patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
METHOD AND SYSTEM FOR PROVIDING OPTICAL PROXIMITY FEATURE TO RETICLE PATTERN FOR PHOTOLITHOGRAPHY OF DEEP SUB-WAVELENGTH例文帳に追加
ディープ・サブ波長の光リソグラフィのためのレチクル・パターンに光近接フィーチャを提供する方法および装置 - 特許庁
To provide a polyimde precursor developable with an aqueous alkali solution and having negative type pattern forming ability.例文帳に追加
アルカリ水溶液にて現像が可能なネガ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体を提供する。 - 特許庁
A voltage preferably lower than a stress voltage applied to the gate electrode is applied to the shield pattern.例文帳に追加
遮蔽パターンは、好ましくはゲート電極に印加されるストレス電圧よりも低い電圧に接続される。 - 特許庁
To attain channel assignment suitable for an adaptive array antenna whose beam pattern can adaptively be changed.例文帳に追加
ビームパターンを適応的に変化できるアダプティブアレーアンテナに適したチャネル割り当てを行えるようにする。 - 特許庁
Cross sectional shape of the catalyst layer is desirably formed into A-pattern in order to increase surface area thereof.例文帳に追加
触媒層の断面形状は、その表面積を増加させるために好ましくはA字型である。 - 特許庁
A crosslinking combination layer 19 is formed on the interface between the photoresist pattern and the polymer containing silicon by performing exposure and baking.例文帳に追加
露光、ベークしフォトレジストパターンとシリコン含有ポリマーの界面に架橋結合層19を形成する。 - 特許庁
Each of the expansion elements includes a stepped pattern employing two distinct pitch angles(30, 36).例文帳に追加
延伸要素の各々は、二つの別個のピッチ角度(30、36)を採用する階段状パターンを含む。 - 特許庁
The lower layer pattern is formed only on the other parts and may comprise a polymethyl glutaric imide or a dye added polymethyl glutaric imide.例文帳に追加
下層パターンは、例えばポリメチルグルタルイミドもしくは染料が添加されたポリメチルグルタルイミドよりなる。 - 特許庁
This surface treatment agent for forming the resist pattern contains a compound having a carbodiimide group.例文帳に追加
カルボジイミド基を有する化合物を含有することを特徴とするレジストパターン形成用表面処理剤。 - 特許庁
An array antenna 10 receives L arrival waves by switching its beam pattern into a plurality of beam patterns.例文帳に追加
アレーアンテナ10は、そのビームパターンが複数のビームパターンに切換えられ、L個の到来波を受信する。 - 特許庁
The surface treatment agent for resist pattern formation contains a compound having an oxazoline group.例文帳に追加
オキサゾリン基を有する化合物を含有することを特徴とするレジストパターン形成用表面処理剤。 - 特許庁
The electric conductive pattern is so formed that the conductive coating film may be irradiated by an excimer laser device.例文帳に追加
この導電性被膜にエキシマレーザー装置によりエキシマレーザーを照射して導電パターンを形成した。 - 特許庁
A conductive layer is formed above the substrate to cover the photoresist pattern and the exposed substrate surface.例文帳に追加
導電層を基板上方に形成し、フォトレジストパターンおよび露出された基板の表面を被覆する。 - 特許庁
The wiring pattern of internal wiring is formed on the basis of the corrected bit map data.例文帳に追加
そして、その補正されたビットマップデータに基づいて内部配線の配線パターンを形成するようにした。 - 特許庁
To prevent the affection of Coulomb interaction when exposure is performed by an exposure pattern using a block mask.例文帳に追加
ブロックマスクを利用してブロック露光パターンによる露光を行う場合に、クーロンインタラクションの弊害を防止する。 - 特許庁
A myocardium ischemia reperfusion model is prepared by using a wild type mouse for analyzing the appearance pattern of the MK.例文帳に追加
野生型マウスを用いて心筋虚血再灌流モデルを作成し、MKの発現パターンを解析する。 - 特許庁
SCANNING ELECTRON MICROSCOPE SYSTEM FOR DIMENSION MEASUREMENT, AND EVALUATION SYSTEM OF CIRCUIT PATTERN FEATURE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加
寸法計測走査型電子顕微鏡システム並びに回路パターン形状の評価システム及びその方法 - 特許庁
Generation of eddy currents can be reduced as the Euler characteristic is "1" in the electrode pattern.例文帳に追加
この電極パターンは、オイラー標数が「1」となっているため、渦電流の発生を低減することができる。 - 特許庁
The automatic musical performance pattern data and section chain data corresponding thereto are recorded on a recording medium and supplied.例文帳に追加
自動演奏パターンデータとそれに対応するセクションチェインデータを記録媒体に記録して供給する。 - 特許庁
POLYMER FOR RESIST, RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE ON WHICH PATTERN IS FORMED, AND POLYMERIZABLE MONOMER例文帳に追加
レジスト用重合体、レジスト組成物、パターンが形成された基板の製造方法、および重合性モノマー - 特許庁
The pattern category data is a circumscribed multidimensional rectangle including all of the learning samples belonging to the category.例文帳に追加
パターンカテゴリデータは,カテゴリに属しているすべての学習サンプルを含む外接多次元長方形である。 - 特許庁
At supplying of the adhesive, the same adhesive for die bonding is also supplied to the empty space of the pattern 3 for soldering.例文帳に追加
また、このときに、半田付け用パターン3間にも同じダイボンディング用接着剤を供給する。 - 特許庁
The photoresist 1a is used as a mask for etching, thus forming a fine pattern on the foundation substrate.例文帳に追加
フォトレジスト1aをマスクとしてエッチングを行うことで下地基板に微細パターンを形成する(図2(e))。 - 特許庁
The antireflection film 11 is patterned by dry etching with the resist pattern as a mask.例文帳に追加
反射防止膜11に対してレジストパターンをマスクにドライエッチングを行なって、反射防止膜をパターン化する。 - 特許庁
By using the resist pattern 21 as a mask, P-type impurity (e.g., boron (B)) ions are implanted.例文帳に追加
その後、そのレジストパターン21をマスクとして用いて、p型不純物(例えば、ボロン(B))のイオン注入を行う。 - 特許庁
The anode 6 is a transparent electrode formed in such a manner as to correspond to a hologram pattern of a condenser.例文帳に追加
アノード6は集光レンズのホログラムパターンに対応して形成されている透明電極である。 - 特許庁
A second replica driver amplifier AMP2 generates a third differential signal Vcn based on the pattern data PAT.例文帳に追加
第2レプリカドライバアンプAMP2は、パターンデータPATにもとづいて第3差動信号Vcnを生成する。 - 特許庁
A first replica driver amplifier AMP1 generates a second differential signal Vcp based on the pattern data PAT.例文帳に追加
第1レプリカドライバアンプAMP1は、パターンデータPATにもとづいて第2差動信号Vcpを生成する。 - 特許庁
A content reproducing part 160 reproduces the contents based on a reproduction pattern registered in the play list 190.例文帳に追加
コンテンツ再生部160はプレイリスト190に登録された再生パターンに基づいてコンテンツを再生する。 - 特許庁
By observing the dummy pattern, the specific portion of SRAMs can be observed in the semiconductor chip.例文帳に追加
ダミーパターンを観察することで、半導体チップ内のSRAMの特定部分を観察することができる。 - 特許庁
This can manufacture the lengthy flexible board longer than the length of the pattern hole of the exposure mask.例文帳に追加
これにより、露光マスクのパターン孔の長さより長い長尺なフレキシブル基板を製造することができる。 - 特許庁
To provide an electronic watermark burying device performing the dynamic conversion processing of signal pattern size.例文帳に追加
信号パターンサイズの動的な変換処理を行うことの可能な電子透かし埋め込み装置を提供する。 - 特許庁
At the printing of the decorative pattern on the olefin-based resin sheet, the application of an anchor coat is preferable.例文帳に追加
これらオレフィン系樹脂シートに装飾模様を印刷するとき、アンカーコートを施しておくのが好ましい。 - 特許庁
An oscillation threshold is determined according to the light intensity or dimensional change of a near field pattern of a semiconductor laser 3.例文帳に追加
半導体レーザー3の近視野像の光強度又はサイズの変化から発振しきい値を決定する。 - 特許庁
A layout processing means 261 arranges the dummy pattern which does not function as a circuit in layout design processing data.例文帳に追加
レイアウト設計処理データに回路的に機能しないダミーパターンをレイアウト処理手段261が配置する。 - 特許庁
The present pattern layer is exposed in the main lot by setting the displacement compensation coefficient to the aligner.例文帳に追加
位置ずれ補正係数を露光装置に設定して、本体ロットで現在のパターンレイヤの露光を行う。 - 特許庁
ETCHING LIQUID FOR SILVER THIN FILM, AND ETCHING METHOD AND PATTERN FORMING METHOD FOR SILVER THIN FILM USING THE ETCHING LIQUID例文帳に追加
銀薄膜用エッチング液、そのエッチング液を用いた銀薄膜のエッチング方法及びパターン形成方法 - 特許庁
The combination pattern and the size are changed properly in accordance with spatial restriction and a positional relation with the camera.例文帳に追加
その組み合わせパターンや大きさは、空間的な制約や、カメラとの位置関係に応じて適切に変える。 - 特許庁
The space dot pattern may include two beam dot arrangements using two one-dimensional diffraction optical elements.例文帳に追加
空間ビームドットパターンは二つの一次元回折光学素子を用いて、二つのビームドット配列をも含み得る。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS例文帳に追加
レジストパターン形成方法、それを用いた半導体装置の製造方法、および半導体製造装置 - 特許庁
The OFDM modulation section 1004 modulates the main information with the subcarrier pattern thus determined.例文帳に追加
その決定された副搬送波のパターンで、OFDM変調部1004は、主情報を変調する。 - 特許庁
An off-grid irregular diffraction pattern can be formed although calculation quantity is increased.例文帳に追加
計算量が増えるのであるが格子から外れた不規則性ある回折パターンを生成することができる。 - 特許庁
Then, the organic semiconductor layer 13 is formed on the substrate 1 by forming a film on the mask pattern 11.例文帳に追加
次に、マスクパターン11上からの成膜により基板1上に有機半導体層13を形成する。 - 特許庁
A sub-substrate 1 becomes one functional component by carrying out surface mounting of the electronic components onto a circuit pattern.例文帳に追加
副基板1は回路パターン上へ電子部品を表面実装することで一つの機能部品になる。 - 特許庁
POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE RESIST USING THE SAME AND IMAGE PATTERN FORMING METHOD USING THE NEGATIVE RESIST例文帳に追加
重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 - 特許庁
COMPOSITION FOR FORMING FILM CONTAINING SILICON FOR MULTILAYER RESIST PROCESSING, FILM CONTAINING SILICON, AND METHOD OF FORMING PATTERN例文帳に追加
多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法 - 特許庁
To obtain a specified photoresist profile at the time of forming a specified device pattern on a substrate coated with photoresist.例文帳に追加
フォトレジストが塗布された基板に所定のデバイスパターンを形成する際に、所定のフォトレジストプロファイルを得る。 - 特許庁
IMPROVED APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYER MATERIAL HAVING PROTRUDING RELIEF PATTERN ON SURFACE例文帳に追加
表面に突起状の浮き彫り模様を有する多層材の改良型製造装置および製造方法 - 特許庁
MULTI-GRADATION PHOTOMASK, PATTERN TRANSFER METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY UNIT USING MULTI-GRADATION PHOTOMASK例文帳に追加
多階調フォトマスク、パターン転写方法及び多階調フォトマスクを用いた表示装置の製造方法 - 特許庁
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|