「lithograph」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PROJECTION DEVICE FOR LITHOGRAPH例文帳に追加

リトグラフの投影装置 - 特許庁

a lithograph produced by photographically produced plates 例文帳に追加

写真のように明確に作られたプレートのリトグラフ - 日本語WordNet

a lithograph produced by a transferring technique 例文帳に追加

転写石版という製版方法で作られた石版 - EDR日英対訳辞書

He is known as 'Kazuma ODA of self-portrait lithograph.' 例文帳に追加

「自画石版の織田一磨」として知られる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

"Four Seasons of Birds, Original Lithograph Works" The Mainichi Newspapers, 1981 例文帳に追加

鳥の四季オリジナル石版画集毎日新聞社1981 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

IMPROVED LITHOGRAPH INTERFEROMETER SYSTEM例文帳に追加

改良されたリトグラフ干渉計装置 - 特許庁

LITHOGRAPH APPARATUS, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

リトグラフ装置、デバイス製造方法およびデバイス - 特許庁

LITHOGRAPH DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

リトグラフ装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

LITHOGRAPH SYSTEM AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE例文帳に追加

リトグラフ装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

CONTROL OF POSITION OF MASS ESPECIALLY IN LITHOGRAPH DEVICE例文帳に追加

特にリソグラフ装置における質量の位置の制御 - 特許庁

LITHOGRAPH APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

リトグラフ装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

LITHOGRAPH DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

リソグラフ装置およびデバイス製造方法 - 特許庁

The printing plate with high positional accuracy can be formed by a photo-lithograph method.例文帳に追加

高位置精度の印刷版はフォトリソグラフ法で形成することができる。 - 特許庁

ELEMENT MANUFACTURED BY LITHOGRAPH ARRANGEMENT, ELEMENT PRODUCTION, AND THIS METHOD例文帳に追加

リトグラフ装置、素子製造方法およびこの方法で製造される素子 - 特許庁

To provide an interferometer system improved in a lithograph system.例文帳に追加

リトグラフ装置における改良された干渉計装置の提供。 - 特許庁

To improve the imaging performance of a lithograph process, by using a dual-stage lithographic apparatus.例文帳に追加

デュアル・ステージ・リソグラフ装置を使用してリソグラフ・プロセスの結像性能を改良する。 - 特許庁

Damascene trenches reaching the lower interconnections are made in the interlayer insulation film with the minimum dimensions of lithograph.例文帳に追加

層間絶縁膜に、下部配線に到達するダマシン溝をリソグラフの最小寸法で形成する。 - 特許庁

METHOD FOR CALIBRATING LITHOGRAPH PROJECTOR AND SYSTEM APPLICABLE OF THAT METHOD例文帳に追加

リトグラフ投影装置の較正方法およびそのような方法を適用できる装置 - 特許庁

A performance criterion of a lithograph system is predicted on the basis of one or more operation states of the lithograph system, and is compared with a measured value of the performance criterion.例文帳に追加

リソグラフィシステムの性能基準が、リソグラフィシステムの１つ以上の動作状態に基づき予測され、かつその性能基準の測定値と比較されるリソグラフィシステムである。 - 特許庁

To provide a conveying structure for moving substrates and/or masks mutually and relatively within a lithograph apparatus.例文帳に追加

リトグラフ装置内で互いに相対的に基材および／またはマスクを移動するための搬送構造体が提示されている。 - 特許庁

To provide a new system for improving present valid focal depth DOF, and for improving a future lithograph technique.例文帳に追加

現在の有効焦点深さＤＯＦを改善し、さらに将来のリソグラフ技術を改善するような新たなシステムを提供すること。 - 特許庁

To provide purge gas having no harmful effect on the activity of a chemical substance used in lithograph projection process.例文帳に追加

リソグラフ投影工程に使用される化学物質の活性に悪影響を与えないパージガスを提供する。 - 特許庁

To provide a controller particularly of a lithograph device for controlling a position of mass, for instance, a board table (12) by controlling force.例文帳に追加

質量、例えば基板テーブル（１２）の位置を制御力によって制御するための、特にリソグラフ装置のコントローラを提供すること。 - 特許庁

To adjust for parallelism between a pellicle film face and a mask face during exposure at lithograph with a pellicle.例文帳に追加

ペリクルを用いたリソグラフィーにおける露光の際に、ペリクル膜面とマスク面との平行度を調整することができるようにする。 - 特許庁

A first thin film composed of a first material 4 is formed on a substrate 1 on which a shape of fine ruggedness is formed by a lithograph step and an etching (d).例文帳に追加

リソグラフィ工程とエッチングにより凹凸を付けた基板１の上に第１の物質４からなる第１層目の薄膜を成膜する（ｄ）。 - 特許庁

The method of manufacturing the collimator includes steps of making a CAD drawing, making one or plural stereo lithograph file(s) based on the CAD drawing, and controlling an electro-plating machine for producing channels in the block by using the stereo lithograph file(s).例文帳に追加

コリメータの製造方法は、ＣＡＤ図面を作成し、ＣＡＤ図面から１つまたは複数のステレオ・リソグラフ・ファイルを作成し、ブロック内にチャネルを生成する電着加工機をこのステレオ・リソグラフ・ファイルを使用して制御するステップを含む。 - 特許庁

To provide support of heat and/or a structure by a bonded article including a single crystal cathode and a member to a weak point of a conventional bonded article used in SCALPEL (Scattering Angular Limitation Projection Electron Beam Lithograph) and a projection electron lithograph system similar to it, and resultantly to keep a crystalline structure of the single crystal cathode after the cathode is bonded to the member.例文帳に追加

ＳＣＡＬＰＥＬおよび同様な投影電子リソグラフシステムで使用される、従来の結合品の欠点を、単結晶カソードと部材を含む結合品により、熱および／または構造体のサポートを与え、その結果、単結晶カソードの結晶構造は、カソードを部材に結合した後も維持されるようにする。 - 特許庁

It is believed that all of his exhibits were stone objects, but the details of each work are unknown; "Ren" was a spindly lithograph on which Chinese poetry and calligraphic works or paintings were inscribed, "Shoga" was a stone relief, "Sekki" was a stone flute, and "Aoishi" was some sort of sculpture. 例文帳に追加

いずれも石製品であったと考えられ、聨は漢詩や書画を刻した細長い石版、書画は同じく石造のレリーフ、石器は石笛であったとされており、青石も何らかの彫刻と考えられるが詳細は不明である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A control system plays roles to perform an initial alignment of these detectors on the alignment mark pattern on the substrate and to dynamically align the frame and substrate during a lithograph process.例文帳に追加

制御システムは、基板上の位置合わせマーク・パターンの上でこれらの検出器の初期位置決めを行うことと、リソグラフィ工程中にフレームと基板を動的に位置合わせする役割を担う。 - 特許庁

To provide a lithograph projector being employed effectively in both DUV and EUV lithographs and having a means for controlling molecular contamination in situ.例文帳に追加

ＤＵＶ及びＥＵＶリトグラフの両方で効果的に用いることができる、分子汚染のその場での制御を行う手段を有するリトグラフ投影装置を提供する。 - 特許庁

The lithograph projection apparatus has a purge gas supply system 100 configured to supply purge gas near the surface of components such as a reflector and a reflection element in a projection system and a radiation system.例文帳に追加

リソグラフ投影装置は、投影システムおよび放射システム中、反射器、および反射要素等の部品の表面近くにパージガスを供給するように構成されたパージガス供給システム１００を有する。 - 特許庁

To make it possible to prevent deviation from the design of a lithography pattern that is caused by the switching of lithograph devices, when forming a resist pattern that includes a layout with a minimum line width of 100 nm or less.例文帳に追加

最小線幅が１００ｎｍ以下のレイアウトを含むレジストパターンの形成において、描画装置の切り替え作業に起因する描画パターンの設計からのずれを防止することを可能とする。 - 特許庁

If there is a difference between the measured performance criterion and the predicted performance criterion, the lithograph system can determine which subsystem does not demonstrate its performance by using the difference.例文帳に追加

リソグラフィシステムは、測定された性能基準と予測された性能基準との差異から、存在するならば、リソグラフィシステムのどのサブシステムが、予想されるように性能を発揮していないのかを決定することができる。 - 特許庁

To prevent a fall in the appearance of a notified object and the damage of the notified object during transportation caused by looseness of the notified object in a frame, a poster frame, or the like for displaying the notified object such as a poster, lithograph or picture.例文帳に追加

本発明は、ポスター、リトグラフ、絵画等の被掲示物を展示する額縁、ポスターフレーム等における被掲示物のがたつきによる、被掲示物の見映えの劣化及び輸送中における被掲示物の損傷防止を目的にしている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film transistor where it is not necessary to execute a plurality of photo-lithograph processes, and it realizes increase in the margin of patterning in a process for forming the gate electrode of a linewidth area whose microfabrication is progressed.例文帳に追加

微細化が進んだ線幅領域のゲート電極の形成工程において、複数回のフォトリソグラフ工程が不要であり、パターニングのマージンを拡大できる薄膜トランジスタの作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser lithograph system and the like which are high in accuracy, capable of performing correction corresponding to environmental elements, and which is reduced in the variation in accuracy of position, and reduced in working man-hours.例文帳に追加

精度が高く、環境要素に対応した補正をすることができ、位置精度のばらつきが小さく、作業工数が少ないレーザ描画装置等を提供する。 - 特許庁

To provide a projection aligner in a micro-lithograph which can generate optical deflection action when processing without no complicated change and without changing substantially a well-known apparatus, and an exposure method.例文帳に追加

複雑な変更無く既知の装置を実質的に変えずにプロセス時に光偏向作用を生じさせることが可能なマイクロリソグラフにおける投影露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam lithography apparatus or lithographing method capable of discriminating during lithographing whether or not an electron beam is emitted onto a test piece, the electron beam lithography apparatus emitting an electron beam to the test piece to lithograph thereon a pattern circuit or the like.例文帳に追加

試料に電子線を照射してパターン回路等を描画する電子線描画装置において、電子線が試料に照射されているかどうかを描画中に判定できる電子線描画装置または描画方法を提供すること。 - 特許庁

In this method for manufacturing a semiconductor device, the mask pattern of a first layer and the mask pattern of a second layer can be formed as mask patterns whose shapes are similar, and whose dimensions are different by self-align only in single photo-lithograph process.例文帳に追加

本発明の作製方法によれば、１回のフォトリソグラフ工程のみで第１層のマスクパターン及び第２層のマスクパターンをセルフアラインで、かつ、相似形で寸法の異なるマスクパターンとして形成できる。 - 特許庁

To provide a radioactive ray setting resin composite which yields a pattern which is highly fine and excellent in shape when an optical waveguide is manufactured by a pattern forming method using a fine lithograph technology, to provide an optical waveguide using the resin composite and to provide a method of manufacturing the optical waveguide.例文帳に追加

微細なリソグラフィ技術を用いたパタン形成方法によって光導波路を作製するに際し、高精細で形状の優れたパタンを得ることを可能とする放射線硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた光導波路及び光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁

The temperature measuring tool 10 is comprised of a substrate 11 made of a silicon wafer; a thermocouple 12 which is formed by using film formation method, photo lithograph method, and etching method; and a clamp pad (electrode pad) 13 which is arranged at the edge of the substrate 11, and is connected with the thermocouple 12.例文帳に追加

温度測定具１０は、シリコンウェハからなる基板１１と、成膜法、フォトリソグラフィ法及びエッチング法を使用して形成された熱電対１２と、基板１１の縁部に配置されて熱電対１２と接続されたクランプパッド（電極パッド）１３とにより構成されている。 - 特許庁

To provide a mobile apparatus at a low cost usable even in the vacuum, controlling a first/second part moved high accurately relating to each other, positioning a mask holder relating to a projected beam in a lithograph projector, and in a manner of positioning a wafer table relating to the projected beam.例文帳に追加

リトグラフ投影装置においてマスク・ホルダーを投影ビームに対して位置決めする、またウェーハ・テーブルを投影ビームに対して位置決めするように、第一および第二の部分を互いに対して高精度に移動制御でき、真空中でも使用できる安価な移動装置を提供する。 - 特許庁

The lithograph projector comprises a mechanism for supplying a projection radiation beam, a structure supporting a member for patterning the projection beam according to a desired pattern, and a mechanism for projecting a patterned beam to a target part of a substrate.例文帳に追加

投影放射線ビームを供給するための放射線機構；前記投影ビームを希望のパターンに従いパターン化する働きをするパターン化部材を支持するための支持構造体；基体を支持するための基体テーブル；及び基体の目標部分にパターン化されたビームを投影するための投影機構；を具えたリトグラフ投影装置。 - 特許庁