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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > impurity analysisに関連した英語例文

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impurity analysisの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 74



例文

To provide a method for simply performing biopolymer analysis based on high-sensitivity and high-accuracy mass analysis by reducing an impurity signal derived from nitrogen concerning a biopolymer analysis method using a molecule recognition board usable for analyzing the function of a biopolymer such as protein, saccharide, and fat, and also to provide a board usable for the method.例文帳に追加

タンパク質・糖類・脂質などの生体高分子の機能解析に利用可能な分子認識基板を用いる生体高分子の分析方法において、窒素由来の共雑シグナルを低減し、高感度かつ高精度の質量分析に基づく生体高分子分析を簡便に行うことができる方法、および、当該方法に使用可能な基板を提供すること。 - 特許庁

To provide an analysis method of metal impurity in TiCl_4 used as a raw material in a method of producing high purity titanium, and the method of producing the high purity titanium using this method for process management.例文帳に追加

高純度チタンの製造方法において原料として用いるTiCl_4中の金属不純物の分析方法、及びこの方法を工程管理に用いる高純度チタンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a quantitative analysis method and an auxiliary specimen for highly accurately measuring depthwise concentration distribution of an impurity element in a laminated structure with a polysilicon/gate oxide film formed therein on a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板上のポリシリコン/ゲート酸化膜が形成された積層構造における不純物元素の深さ方向濃度分布を高精度に測定する定量分析方法および補助試料を提供する。 - 特許庁

The elemental analysis method can be applied to semiconductor device manufacturing processes to analyze metal contamination or quantify a conductivity determining impurity element on the inline basis and with a high degree of accuracy.例文帳に追加

また、当該元素分析方法を、半導体装置の製造工程に適用することで、金属汚染の分析や導電型決定不純物量の定量をインラインでかつ高精度に実施できる。 - 特許庁

例文

This sample liquid for impurity analysis in the silicon compound-containing sample is prepared by subjecting the silicon compound-containing sample to alkali fusion, and by forming alkali aqueous solution from a melt after performing the alkali fusion.例文帳に追加

ケイ素化合物含有試料の不純物分析用試料液を、ケイ素化合物含有試料をアルカリ融解し、このアルカリ融解後の融成物をアルカリ性の水性溶液として調製する。 - 特許庁


例文

To provide an analysis method of particles for analyzing even extremely fine metal and organic-family impurity particles that are less than 2 μm and exist on the surface of an object to be analyzed such as a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエーハ等の被分析物の表面に存在する2μm未満の極めて微小な金属や有機系不純物パーティクルであっても分析することができるパーティクルの分析方法を提供する。 - 特許庁

To provide an elemental analysis method by which a metal impurity element present locally on the surface of or inside a semiconductor substrate and the like can be detected and quantified in a practically feasible period of time, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device which is implemented on an inline basis.例文帳に追加

半導体基板等の表面または内部において局所的に存在する金属不純物元素を現実的な時間内で検出、定量可能な元素分析方法を提供する。 - 特許庁

In analyzing trace impurity held in the hydride gas, the hydride gas is reacted with a specific substance reacting with a hydride gas, or is liquefied or solidified at low temperatures, thereby substantially removing only hydride, and then the trace impurity is caused to accompany a carrier gas and introduced into an analyzer for analysis.例文帳に追加

水素化物ガス中に含まれる微量不純物を分析するにあたり、前記水素化物ガスを、水素化物ガスと反応する特定物質と反応させたり、低温で液化又は固化させたりすることによって水素化物のみを実質的に除去した後、前記微量不純物をキャリアガスに同伴させて分析計に導入して分析する。 - 特許庁

To provide a disassembling method of a substrate, an evaluation method of the substrate, and a substrate disassembling device capable of acquiring simply and efficiently disassembling liquid including a residue after disassembling of a silicon substrate, and performing highly-accurate impurity analysis.例文帳に追加

シリコン基板分解後の残渣も含む分解液を簡便かつ効率的に得ることができ、高精度の不純物分析を行うことが可能な基板の分解方法、基板の評価方法および基板分解装置の提供。 - 特許庁

例文

To relatively directly provide an impurity concentration value in a gas sample, without conducting a preceeding process for calibrating an analyzer, as far as it is used for all analysis relating to gas.例文帳に追加

ガスに関連するあらゆる分析に用いられる限りにおいて、分析器を校正する先行工程を実施する必要なく、比較的直接にガス状試料の不純物濃度値を得ることを可能にする測定方法を提供する。 - 特許庁

例文

By using actually measured data for which thresholds to a plurality of the MOS FETs of different gate lengths manufactured under the same process condition are actually measured and the analysis model of the threshold of the MOS FET, the impurity density distribution within the substrate of the channel surface of the MOS FET is calculated.例文帳に追加

同一プロセス条件で製造されたゲート長の異なる複数のMOS FET に対する閾値を実測した実測データとMOS FET の閾値の解析モデルを用いて、MOSFET のチヤネル表面の基板内不純物濃度分布を算出する。 - 特許庁

In this simplified measuring method of dioxins, after an extraction process by an organic solvent of an actual sample collected from a specimen, a fixed volume of extraction liquid via a clean-up process (impurity removing process) is prepared, and quantitative analysis of dioxins is performed by using a gas chromatograph-mass spectrometer.例文帳に追加

被検体から採取した実試料を有機溶剤による抽出工程後、クリーンアップ工程(夾雑物除去工程)を経た抽出液を定容してガスクロマト質量分析計を用いてダイオキシン類を定量分析するダイオキシン類の簡易測定方法。 - 特許庁

To provide a sampling device for underwater component determination and a sampling method capable of quantitating even an impurity having an extremely low concentration, and heightening measurement accuracy by reducing contamination from the outside during analysis operation, and executable by simple operation.例文帳に追加

極めて低い濃度の不純物まで定量することでき、かつ分析操作中に外部からの汚染を少なくして測定精度を高めることができ、しかも簡単な操作で実施できる水中成分定量用サンプリング装置、およびサンプリング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for evaluating a semiconductor wafer, which highly accurately evaluate the BMD (Bulk Micro Defect) density distribution by obtaining the BMD density over the entire surface of the semiconductor wafer in a short time period for impurity analysis of a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板の不純物分析をするために、半導体ウェーハ全面のBMD密度を短時間で取得し、BMD密度分布を高精度に評価することができる半導体ウェーハの評価方法及び半導体ウェーハの評価装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for analyzing a gas component derived from living body, which enables a reduction of the performance effects of the impurity removal of a clean air supplying unit (air purifying unit) and of conducting the analysis of a gas component derived from living body with reduced steps.例文帳に追加

清浄空気供給手段(空気純化手段)の不純物除去の性能の影響を少なくすると共に、生体由来ガス成分の分析を少ない手順で実行することが可能な生体由来ガス成分分析方法及び分析装置を提供する。 - 特許庁

The optical film comprises a homopolymer of methyl methacrylate, wherein the content of an acrylate unit contained as an impurity in a homopolymer main chain of methyl methacrylate is less than 1.0% by a thermal decomposition GC/MS analysis.例文帳に追加

メチルメタクリレートのホモポリマーからなる光学用フィルムであって、メチルメタクリレートのホモポリマー主鎖中に不純物として含有するアクリル酸エステル単位の含有量が、熱分解GC/MS分析で1.0%未満であることを特徴とする光学用フィルムにより達成できる。 - 特許庁

To provide an emission spectroscopic analyzer capable of ensuring the enhancement and long-term stability of analyzing accuracy, while enabling the analysis of an element having an emission line in a low wavelength region by preventing the contamination of a condensing lens and the interior of a passage caused by an oil component, and suppressing generation of impurity gases.例文帳に追加

油分による集光レンズ及び通路内の汚染を防止し、さらに不純物ガスの発生を抑制することにより、低波長域に発光線を有する元素の分析を可能としつつ、分析精度の高精度化及び長期安定性を確保できる発光分光分析装置を提供する。 - 特許庁

The method for preparing the sample for quantitative analysis is for measuring the distribution of concentration of the metallic element to be measured diffused as an impurity from the second metal film 4 to the first metal film 3 in a depth direction in the first metal film 3 in the first and second stacked metal films 3 and 4.例文帳に追加

積層された第1および第2の金属膜3,4において、第2の金属膜4より第1の金属膜3へ不純物として拡散した被測定金属元素に関する、第1の金属膜3中での深さ方向濃度分布測定を行うための定量分析用試料の作製方法である。 - 特許庁

This solid sample impurity analysis device is composed by combining an extraction device including a liquid accumulation part disposed under a porous filter of a solid sample holding part and a heatable capillary tube connected to the liquid accumulation part with a time-of-flight type mass spectrometer connected to the capillary tube and including an ionization part for ionizing gas and a mass spectroscopy part of the ions.例文帳に追加

固形試料保持部の多孔性フィルタの下部に配置される液溜部および該液溜部に接続する加熱可能なキャピラリ管を含む抽出装置と、該キャピラリ管に接続され、ガスをイオン化するイオン化部および該イオンの質量分析部を含む飛行時間型質量分析装置とを組み合わせている。 - 特許庁

The nitride semiconductor is manufactured with the hyperpure ammonia as a raw material obtained through distillation by decreasing the impurity having a peak absorption wavelength of 1310 cm^-1, 1320 cm^-1, and 1330 cm^-1 determined by the gas analysis which uses Fourier transformation infrared spectroscopy (FT-IR).例文帳に追加

フーリエ変換赤外分光法(FT−IR)を用いたガス分析により確定される1310cm^−1、1320cm^−1ならびに1330cm^−1の吸収波長にピークを持つ不純物を、蒸留操作等で低減した高純度アンモニアを得て、これを原材料として窒化物半導体を製造する。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing a sample 1 used for analysis of an inclusion 3, by heating a metal aluminium sample 10 in a mold 2 into the molten state without being fixed to the mold 2 and without intermingling an impurity, and thereafter by cooling and solidifying it, while condensing the inclusion 3 included in the metal aluminium sample 10 by a centrifugal force.例文帳に追加

鋳型(2)と固着させることなく、また不純物を混入させることなく、鋳型(2)内で金属アルミニウム試料(10)を加熱して溶融状態としたのち、遠心力により、この金属アルミニウム試料(10)に含まれる介在物(3)を濃縮しつつ、冷却固化させて、介在物(3)の分析に用いるサンプル(1)を製造しうる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of etching a silicon substrate that can make the absolute amount of metal impurities as a generation source other than the silicon substrate lower than before during etching of the silicon substrate which is important for metal impurity evaluation by high-sensitivity chemical analysis necessary for shipping a product of high quality; and to provide a method of analyzing impurities of the silicon substrate using the same.例文帳に追加

高品質な製品を出荷するために必要な高感度化学分析による金属不純物評価を行うために重要なシリコン基板のエッチングにおいて、シリコン基板以外が発生源となる金属不純物の絶対量を従来に比べて低くすることができるシリコン基板のエッチング方法と、それを利用したシリコン基板の不純物分析方法を提供する。 - 特許庁

To accurately control the adding of an insolubilizer into fluorine-containing wastewater based on this value obtained by measuring a fluoride ion concentration after removing a metal ion which becomes a hindrance substance in fluoride ion concentration analysis by a micro reactor when fluorine is separated as a hardly-soluble fluoride by adding the insolubilizer of fluorine into the fluorine-containing wastewater containing the metal ion as an impurity.例文帳に追加

金属イオンを不純物として含むフッ素含有排水にフッ素の不溶化剤を添加してフッ素を難溶性フッ化物として分離するに当たり、フッ素イオン濃度分析において妨害物質となる金属イオンをマイクロリアクタで除去した後フッ素イオン濃度を測定し、この値に基いてフッ素含有排水への不溶化剤添加量を的確に制御する。 - 特許庁

例文

When an impurity in a quartz is to be measured by an equipment neutron activation analysis for enclosing a sample into a neutron irradiation container, by irradiating it with neutrons, performing cooling, and then measuring γ rays, a container made of quartz that is etched by a fluoric acid is used as a neutron irradiation container, the sample is transferred from the neutron irradiation container to another container, and then γ rays are measured.例文帳に追加

試料を中性子照射容器へ封入し中性子を照射し冷却した後γ線測定を行う機器中性子放射化分析により石英中の不純物を測定するに際し、中性子照射容器としてフッ酸によりエッチングした石英製の容器を用い、且つ試料を中性子照射容器から別容器に移し替えた後にγ線測定を行うことを特徴とする石英中の不純物の測定方法。 - 特許庁




  
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