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n channelの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2075件
A silicon nitride film is formed on an active trench side wall, on which the n channel field-effect transistor is formed, and the silicon nitride films are formed only in the channel direction and the vertical direction on the active trench side wall of the p channel field-effect transistor.例文帳に追加
nチャネル型電界効果トランジスタが形成されるアクティブの溝側壁にシリコン窒化膜を設け、さらにpチャネル型電界効果トランジスタのアクティブの溝側壁にはチャネル方向と垂直方向のみシリコン窒化膜を設ける。 - 特許庁
An n-channel MOS transistor M2 and a p-channel MOS transistor M1 of the gate drive circuit 1 are turned on and off in complementary manner based on a pulse signal inputted from an input terminal IN1 to turn on and off an n-channel power MOS transistor M6.例文帳に追加
ゲート駆動回路1のNチャネルMOSトランジスタM2とPチャネルMOSトランジスタM1とは、入力端子IN1から入力されたパルス信号に基づき相補的にオンオフし、NチャネルパワーMOSトランジスタM6をオン、オフさせる。 - 特許庁
To prevent adhesion of foreign matters to the side surfaces of a gate insulating film of an n-channel transistor, in a method of manufacturing a semiconductor device that has the n-channel transistor and a p-channel transistor each having a high-dielectric constant insulating film.例文帳に追加
高誘電率の絶縁膜を有するnチャネル型トランジスタやpチャネル型トランジスタを有する半導体装置の製造方法において、nチャネル型トランジスタのゲート絶縁膜の側面への異物の付着を抑制する。 - 特許庁
The n-channel region 14a is sandwiched with a trench gate region 18 coated with an insulating film 16.例文帳に追加
nチャネル領域14aは絶縁膜16で被覆されたトレンチゲート領域18で挟まれる。 - 特許庁
A N-channel MOS-FET is used for a switching transistor 406a of a connection switching means 406.例文帳に追加
接続切換手段406のスイッチングトランジスタ406aはNチャネルMOS−FETとする。 - 特許庁
The N channel MOS transistor connects an output terminal of an output circuit with a reference terminal.例文帳に追加
NチャネルMOSトランジスタは、出力回路の出力端子と基準端子との間を接続する。 - 特許庁
The n^- layer 6 directly contacts the p^- layer 7 and directly contacts the channel stopper region 14.例文帳に追加
n^-層6は、p^-層7と直接接触し、チャネルストッパ領域14と直接接触する。 - 特許庁
To provide an overvoltage protection circuit utilizing an N-channel MOSFET as a switch transistor.例文帳に追加
スイッチトランジスタとしてNチャンネルMOSFETを利用した過電圧保護回路を提供する。 - 特許庁
A second n-channel transistor n2 converts the second voltage signal V2 to a second current signal I2.例文帳に追加
第2のnチャネルトランジスタn2は第2電圧信号V2を第2電流信号I2に変換する。 - 特許庁
The resistor R1 is connected between the N channel MOS transistors NM1 to NMn and the terminal 5.例文帳に追加
抵抗R1は、NチャネルMOSトランジスタNM1〜NMnと端子5との間に接続される。 - 特許庁
The formation of a parasitic thin film transistor in the side channel 16 of the n-type thin film transistor 4 can be prevented.例文帳に追加
n型薄膜トランジスタ4のサイドチャネル部16での寄生薄膜トランジスタの形成を防止できる。 - 特許庁
The source of the n-channel MOS transistor 122 is connected to a first block decode line BD1.例文帳に追加
nチャネルMOSトランジスタ122のソースは、第1ブロックデコード配線BD1に接続されている。 - 特許庁
The transistor TR12 is of an n-channel type and is formed on the surface of the p-type semiconductor substrate 50.例文帳に追加
TR12はNチャネル型であり、P型半導体基板50の表面に形成される。 - 特許庁
The data are bundled for every two pieces of data in the channel direction and the row direction for improving the S/N of the data.例文帳に追加
データのS/N改善のためにチャネル方向,列方向に2つずつデータを束ねる。 - 特許庁
To provide a method for screening a substance exhibiting pharmacologic action by acting on N-type calcium channel.例文帳に追加
N型カルシウムチャネルに作用して薬理作用を示す物質のスクリーニング方法を提供する。 - 特許庁
A gate electrode 9a is formed on the gate insulating film 5 of the n-channel MISFET Q_1.例文帳に追加
nチャネル型MISFETQ_1のゲート絶縁膜5上にゲート電極9aを形成する。 - 特許庁
An n-type silicon carbide source layer 5 is formed on the p-type silicon carbide channel layer 4.例文帳に追加
そして、n型炭化珪素ソース層5は、p型炭化珪素チャネル層4上に形成される。 - 特許庁
A channel layer (n-GaN) 12 and an electron supply layer (AlGaN) 11 are formed thereon.例文帳に追加
それらの上には、チャネル層(n−GaN)12、電子供与層(AlGaN)11が形成されている。 - 特許庁
An encoding/decoding unit 23 (0-N) processes encoding/decoding voice data corresponding to a channel.例文帳に追加
符号化/復号化ユニット23(0〜N)は、チャネル対応に音声データを符号化/復号化処理する。 - 特許庁
An n-type channel layer 8 is formed to cover the entire area of a wall surface 7 of the trench 6.例文帳に追加
トレンチ6の壁面7の全域を覆うように、n型チャネル層8が形成されている。 - 特許庁
A fourth n-channel MOSFET (Mn4) has a source terminal and a back gate terminal connected to each other.例文帳に追加
第4nチャネルMOSFET(Mn4)は、ソース端子とバーグゲート端子間が接続されている。 - 特許庁
By doing this, the sidewall of the long side of the trench 4 for N-channel is made to be (100) plane and the sidewall of the long side of the trench 4 for P-channel is made to be (110) plane, and electrons as current carriers for N-channel and holes as current carriers of P-channel each have high mobility.例文帳に追加
これによりNチャネル側のトレンチ4の長辺側の側壁を(100)面とし、Pチャネル側のトレンチ4の長辺側の側壁を(110)面として、Nチャネル側の電流担体である電子及びPチャネル側の電流担体である正孔の移動度を高くする。 - 特許庁
In the device, a plurality of p-channel MISFETs Qp1 for logic, a plurality of n-channel MISFETs Qn1 for logic, a plurality of p-channel MISFETs Qp2 for memory, and a plurality of n-channel MISFETs Qn2 for memory are mixedly mounted on a semiconductor substrate 1.例文帳に追加
半導体基板1上に複数のロジック用pチャネル型MISFETQp1と、複数のロジック用nチャネル型MISFETQn1と、複数のメモリ用pチャネル型MISFETQp2と、複数のメモリ用nチャネル型MISFETQn2とが混載されている。 - 特許庁
The device structure is such that an n-channel MISFET region and a p-channel MISFET region are formed, the n-channel MISFET has a first metal silicide film 115 for its gate electrode, and the p-channel MISFET has a second metal silicide film 119 for its gate electrode.例文帳に追加
NチャネルMISFET領域とPチャネルMISFET領域とを形成し、NチャネルMISFETのゲート電極として第1の金属シリサイド膜115を、PチャネルMISFETのゲート電極として第2の金属シリサイド膜119をもつ構造とする。 - 特許庁
In this differential tri-state generation method, the same current is respectively energized from a current source 2 to a P channel MOSFET P3, an N channel MOSFFT N3, the P channel MOSFET P4 and the N channel MOSFET N4 and high impedance is generated between output terminals OUTA and OUTB.例文帳に追加
電流源2からPチャンネルMOSFET P3及びNチャンネルMOSFET N3と、PチャンネルMOSFET P4及びNチャンネルMOSFET N4とにそれぞれ同一の電流を通電して出力端OUTA、OUTB間に高インピーダンスを発生する。 - 特許庁
The vertical junction field effect transistor 1a includes an n+-type drain semiconductor part 2, an n-type drift semiconductor part 3, a p+-type gate semiconductor part 4, an n-type channel semiconductor part 5, and an n+-type source semiconductor part 7.例文帳に追加
本発明に係る縦型JFET1aは、n^+型ドレイン半導体部2と、n型ドリフト半導体部3と、p^+型ゲート半導体部4と、n型チャネル半導体部5と、n^+型ソース半導体部7とを備える。 - 特許庁
A pair of p^+-type contact layers 4 is provided on the channel layer 3 at both the sides of a p-type channel region 3a, and an n^+-type contact layer 4 is provided at a lower side of the channel layer 3.例文帳に追加
p型のチャネル領域3aの両側のチャネル層3上に一対のp^+型コンタクト層4が設けられ、チャネル層3の下側にn^+型コンタクト層4が設けられている。 - 特許庁
A down-mix processing unit 67 down-mixes the N-channel sound data outputted from the mixing unit 63 to 2-channel sound data and outputs the down-mixed 2-channel sound data.例文帳に追加
ダウンミックス部67は、ミキシング部63から出力されたNチャンネルの音声データを2チャンネルの音声データにダウンミックスして、ダウンミックスした2チャンネルの音声データを出力する。 - 特許庁
To improve the yield of manufacturing by suppressing variations in a threshold voltage of a P-channel MOSFET in a semiconductor device comprising an N-channel MOSFET and the P-channel MOSFET.例文帳に追加
NチャネルMOSFETとPチャネルMOSFETを備える半導体装置において、PチャネルMOSFETの閾値電圧のばらつきを抑制し、製造歩留まりを上げる。 - 特許庁
The transmission power calculation part 5 calculates the transmission power of the time slot N to be reduced in the channel when the channel is decided to exist by the channel decision part 4.例文帳に追加
送信電力算出部5は、チャネル判定部4によりチャネルが存在すると判定された場合、当該チャネルにおいて、減少すべきタイムスロットNの送信電力を算出する。 - 特許庁
After a trench 7 reaching the N^--type drift layer 2 through the N^+-type layer 5 and the P^+-type layer 3 is formed, an N^--type channel layer 8 is formed on the internal surface of the trench 7 using an epitaxial growth.例文帳に追加
そして、N^+型層5およびP^+型層3を貫通してNー型ドリフト層2に達するトレンチ7を形成し、トレンチ7の内壁面にN^-型チャネル層8をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁
An n+ substrate 12, an(n)drift region 14, a p-channel region 16, an n+ source region 17, a trench gate 18, a source electrode 22 are formed on a drain electrode 10 in order.例文帳に追加
ドレイン電極10上に、順次n+基板12、nドリフト領域14、p−チャネル領域16、n+ソース領域17、トレンチゲート18、及びソース電極22を形成する。 - 特許庁
An undoped GaN layer 2, an n-type AlGaN drain layer 3, an n-type GaN layer 4, a p-type GaN channel layer 5, and an n-type GaN source layer 6 are formed on a sapphire substrate 1.例文帳に追加
サファイア基板1上にアンドープGaN層2、n型AlGaNドレイン層3、n型GaN層4、p型GaNチャネル層5、n型GaNソース層6が形成されている。 - 特許庁
An n-type hole barrier layer NHB in concentration higher than impurity concentration of n^--type base layer NB is provided between the n^--type base layer NB and a p-type channel forming layer PCH.例文帳に追加
そして、n^−型ベース層NBとp型チャネル形成層PCHの間に、n^−型ベース層NBの不純物濃度よりも高濃度のn型ホールバリア層NHBを設ける。 - 特許庁
A semiconductor substrate in which an n-AlGaAs layer and an n-GaAs layer are laminated on an n+GaAs layer constituting a channel area and whose main surface has a (100) plane, is prepared.例文帳に追加
チャネル領域を構成するn+GaAs層上に、n−AlGaAs層及びn−GaAs層が積層された、主表面が(100)面の半導体基板を用意する。 - 特許庁
A part of the silicon layer subjected to tensile strain forms a channel region 13, which makes an N-channel for electron transit.例文帳に追加
引っ張り歪みを受けたシリコン層の一部がチャネル領域13となっており、このチャネル領域13は電子が走行するnチャネルとなっている。 - 特許庁
The data transmission manager 30 has a 0- channel registration area 40,..., an N-channel registration area 4N in cross- reference with channels for isochronous transfer.例文帳に追加
データ伝送マネージャ30は、アイソクロナス転送のチャンネルに対応付けて0チャンネル用登録エリア40,・・・Nチャンネル用登録エリア4Nをもつ。 - 特許庁
A channel region is formed in the surface layer of an N-type silicon substrate 1, and a source area is formed in the surface layer of the channel region.例文帳に追加
N型シリコン基板1の表層部にチャネル領域が形成されるとともに、チャネル領域の表層部にソース領域が形成されている。 - 特許庁
To provide a complementary semiconductor device reducing a threshold voltage of a p-channel MOSFET without impairing characteristics of an n-channel MOSFET.例文帳に追加
nチャネル型MOSFETの特性を劣化させることなく、pチャネル型MOSFETの閾値電圧を低減した相補型半導体装置する。 - 特許庁
From the crystalline silicon film, a complementary TFT comprising a P-channel TFT and N-channel type TFT comprising an LDD region is manufactured.例文帳に追加
結晶性珪素膜からPチャネル型TFTとLDD領域を有するNチャネル型TFTからなる相補型TFTを作製する。 - 特許庁
A voltage-generating circuit is composed of a capacitor CP1, an n-channel MOS transistor NT1, a P-channel MOS transistor PT1,, etc.例文帳に追加
電圧発生回路は、キャパシタCP1、nチャネルMOSトランジスタNT1、及びpチャネルMOSトランジスタPT1等を備えて構成される。 - 特許庁
An n-type channel FET region 2 and a p-type channel FET region 3 are provided side by side on a substrate 10 made of a compound semiconductor.例文帳に追加
化合物半導体からなる基板10上に、n型チャネルFET領域2とp型チャネルFET領域3とが併設されている。 - 特許庁
Size and shape of the structure are set so as to balance carrier mobilities between the p-channel MOS transistor and the n-channel MOS transistor.例文帳に追加
その際、pチャネルMOSトランジスタとnチャネルMOSトランジスタのキャリア移動度が平衡するように、前記構造の寸法・形状を設定する。 - 特許庁
A p-channel MOS transistor and an n-channel MOS transistor thus fabricated are connected in parallel to constitute the switch of the switched capacitor circuit.例文帳に追加
上記のように製造したpチャネルMOSトランジスタとnチャネルMOSトランジスタを並列に接続して、スイッチトキャパシタ回路のスイッチを構成する。 - 特許庁
The vertical MISFETs (SV_1, SV_2) of p-channel types are formed above the drive MISFETs (DR_1, DR_2) of n-channel types.例文帳に追加
pチャネル型の縦型MISFET(SV_1、SV_2)は、nチャネル型の駆動MISFET(DR_1、DR_2)の上方に形成されている。 - 特許庁
The decoder driver unit 12-1 consists of a P channel MOS transistor P1, an N channel MOS transistor N1 and a NAND circuit ND1.例文帳に追加
デコーダ・ドライバユニット12−1は、PチャネルMOSトランジスタP1、NチャネルMOSトランジスタN1及びNAND回路ND1から構成される。 - 特許庁
The inorganic n-channel TFT has an amorphous Si active layer, and the organic p-channel TFT has an α-hexathienylene (α-6T) active layer.例文帳に追加
n−チャネル無機TFTはアモルファスSi活性層を有し、p−チャネル有機TFTはα−ヘキサチエニレン(α−6T)活性層を有する。 - 特許庁
The gate of the power switching element 11 of a voltage driven type is connected to a junction point between sources of a n-channel FET13 and a p-channel FET14.例文帳に追加
電圧駆動型パワースイッチング素子11のゲートは、nチャネルFET13とpチャネルFET14のソースの接続点に接続されている。 - 特許庁
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