「microelectronics」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

STRIPPING FOR MICROELECTRONICS AND CLEANING COMPOSITION例文帳に追加

マイクロエレクトロニクス用のストリッピングおよび洗浄組成物 - 特許庁

SINGLE CRYSTAL, MICROELECTRONICS DEVICE STRUCTURE, WAFER, AND PRODUCT例文帳に追加

単結晶、マイクロエレクトロニクス・デバイス構造、ウエハおよび製品 - 特許庁

Such films are useful in the microelectronics industry.例文帳に追加

そのような膜はマイクロエレクトロニクス産業で有用である。 - 特許庁

an integrated circuit made up of a significantly large number of microelectronics devices, called large-scale integrated circuit 例文帳に追加

多量の回路素子を組み込んだ集積回路 - EDR日英対訳辞書

a very small circuit, in which a small plate is inserted with microelectronics devices 例文帳に追加

素子を小型基板に組み込んだ超小型回路 - EDR日英対訳辞書

Microelectronics is on the point of revolutionizing the industrial world. 例文帳に追加

マイクロエレクトロニクスは産業界に革命をもたらそうとしている. - 研究社 新和英中辞典

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR-ON-INSULATOR (SOI) SUBSTRATE FOR MICROELECTRONICS AND OPTOELECTRONICS例文帳に追加

マイクロエレクトロニクス及びオプトエレクトロニクス向けＳＯＩ基板の製造方法 - 特許庁

MICROELECTRONICS CLEANING COMPOSITION CONTAINING HALOGEN OXYACID, ITS SALT, AND DERIVATIVE例文帳に追加

ハロゲン酸素酸、その塩及び誘導体含有、マイクロエレクトロニクス洗浄組成物 - 特許庁

PROCESS FOR TREATING SUBSTRATES FOR MICROELECTRONICS INDUSTRY, AND SUBSTRATES OBTAINED BY THIS PROCESS例文帳に追加

マイクロエレクトロニクス用基板の処理方法及び該方法により得られた基板 - 特許庁

To provide a boule that can be used for assembling microelectronics device structure.例文帳に追加

マイクロエレクトロニクス・デバイス構造の組み立てのために用い得るブールの提供。 - 特許庁

To provide a method of closing at least one void to capsulate a microelectronics device or intended to be a part of the microelectronics device.例文帳に追加

マイクロエレクトロニクスデバイスをカプセル封止するように、あるいはマイクロエレクトロニクスデバイスの一部分であるように意図された少なくとも１つの空洞を閉鎖する方法を提供する。 - 特許庁

(ii) The technology (excluding programs) pertaining to the design or manufacture of vacuum microelectronics devices 例文帳に追加

二　真空マイクロエレクトロニクス装置の設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。） - 日本法令外国語訳データベースシステム

The microelectronics cleaning composition contains halogen oxyacids, their salts, and derivatives.例文帳に追加

ハロゲン酸素酸、それらの塩および誘導体を含むマイクロエレクトロニクス洗浄組成物を使用する。 - 特許庁

CLEANING DEVICE FOR SEMICONDUCTOR WAFER AND METHOD THEREFOR, AND MANUFACTURING METHOD FOR SUBSTRATE FOR MICROELECTRONICS例文帳に追加

半導体ウェハの洗浄装置とその洗浄方法、及びマイクロエレクトロニクス用基板の製造方法 - 特許庁

To provide a new method for manufacturing a microelectronics device provided with biological material detecting transistors.例文帳に追加

生物要素検出用トランジスタを備えたマイクロエレクトロニクス装置を製造するための新規の方法を提供する。 - 特許庁

An integration type microelectronics element contains a conductor (3) which forms the transmission line element for radio-frequency electromagnetic waves.例文帳に追加

集積型マイクロエレクトロニクス構成要素は、無線周波数電磁波用の伝送線路素子を形成する導体（３）を含む。 - 特許庁

INTEGRATION TYPE MICROELECTRONICS ELEMENT FOR CARRYING OUT FILTER OF ELECTROMAGNETIC NOISE, AND RADIO-FREQUENCY TRANSMISSION CIRCUIT EQUIPPED WITH IT例文帳に追加

電磁ノイズをフィルタするための集積型マイクロエレクトロニクス構成要素、およびそれを備える無線周波数伝送回路 - 特許庁

To provide a method for producing single crystal indium nitride nanotubes which are expected to be utilized in the microelectronics and opto-electronics fields.例文帳に追加

マイクロエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス分野に応用が期待されている単結晶の窒化インジウムナノチューブの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning composition containing alkaline which can essentially completely clean such substrates as for microelectronics substrates, particularly for FPD microelectronics substrates, and does not substantially cause metal corrosion of metal elements in such substrates; and to provide usage of the cleaning composition.例文帳に追加

マイクロエレクトロニクス基板、特にＦＰＤマイクロエレクトロニクス基板用の、本質的に完全にかかる基板を洗浄でき、実質的にかかる基板の金属要素の金属腐食をもたらさないアルカリ含有洗浄組成物、および洗浄組成物の使用方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for treating a substrate which includes a working layer on at least one of its two faces and is used for the microelectronics or optoelectronics industry.例文帳に追加

少なくとも表裏の一方の面に機能層を備えたマイクロエレクトロニクス又はオプトエレクトロニクス用基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

PROCESS FOR FORMING CERAMIC OXIDE MATERIAL WITH PYROCHLORE STRUCTURE HAVING HIGH DIELECTRIC CONSTANT AND IMPLEMENTATION OF THE PROCESS FOR APPLICATION IN MICROELECTRONICS例文帳に追加

高い誘電率を有するパイロクロール構造のセラミック酸化物材料を形成するプロセスおよびマイクロエレクトロニクス用途のためのこのプロセスの実施 - 特許庁

To provide a process for producing low hydrogen-content silicon nitride materials which are used more suitably for the manufacture of microelectronics and which have better properties.例文帳に追加

マイクロエレクトロニクス製造において使用に，より好適なよりよい性質の，低水素量の窒化ケイ素材の生成のためのプロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a method for an assembly of many contact points type probe which is easy configuration in order to perform a high-frequency test of an integrated circuit or other microelectronics elements.例文帳に追加

集積回路または他のマイクロエレクトロニクス素子の高周波試験を行うための、構成が容易な多接点型プローブの組み立て方法を提案する。 - 特許庁

To provide a single crystal nanotube of a type of indium oxide that is applicable to the field such as microelectronics, optoelectronics and the like, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

マイクロエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス等の分野に応用が期待されている酸化インジウム系の単結晶ナノチューブとその製造方法を提供する。 - 特許庁

A preferable photoresist can provide a process substrate such as a microelectronics wafer having a desired iso-dense bias value.例文帳に追加

本発明の好ましいフォトレジストは、所望の孤立‐密集偏向値を有するマイクロエレクトロニクスウェーハをはじめとするプロセス基体を提供することができる。 - 特許庁

To provide a structure for housing a desiccant in which malfunctions of microelectronics/electronic circuits are not caused by electromigration.例文帳に追加

本発明は、エレクトロマイグレーションによって超小型電子技術／電子回路の障害が引き起こされることのない、乾燥剤の収容構造を提供しようとするものである。 - 特許庁

To allow the co-integration of electronic and photonic components on a single substrate with respect to a method for manufacturing a SOI substrate for microelectronics and optoelectronics.例文帳に追加

マイクロエレクトロニクス及びオプトエレクトロニクス向けＳＯＩ（ＳＥＭＩＣＯＮＤＵＣＴＯＲ‐ＯＮ‐ＩＮＳＵＬＡＴＯＲ）基板の製造方法に関連し、単一基板上において、電子及びフォトニック部品のコインテグレーションを可能にする。 - 特許庁

To provide a nanowire in which not only mechanical properties are excellent, but also interaction with a matrix material is suppressed, and their compositing effect is made suitable, and which is suitable for a microelectronics component, high performance ceramics, an optoelectronics component or the like.例文帳に追加

マイクロエレクトロニクス部品、高性能セラミックス、オプトエレクトロニクス部品等に好適な機械的特性が優れているだけでなく、マトリックス材料との相互作用を抑えて複合化効果も好適とする。 - 特許庁

To provide a thin film that has uniform thickness and superior step coverage in narrow holes, and is suitable for electronic interconnect in microelectronics and magneto resistance in magnetic information storage devices.例文帳に追加

マイクロエレクトロニクスにおける電子的連結及び磁気情報記録装置における磁気抵抗に好適な、均一な厚さを有しかつ細孔での優れたステップカバレッジを有する薄膜を提供する。 - 特許庁

The formed boule is of microelectronics device quality, such as having a transverse dimension greater than 1 cm, a length greater than 1 mm, and a top surface defect density of less than 10^7 defects per 1 cm^2.例文帳に追加

形成されるブールは、マイクロエレクトロニクス・デバイス品質を含み、例えば、１ｃｍより大きい断面寸法、１ｍｍを超える長さ、および１ｃｍ^2あたり１０^7未満欠陥の上面欠陥密度を有する。 - 特許庁

An injection molded article, having the composition or the composite material which has thermal conductivity and thermoplasticity and is formable, may be produced in order to apply to microelectronics, automobile, aviation electronics and other heat dissipation.例文帳に追加

マイクロエレクトロニクス、自動車、航空電子工学、およびそのほかの熱放散への応用のために、熱伝導性および熱可塑性を有し成形可能な組成物または複合材を有する射出成形された物品を形成することができる。 - 特許庁

To produce three-dimensional structures where thick and/or thin chips are stacked on integrated element plates already formed, the structures being required by development of microelectronics, miniaturization of electronic components, and increasing complexity of electronic assemblies.例文帳に追加

マイクロエレクトロニクスの進展、エレクトロニクス構成部品の微細化及びエレクトロニクス集合体の複雑性の増大により、厚い、かつ/又は薄いチップをすでに形成されている集積素子プレート上に積層する3次元構造の製造が求められている。 - 特許庁

As an example of application, the method is used in microelectronics, micro technology, or the like, in all the manufacturing methods, including formation of an air gap, particularly decomposition of a sacrificial material by the diffusion of the chemical substance, through a film which permeates the chemical substance for manufacturing air gap interconnection of an integrated circuit.例文帳に追加

応用例：エアギャップの形成、特に集積回路のエアギャップ相互接続の製造のための化学物質を透過する膜を通じた化学物質の拡散による犠牲材料の分解を含む全ての製造方法におけるマイクロエレクトロニクス及びマイクロテクノロジー。 - 特許庁

There are applications including all manufacturing method including the formation of air-gaps in microelectronics and microtechnology, especially the decomposition of a sacrificial material by diffusion of a chemical substance through a film permeable to the chemical substance for manufacture of air-gap interconnects in an integrated circuit.例文帳に追加

応用例：マイクロエレクトロニクスおよびマイクロテクノロジーにおけるエアギャップの形成、特に集積回路のエアギャップ相互接続の製造のための化学物質を透過する膜からの化学物質の拡散による犠牲材料の分解を含む全ての製造方法。 - 特許庁

To provide a method of processing an article with a high density fluid for processing in a processing chamber while applying an ultrasonic wave during processing in order to maintain and improve an economical yield at the time of manufacturing a smaller and more complex microelectronics system.例文帳に追加

より小さくてより複雑なマイクロエレクトロニクスシステムを製造する際の経済的な歩留まりを維持し、向上させるために、処理中に超音波を適用しながら、処理用チェンバー内で物品を処理用高密度流体で処理するための方法を提供する。 - 特許庁

This is a microgyrometer (10) based on detection of Coriolis force generated from vertical angular motion (Ω) (machined by using existing microelectronics, preferably), for the oscillating direction (X) of mass bodies (12 and 12') movable freely along a plane (X, Y) of the microgyrometer (10).例文帳に追加

本発明は、ジャイロメーター(１０)の平面(Ｘ,Ｙ)に沿って自由に動くことができる質量体(１２,１２')の振動方向(Ｘ)に対して垂直な角運動(Ω)によって生じるコリオリの力の検出に基づく(有利なことには既存のマイクロ電子技術を用いて機械加工された)マイクロジャイロメーター(１０)を提案する。 - 特許庁

The memory lock system of microelectronics includes: a computer interface for performing connection to an external computer; a biometric interface receiving biometric data input to a biometric sensor by a user; a controller connected to the biometric interface and the computer interface; a biometric data storage device for storing the raw and/or processed biometric data; and a large-capacity storage element for storing accessed data.例文帳に追加

マイクロ電子工学のメモリロックシステムは、外部のコンピュータに接続するためのコンピュータ・インタフェースと、バイオメトリック・センサに接続されて、ユーザがバイオメトリック・センサに入力するバイオメトリック・データを受信するように構成されたバイオメトリック・インタフェースと、バイオメトリック・インタフェースとコンピュータ・インタフェースに接続された制御装置と、生の、および/または、処理されたバイオメトリック・データを保存するためのバイオメトリック・データ記憶装置と、アクセスされるデータを保存するための大容量記憶素子を含む。 - 特許庁