「hydrogen plasma」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

INK COMPOSITION FOR DETECTING HYDROGEN PEROXIDE PLASMA STERILIZATION例文帳に追加

過酸化水素プラズマ滅菌検知用インキ組成物 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING DEVICE OF HYDROGEN BY PLASMA REACTION METHOD例文帳に追加

プラズマ反応法による水素の製造方法及び装置 - 特許庁

To provide a hydrogen peroxide plasma sterilization method.例文帳に追加

過酸化水素プラズマ滅菌方法の提供。 - 特許庁

METHOD FOR GENERATING HYDROGEN BY LOW TEMPERATURE PLASMA例文帳に追加

低温プラズマによる水素の製造方法 - 特許庁

In the process of removing the carbon film, the carbon film is removed using hydrogen plasma, fluorine sulfide plasma, carbon fluoride plasma, or nitrogen plasma.例文帳に追加

カーボン膜を除去する工程は、水素プラズマ、硫化フッ素プラズマ、フッ化カーボンプラズマ、窒素プラズマを用いてカーボン膜を除去する。 - 特許庁

After the initial activation method of the hydrogen storage metal 16 is performed, the hydrogen storage metal 16 is irradiated with hydrogen plasma to perform injection of hydrogen.例文帳に追加

水素貯蔵金属１６の初期活性化方法を実施した後、水素貯蔵金属１６に水素プラズマを照射して水素注入を行う。 - 特許庁

In the plasma forming step, a high frequency power is applied to the plasma generation chamber 2 by a plasma source 3 while hydrogen H_2 is supplied to the plasma generation chamber 2 by a mass flow controller 21, to cause the hydrogen H_2 to be plasma.例文帳に追加

前記プラズマ化工程は、マスフローコントローラ２１により水素Ｈ_2をプラズマ発生室２に供給しながら、プラズマ源３によりプラズマ発生室２に高周波電力を印加することで水素Ｈ_2をプラズマ化する。 - 特許庁

The copper electrode 12 is illuminated with hydrogen plasma, and thereby hydrogen is stored in the electrode 12.例文帳に追加

銅電極１２に水素プラズマを照射することにより、銅電極１２中に水素を吸蔵させる。 - 特許庁

Hydrogen is generated by decomposing the nitrogen non- containing and hydrogen-containing compound using a low temperature plasma.例文帳に追加

窒素不含水素含有化合物を低温プラズマにより分解して水素を製造する。 - 特許庁

The introduced gaseous hydrogen is excited by the plasma beam B to form hydrogen radicals.例文帳に追加

導入された水素ガスはプラズマビームＢにより励起され、水素ラジカルが生成される。 - 特許庁

To prevent a hydrogen embrittlement due to plasma for improving the service life of a titanium film.例文帳に追加

プラズマによる水素脆化を防止して、チタン膜の寿命を改善する。 - 特許庁

Next, the surface of the mesa is cleaned by using hydrogen plasma.例文帳に追加

次に、水素プラズマを用いてメサの表面を清浄化させる。 - 特許庁

For example, the concave-convex can be formed by hydrogen plasma treatment.例文帳に追加

例えば、水素プラズマ処理により凹凸を形成することができる。 - 特許庁

A mixture gas of argon and hydrogen is used for the gas 8 for generating the plasma.例文帳に追加

プラズマ生成用ガス８としてアルゴンと水素の混合ガスを用いる。 - 特許庁

Successively, it is melted by plasma under an active hydrogen-containing atmosphere.例文帳に追加

続いて、活性水素を含む雰囲気下でプラズマにより熔解する。 - 特許庁

The substrate with the second film formed thereon is exposed to a hydrogen plasma.例文帳に追加

第２の膜が形成された基板を、水素プラズマに晒す。 - 特許庁

This hydrogen fuel feeder includes a methanol solution particle generator, a spark-plasma heater, a catalyst reactor, a hydrogen separator, a hydrogen cooler, a hydrogen compressor, a hydrogen injecting device, etc.例文帳に追加

メタノール水溶液微粒子発生器、スパーク−プラズマ加熱器、触媒反応器、水素分離装置、水素冷却器、水素圧縮器、並びに水素噴入装置等を含む水素燃料供給装置を提供する - 特許庁

To provide an ink composition for detecting the hydrogen peroxide plasma sterilization and an indicator for detecting the plasma sterilization using the same, for accurately detecting the completion of the hydrogen peroxide plasma sterilization treatment.例文帳に追加

過酸化水素プラズマ滅菌処理の完了をより正確に検知できる過酸化水素プラズマ滅菌検知用インキ組成物及びそれを用いたプラズマ滅菌検知用インジケータを提供する。 - 特許庁

Nitrogen gas and hydrogen gas, the volume of hydrogen gas being 2-80% of that of nitrogen gas, are introduced in a chamber where the semiconductor substrate is provided so that the inter- layer insulating film 8 is exposed to a nitrogen plasma and hydrogen plasma.例文帳に追加

そして、水素ガスの体積を窒素ガスの体積の２乃至８０％として、窒素ガス及び水素ガスを前記半導体基板が配置されたチャンバ内に導入し層間絶縁膜８を窒素プラズマ及び水素プラズマに曝す。 - 特許庁

After a hydrogen plasma treatment, nitrogen plasma treatment is conducted, so as to sufficiently discharge gaseous hydrogen and then the passivation film 9 which does not contain gaseous hydrogen from the initial period of the formation of the passivation film 9 is formed by a gas which contains nitrogen.例文帳に追加

水素プラズマ処理の後、水素ガスを十分排気するために窒素プラズマ処理を行い、続いて窒素含有ガスでパッシベーション膜９の成膜初期から水素ガスを含まないパッシベーション膜９を形成する。 - 特許庁

The plasma processing apparatus 10 includes a microwave oscillator 23 for outputting a microwave for generating the hydrogen plasma 6 and a hydrogen introduction line 12 for supplying the hydrogen gas into the plasma toward a processed surface of the silicon substrate 2 through a pipe forming the electrode 11.例文帳に追加

水素プラズマ６を生成するためのマイクロ波を出力するマイクロ波発振器２３と、電極１１を形成するパイプ内を通して水素ガスをシリコン基板２の加工面へ向けてプラズマ内部へ供給する水素導入ライン１２とを備える。 - 特許庁

The trench is formed, by carrying out plasma etching using mixed gas containing hydrogen bromide and nitrogen from an inductive coupling plasma etching device.例文帳に追加

誘導結合型プラズマエッチング装置から、臭化水素と窒素とを含む混合ガスを用いてプラズマエッチングを行ってトレンチを形成する。 - 特許庁

A plasma gas is generated, by applying a process gas (nitrogen and hydrogen) to an induction coil 6 in the plasma-generating chamber 20.例文帳に追加

誘導コイル６に印加してプラズマ発生室２０でプロセスガス（窒素＋水素）とからプラズマ化ガスを発生させる。 - 特許庁

The exhaust emission control device includes a plasma reactor holding a hydrogen-forming catalyst, and the NO_x-cleaning catalyst provided downstream of the plasma reactor.例文帳に追加

水素生成触媒を保持するプラズマリアクターと、その下流のＮＯ_ｘ浄化触媒を有する排気浄化装置とする。 - 特許庁

After laser crystallization, hydrogen plasma treatment is conducted, and then formation of a gate insulating are conducted sequentially and thereafter, oxygen plasma treatment is conducted.例文帳に追加

レーザー結晶化を行った後、水素プラズマ処理、ゲート絶縁膜を連続形成し、しかる後に酸素プラズマ処理を行う。 - 特許庁

The removed tin 24A reacts with hydrogen plasma in plasma and changes to a gas that is tin tetrahydride 26.例文帳に追加

除去されたスズ２４Ａは、プラズマ中の水素プラズマと反応し、気体である四水素化スズ２６となる。 - 特許庁

In a cleaning apparatus 10, hydrogen plasma is generated in a plasma emission chamber 38 in a chamber 12.例文帳に追加

この発明に係るクリーニング装置１０によれば、チャンバ１２内のプラズマ発光室３８で、水素プラズマが生成される。 - 特許庁

Hydrogen and a conveying gas are introduced into the chamber, and a plasma is ignited, and the chamber is cleaned with the plasma.例文帳に追加

水素及び搬送ガスはチャンバーに導入され、プラズマは発火され、チャンバーはプラズマで洗浄される。 - 特許庁

Damages made on the exposed surface of the lower layer metal film by the oxygen-based plasma processing are removed by performing hydrogen-based plasma processing.例文帳に追加

酸素系プラズマ処理によって下層金属膜の露出面にできたダメージを、水素系プラズマ処理を行って取り除く。 - 特許庁

Main ashing may be preceded by short surface treatment by plasma of a hydrogen-containing reducing gas, such as, the hydrogen and the optional nitrogen.例文帳に追加

メインアッシングは、水素及び任意の窒素等の水素含有還元ガスのプラズマにより、短い表面処理を施しておいてもよい。 - 特許庁

A process for applying plasma etching treatment to the hydrogen storage alloy powder is provided during processes for producing the hydrogen storage alloy electrode.例文帳に追加

水素吸蔵合金電極の製造工程中に、水素吸蔵合金粉末にプラズマによるエッチング処理を施す工程を設ける。 - 特許庁

In the meanwhile, it is preferable that the plasma processing be done in an atmosphere of mixed gases of nitrogen, oxygen, and hydrogen, or of nitrogen and hydrogen.例文帳に追加

なお、プラズマ処理は、窒素、酸素、水素、又は窒素と水素の混合ガスの雰囲気中で行われることが好ましい。 - 特許庁

The water vapor is decomposed into hydrogen and oxygen in a plasma processing, which combines with fluorine of decomposed fluorine gas to generate hydrogen fluoride.例文帳に追加

プラズマ処理によって水蒸気は水素と酸素とに分解され、分解されたフッ素系ガスのフッ素と結合しフッ化水素を生成する。 - 特許庁

At that time, irradiation of the hydrogen plasma is preferably performed under a condition of the temperature of the hydrogen storage metal of 100-300°C.例文帳に追加

そのとき、水素プラズマの照射は、水素貯蔵金属の温度が１００〜３００℃の条件下で行われることが好ましい。 - 特許庁

Then, by introducing a high resistance layer removing process using hydrogen or gas plasma containing hydrogen, contact resistance can be reduced.例文帳に追加

そして、水素もしくは水素を含有するガスプラズマを用いた高抵抗層除去工程を導入することで低コンタクト抵抗が図れる。 - 特許庁

The deposited TiN film 204 is then treated in a hydrogen- containing plasma 210 generated from molecular hydrogen (H2).例文帳に追加

堆積されたＴｉＮ膜２０４は、次に、水素分子（Ｈ_2）から生成したような水素含有プラズマ２１０で処理される。 - 特許庁

Then, only the hydrogen radical contained in the hydrogen plasma passes through a shielding plate 36 to a treatment chamber 40.例文帳に追加

そして、この水素プラズマに含まれる水素ラジカルのみが、遮蔽板３６をすり抜けて、処理室４０に導かれる。 - 特許庁

A raw material of silicon is passed through a plasma which consists of an inert gas and gaseous hydrogen to form a crystalline silicon particle which contains hydrogen of 1×1016-1×1020 atoms/cm3.例文帳に追加

結晶質シリコン粒子に、水素を１×１０^16〜１×１０^20ａｔｏｍｓ／ｃｍ^3含有させる。 - 特許庁

To reduce effect due to hydrogen in carrying out hydrogen plasma treatment in the thin-film transistor substrate of a display device.例文帳に追加

表示装置の薄膜トランジスタ基板において、水素プラズマ処理時の水素による影響を低減する。 - 特許庁

A method for forming a silicon thin film forms a crystalline silicon thin film on a substrate S after exposing the substrate to a plasma of hydrogen-containing gas for hydrogen bonding treatment.例文帳に追加

リーク電流が低く抑制された薄膜トランジスタ用の基板を得ることができるシリコン薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

In a method for producing silicon, H_2 and a carrier gas such as Ar are introduced into a plasma generation part being an apparatus for generating pulsed thermal plasma to generate plasma including a hydrogen radical, and the generated plasma is allowed to react with SiHCl_3.例文帳に追加

Ｈ_２とＡｒ等のキャリアガスをパルス熱プラズマ発生装置であるプラズマ発生部に導入して水素ラジカルを含むプラズマを発生させ、当該プラズマをＳｉＨＣｌ_３と反応させる。 - 特許庁

This device is a microwave plasma reactor to generate NH_3 by holding a hydrogen generating catalyst.例文帳に追加

水素生成触媒を保持することによってＮＨ_3を発生させるマイクロ波プラズマリアクターとする。 - 特許庁

The process of increasing the mechanical strength includes a UV-ray exposure process and a hydrogen plasma process.例文帳に追加

機械的強度を増加させる処理は、紫外線照射、水素プラズマ処理を含む。 - 特許庁

A metal containing impurities is melted with plasma arc containing active hydrogen to remove the impurities.例文帳に追加

不純物を含む金属を活性水素を含むプラズマアークで溶融し、不純物を除去する。 - 特許庁

Plasma is generated using elemental hydrogen, a weak oxidizing agent and a fluorine-containing gas.例文帳に追加

元素水素、弱酸化剤、及びフッ素含有ガスを用いてプラズマが生成される。 - 特許庁