ/Ｔ） - 特許庁

Assuming that the drain current is Id, the absolute temperature is T(K), constant numbers determined by the field-effect transistor and a bias condition are a0, a1, and the Boltzmann constant is kB(1.38×10^-23J/K), an equality Id=a0×exp{-a1/(kB×T)} is fulfilled.例文帳に追加

このとき、ドレイン電流をＩｄ、絶対温度をＴ（Ｋ）、電界効果トランジスタ及びバイアス条件により決まる定数をａ０、ａ１、ボルツマン定数をｋＢ（１．３８×１０^−２３Ｊ／Ｋ）とすると、Ｉｄ＝ａ０・exp｛−ａ１／（ｋＢ・Ｔ）｝を満足する。 - 特許庁

The IF part 5 includes a second main transport mechanism T_IFM transporting a substrate W to the exposure machine EXP, and a second spare transport mechanism T_IFS transporting a substrate W to the exposure machine EXP in lieu of the second main transport mechanism T_IFM.例文帳に追加

ＩＦ部５は、露光機ＥＸＰに対して基板Ｗを搬送する第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭと、第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭに替わって露光機ＥＸＰに対して基板Ｗを搬送する第２予備搬送機構Ｔ_ＩＦＳとを有する。 - 特許庁

(1): X=7.43×10^-6 exp(2.68×10^-2E)+8 The high modulus carbon fibers are excellent in adhesion with the resin, excellent in a peeling property and a shearing property and are available for a high modulus carbon fiber composite.例文帳に追加

Ｘ＝７．４３×１０^-6ｅｘｐ（２．６８×１０^-2Ｅ）＋８ （１） ただし、Ｅ：ストランド引張り弾性率（ＧＰａ） - 特許庁

1200log_2h and exp[-(x-(F+1200log_2h))^2/2W^2] in expression (o) are precalculated and prestored into a memory of a computer.例文帳に追加

中の1200ｌｏｇ_２ｈとｅｘｐ［−（ｘ−（Ｆ＋1200ｌｏｇ_２ｈ））^２／２Ｗ^２］を事前に計算してコンピュータのメモリに格納する。 - 特許庁

SINGLE DATAPATH FLOATING POINT IMPLEMENTATION OF RCP, SQRT, EXP AND LOG FUNCTIONS AND LOW LATENCY RCP BASED ON THE SAME TECHNOLOGY例文帳に追加

同一の技術に基づくＲＣＰ，ＳＱＲＴ，ＥＸＰおよびＬＯＧ関数の単一データパス浮動小数点実行及び少ない待ち時間のＲＣＰ - 特許庁

Two (or more) samples having different thicknesses, formed of the optical medium to be measured, are prepared, and respective spectral transmittances T_1^exp(λ) and T_2^exp(λ) of the two samples are measured, using a general-purpose spectral transmittance measurement instrument.例文帳に追加

測定対象となる光学媒体で形成され、厚さの異なる試料を２つ（又は２つ以上）用意し、汎用的な分光透過率測定器を用い、２つの試料のそれぞれの分光透過率Ｔ_１^ｅｘｐ（λ）と、Ｔ_２^ｅｘｐ（λ）を測定する。 - 特許庁

In this case, the bias current of an emitter common transistor output circuit becomes Iid=K×I1×exp(A/2) and no longer depends on temperature.例文帳に追加

このとき、エミッタ共通トランジスタ出力回路のバイアス電流はｌ_id ＝Ｋ×Ｉ_1×ｅｘｐ（Ａ／２）となり、温度に依存しなくなる。 - 特許庁

Wherein, R(Dp): a cumulative oversize mass fraction (mass%), Dp: a sieve opening diameter (mm), De: a particle size (mm) at which cumulative sieving mass fraction becomes 36.8 mass%.例文帳に追加

Ｒ(Dp) ＝ 100・exp｛−(Dp/De)^n｝ ここで、Ｒ(Dp)：積算ふるい上質量分率（mass％） Dp：ふるい目径（mm） De：積算ふるい質量分率が36.8mass％となる粒径（mm） - 特許庁

Thereby, reliability of the substrate transport in the IF part 5 is high and the device 10 and the exposure machine EXP can stably operate.例文帳に追加

よって、ＩＦ部５における基板搬送の信頼性が高く、装置１０および露光機ＥＸＰを安定して稼働することができる。 - 特許庁

According to a first means of this invention, the value of exp (2πj μn(k+1)) coincides with either ±1 or ±j in many cases.例文帳に追加

本発明の第１の手段によれば、ｅｘｐ（２πｊ・μｎ（ｋ＋１））の値は、±１，±ｊの何れかに一致するケースが多くなる。 - 特許庁

The clustering method for collecting similar ones from X pieces of data and classifying them to Y pieces of clusters comprises calculating the number Y of clusters by use of a function derived based on the number X of data (for example, function (4): Y=round{logX×(b_3/(1+c_3×exp(-a_3X)))}).例文帳に追加

本発明は、Ｘ個のデータの中から互いに類似したものを集めてＹ個のクラスタに分類するクラスタリング方法において、データの数Ｘに基づいて導出した関数（例えば、Ｙ＝round｛logＸ×（ｂ_３／（１＋ｃ_３×exp（−ａ_３Ｘ）））｝…関数（４））を用いて、前記クラスタの数Ｙを算出するものである。 - 特許庁

A system, etc. is used for 3-dimensional computer graphics fundamentally comprising a means for obtaining an RGB illumination factor of particle, and an accumulating density, a 1-exp(x) table, an inverse number table, and a multiplier for calculating IR_g, IG_g and IB_g defined by formula using an input value.例文帳に追加

本発明は，基本的には，粒子のRGBイリュミネーションファクタと，蓄積密度とを得るための手段と；1-exp(x) テーブルと；逆数テーブルと；入力値を用いた下記式で定義されるIR_g, IG_g 及びIB_gを求めるための乗算器と；を具備する３次元コンピュータグラフィックスに用いられるシステムなどに関する。 - 特許庁

For example, the infrared absorption quantity A1 on some wavelength λ1 is proportional to EXP (-E1/kT), and the infrared absorption quantity A2 on another wavelength λ2 is proportional to EXP (-E2/kT) [E1, E2 are theoretical radiant energies of the wavelengths λ1, λ2, respectively, k is the Boltzmann's constant, and T is the gas temperature].例文帳に追加

例えば、ある波長λ１での赤外線の吸収量Ａ１はＥＸＰ（−Ｅ１／ｋＴ）に比例し、別の波長λ２での赤外線の吸収量Ａ２はＥＸＰ（−Ｅ２／ｋＴ）に比例する［Ｅ１，Ｅ２はそれぞれ波長λ１、λ２の理論放射エネルギ、ｋはボルツマン定数、Ｔがガス温度］。 - 特許庁

Cutting operation is carried out to a steel material having a Vickers' hardness (Hv) of 170 or less at a cutting speed (V) that satisfies the following relationship (1): exp{(0.152 Hv+734)/(0.199 Hv+123)}≤V≤exp{(0.152 Hv+794)/(0.199 Hv+123)}.例文帳に追加

ビッカース硬度（Ｈｖ）が１７０以下の鉄鋼材に対し、切削速度（Ｖ）が以下の関係式（１）ｅｘｐ｛（０．１５２・Ｈｖ＋７３４）／（０．１９９・Ｈｖ＋１２３）｝≦Ｖ≦ｅｘｐ｛（０．１５２・Ｈｖ＋７９４）／（０．１９９・Ｈｖ＋１２３）｝ ・・・ （１）を満たす条件下で切削加工を行う。 - 特許庁

(2) It is preferable that the steel in the above (1) contains one or more kinds selected from among 0.005 to 0.04% Ti, 0.005 to 0.04% Nb and 0.03 to 0.30% V.例文帳に追加

［Mo］≦exp(G−5)＋5・・・(a)、 G≦5.5・・・(b)(2)上記(1)の鋼材は、さらにTi：0.005〜0.04％、Nb：0.005〜0.04％およびV：0.03〜0.30％の１種または２種以上を含有させるのが望ましい。 - 特許庁

A pattern generator PG generates expected value data EXP showing an expected value of the signal S1 to be tested which is input to an I/O terminal P_IO.例文帳に追加

パターン発生器ＰＧは、Ｉ／Ｏ端子Ｐ_ＩＯに入力される被試験信号Ｓ１の期待値を示す期待値データＥＸＰを発生する。 - 特許庁

Thus, a complex number exp(-jθ) corresponding to the complex rotation angle θ is output to a complex multiplier 114 as a complex weight.例文帳に追加

こうして、当該複素回転角θに相当する複素数ｅｘｐ（−ｊθ）が複素重みとして複素乗算器１１４に出力される。 - 特許庁

An IF section 5 transports the substrates W fed from each of the substrate treatment lines Lu and Ld to the exposing machine EXP provided separately from this apparatus 10.例文帳に追加

ＩＦ部５は、各基板処理列Ｌｕ、Ｌｄから払い出された基板Ｗを、本装置１０とは別体の露光機ＥＸＰに搬送する。 - 特許庁