「plane method」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a polishing laminate which is used for a polishing pad suitable for surface flattening work of a semiconductor device wafer such as an interlayer insulation film or metallic wiring, allows optical detection of a terminal point of polishing, and realizes high accuracy polishing by solving problems of in-plane dispersion and aging fluctuation of the polishing pad with an aperture complying with an optical detecting method of conventional structure.例文帳に追加

層間絶縁膜や金属配線等の、半導体デバイスウエハの表面平坦化加工に好適な研磨パッドに用いられる、光学的に研磨の終点検知が可能な研磨用積層体を提供するためのもので、その目的とするところは、従来構造の光学的検知法に対応した窓付き研磨パッドの、面内ばらつきや経時変動の問題を解消し、高精度の研磨を実現することのできる研磨用積層体を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method of the inkjet head formed with a membrane on one side of a chamber for containing ink includes: a process of forming the piezoelectric body on a glass; a process of bonding the piezoelectric body on the membrane; a process of irradiating laser on a faced plane between the piezoelectric body and the glass to separate the piezoelectric body from the glass; and a process of separating the piezoelectric body from the glass.例文帳に追加

本発明によるインクジェットヘッドの製造方法は、インクが収容されるチャンバの一側にメンブレインが形成されるインクジェットヘッドを製造する方法であって、ガラス上に圧電体を形成する工程と、圧電体をメンブレイン上に接合する工程と、圧電体とガラスが分離されるように、圧電体とガラスとの間の対向面にレーザを照射する工程と、圧電体とガラスを分離する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet sufficiently preventing a winding trace from being transferred to an adhesive layer when the adhesive sheet having the adhesive layer formed into a prescribed plane shape by precut processing or the like, and capable of sufficiently preventing the formation of voids by rolled-in air when pasting the adhesive layer on an adherend, to provide a method for producing a semiconductor device by using the adhesive sheet; and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

プリカット加工等により所定の平面形状に形成された接着剤層を有する接着シートをロール状に巻き取った場合において、接着剤層に巻き跡が転写されることを十分に抑制し、被着体に接着剤層を貼り付ける際に空気の巻き込みによるボイドの発生を十分に抑制することが可能な接着シート、並びに、上記接着シートを用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a metal patterning method performing exposure, development and etching of a circuit pattern after a photocrosslinking resin layer is formed on a substrate and subjected to thinning with an organic alkaline aqueous solution which allows for uniform thinning even of a photocrosslinking resin layer where the photocrosslinking resin has a composition less susceptible to swelling with high productivity, and in-plane uniform and fine metal patterning.例文帳に追加

本発明は、基板上の光架橋性樹脂層を形成した後、有機アルカリ水溶液によって光架橋性樹脂層の薄膜化処理を行った後、回路パターンの露光、現像、エッチング処理を行う金属パターンの作製方法において、光架橋性樹脂が現像液に対して膨潤しにくい組成の樹脂であっても光架橋性樹脂層をむらなく略均一に生産性良く薄膜化することができ、面内均一で微細な金属パターンの作製方法を提供するものである。 - 特許庁

The method for manufacturing the polycarbonate optical retardation film having 40 to 350 nm retardation in the plane direction measured at 550 nm wavelength includes a process of forming a film to produce a film by flow casting a solution of a polycarbonate resin, a stretching process to stretch the produced film at least in one direction to obtain a stretched oriented film, and a heat treatment process to heat-treat the stretched film under low tensile condition.例文帳に追加

また、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値が４０〜３５０ｎｍであるポリカーボネート系位相差フィルムの製造方法において、ポリカーボネート系樹脂の溶液を流延製膜して膜を作製する製膜工程と、作製された膜を少なくとも一方向に延伸して延伸フィルムを得る延伸工程と、前記延伸フィルムを低張力条件下で熱処理する熱処理工程とを含むことを特徴とするポリカーボネート系位相差フィルムの製造方法である。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device includes a first step of forming a trench 5a on a semiconductor substrate 1 by anisotropic etching and a second step of making a corner 5 at the bottom of the trench 5 round after the first step, by isotropic etching under the condition which does not eliminate a reaction product 20 formed on the inner plane of the side wall of the trench 5 by the anisotropic etching.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、異方性エッチングを行うことにより半導体基板１上にトレンチ５を形成する第１の工程を備え、そして、この第１の工程の後、前記異方性エッチングにより前記トレンチ５の側壁の内面に形成された反応生成物２０を除去しない状態で、等方性エッチングを行うことにより前記トレンチ５の底部のコーナー部５ａを丸める第２の工程を備えたところに特徴を有する。 - 特許庁

Furthermore, the method of manufacturing optical compensation element, having the optical anisotropic layer formed from the composition which contains at least the liquid crystalline compound, comprises a process of changing at least one of the in-plane retardations Re and the retardations Rth in the thickness direction of the optical anisotropic layer by 5 nm or larger, by making a part of liquid crystalline molecules in the optical anisotropic layer elute according to the solution treatment.例文帳に追加

また、少なくとも液晶性化合物を含有する組成物から形成された光学異方性層を有する光学補償素子の製造方法であって、溶液処理によって、前記光学異方性層中の液晶性分子の一部を溶出させて、前記光学異方性層の面内レターデーションＲｅ及び厚み方向のレターデーションＲｔｈのうち少なくとも一方を５ｎｍ以上変化させることを含む光学補償素子の製造方法である。 - 特許庁

The method includes steps of: forming a first electroforming mold by photolithography or stereolithography for shaping the opening; forming a second electroforming mold for shaping the plane in which the opening is formed; forming an electroforming member having a shape to which the first electroforming mold and the second electroforming mold are transferred by electroforming; and removing the first and second electroforming molds from the electroforming member.例文帳に追加

貫通した開口部を有し、かつ該開口部があけられた平面とその周囲の平面との高さが異なる形状を有する電子銃部品の製造方法であって、フォトリソグラフィー法や光造形法によって、開口部の形状を形作るための第一電鋳型を形成する工程と、開口部があけられた平面部分の形状を形作るための第二電鋳型を形成する工程と、さらに電鋳法によって第一電鋳型、第二電鋳型を転写した形状を備える電鋳部材を形成する工程と、さらに第一電鋳型、第二電鋳型を電鋳部材から除去する工程とを有する。 - 特許庁