「plasma control system」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

OPERATION CONTROL METHOD AND DEVICE OF PLASMA REACTOR SYSTEM例文帳に追加

プラズマ反応炉システムの運転制御方法及び装置 - 特許庁

PLASMA BLADE TIP CLEARANCE CONTROL SYSTEM例文帳に追加

プラズマ式ブレード先端間隙制御装置 - 特許庁

BEVELING PROCESSING PROGRAM, CONTROL SYSTEM, AND PLASMA CUTTING DEVICE例文帳に追加

開先加工用プログラム、制御システム及びプラズマ切断装置 - 特許庁

DEVICE FOR CONTROLLING PLASMA PROCESSING DEVICE SYSTEM, METHOD OF CONTROLLING PLASMA PROCESSING SYSTEM, AND STORAGE MEDIUM STORING CONTROL PROGRAM例文帳に追加

プラズマ処理装置システムの制御装置、プラズマ処理システムの制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体 - 特許庁

To provide a method and a system that adjust and control uniformity, in plasma in a plasma processing system.例文帳に追加

プラズマ処理システム内のプラズマの均一性を調整・制御する方法及びシステムを提供する。 - 特許庁

CONTROL METHOD OF PLASMA ETCHING PROCESS DEVICE AND TRIMMING AMOUNT CONTROL SYSTEM例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置の制御方法およびトリミング量制御システム - 特許庁

GROOVING METHOD, CONTROL PROGRAM, COMPUTATION PROGRAM, CONTROL SYSTEM, AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

開先加工方法、制御プログラム、演算プログラム、制御システム及びプラズマ加工装置 - 特許庁

AUTO-BIAS CONTROL SYSTEM, AUTO-BIAS CONTROL METHOD, AND PLASMA PROCESSING METHOD例文帳に追加

自己バイアス制御システム、自己バイアス制御方法及びプラズマ処理方法 - 特許庁

To provide a plasma process system and a plasma control method by which generation and preservation of a plasma can be stably and efficiently performed and the process uniformity using the plasma can be improved.例文帳に追加

プラズマの生成・維持を安定的かつ効率的に行うとともに、プラズマを用いた処理の均一性を向上させることが可能なプラズマプロセス装置およびプラズマ制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system which can precisely control the nitrogen energy during a plasma nitriding operation.例文帳に追加

プラズマ窒化中の窒素エネルギーの精密な制御を可能とするシステムの提供。 - 特許庁

To provide a gas turbine engine plasma blade tip clearance control system.例文帳に追加

ガスタービンエンジンのプラズマ式ブレード先端間隙制御システムを提供する。 - 特許庁

CONTROL METHOD OF PLASMA DEVICE, DEODORIZATION AND STERILIZATION METHOD, AND DEODORIZATION AND STERILIZATION SYSTEM例文帳に追加

プラズマデバイスの制御方法、脱臭殺菌方法及び脱臭殺菌システム - 特許庁

A plasma processing system 11 is provided with a processing chamber for performing etching processing, and a control unit 41.例文帳に追加

プラズマ処理装置１１は、エッチング処理を行う処理室１２と、制御装置４１とを備える。 - 特許庁

EXTRA LOW POWER PLASMA REACTOR SYSTEM FOR NOX EXHAUST GAS CONTROL OF AUTOMOBILE例文帳に追加

自動車のＮＯｘ排気制御のための超低パワープラズマ反応器システム - 特許庁

To provide a plasma treatment system which enables high precision bias control.例文帳に追加

高精度なバイアス制御が可能とされたプラズマ処理システムの提供を目的とする。 - 特許庁

To provided a plasma processing system capable of stably maintaining plasma of a plasma reactor upon momentary power supply interruption and its control method.例文帳に追加

瞬間的に電源供給の遮断が発生した際にもプラズマ反応器のプラズマを安定して維持することができるプラズマ処理システム及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To restrain the occurrence of a short circuit in a plasma generator, in an exhaust emission control system of an internal combustion engine having the plasma generator arranged in an exhaust passage and generating plasma in exhaust gas.例文帳に追加

本発明は、排気通路に設けられ排気中にプラズマを発生させるプラズマ発生装置を備えた内燃機関の排気浄化システムにおいて、プラズマ発生装置における短絡の発生を抑制することを課題とする。 - 特許庁

The system may include: a He plasma source contained in a chamber; and a control unit configured so as to correct plasma parameters such as an electronic energy distribution of plasma when used, in order to increase formation of a He metastable atom without correcting operation parameters of the plasma source.例文帳に追加

システムは、チャンバ内に含まれたＨｅプラズマ源と、プラズマ源の動作パラメータを修正することなくＨｅ準安定原子の形成を増加させるべくプラズマの電子エネルギー分布といったプラズマパラメータを使用時に修正するように構成された制御ユニットとを含んでよい。 - 特許庁

The end point detection system 5 sends the signal of the detected plasma treatment end point to a device control system 6 and stops the application of high frequency power.例文帳に追加

終点検出システム５は、検出したプラズマ処理終点の信号を装置制御システム６へ送り高周波電力の印加を停止する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device and its control method, capable of stabilizing plasma treatment characteristics and easily carrying out troubleshooting, in one of bias voltage control system.例文帳に追加

バイアス電圧制御方式のプラズマ処理装置にて、プラズマ処理特性を安定させることができるとともに、故障診断を容易に実施することができるプラズマ処理装置およびその制御方法を提供する。 - 特許庁

A treatment system control (304) automates the operation of the system and controls flow of the process gas, evacuation of the chamber, and the application of the plasma excitation power to minimize the length of a treatment cycle and to optimize the uniformity of the plasma treatment.例文帳に追加

処理システム制御（３０４）は、システムの動作を自動化し、処理ガスのフロー、チャンバの排気、およびプラズマ励起パワーの印加を制御して、処理サイクルの長さを最小限に抑え、プラズマ処理の均一性を最適化する。 - 特許庁

The exhaust emission control device comprises the plasma processing device 60 disposed in the engine exhaust system, a downstream side detecting means 62 for detecting the current condition of exhaust gas on the downstream side on the plasma processing device, and plasma processing device control means 40 and 50 for controlling the electric power to be fed to the plasma processing device based on the condition of exhaust gas detected by the downstream detecting means.例文帳に追加

機関排気系に配置されたプラズマ処理装置６０と、プラズマ処理装置の下流側における現在の排気ガス状態を検出する下流側検出手段６２と、下流側検出手段により検出された排気ガス状態に基づきプラズマ処理装置への投入電力を制御するプラズマ処理装置制御手段４０，５０とを具備する。 - 特許庁

To provide a temperature adjustment mechanism capable of attaining suitable plasma treatment characteristics by controlling a temperature of a dielectric window used for plasma treatment and safely working while efficiently performing the temperature control of the whole system, and a plasma treatment device using the temperature adjustment mechanism.例文帳に追加

プラズマ処理に用いる誘電体窓の温度を制御して良好なプラズマ処理特性を実現するとともに、装置全体を効率よく温度制御しながら、安全に作業することができる温度調節機構および温度調節機構を用いるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

After completing the etching, a control part 8 introduces cleaning gas by the gas introducing system 3, forms the plasma by the plasma forming means 4 and removes films deposited on exposed surfaces in the process chamber 1 by the action of plasma.例文帳に追加

制御部８は、エッチング終了後、クリーニング用ガスをガス導入系３により導入し、プラズマ形成用手段４によりプラズマを形成して、プロセスチャンバー１内の露出面に堆積した膜をプラズマの作用により除去する。 - 特許庁

To provide a simulation device and a plasma discharge processing device supporting system correctly calculating electron energy distribution or the like in a plasma of the plasma discharge processing device applying a treatment in the region of atmospheric pressure by a time-dependent Boltzmann equation or the like, and deciding a control parameter.例文帳に追加

大気圧近傍で処理を行うプラズマ放電処理装置におけるプラズマ中の電子エネルギー分布等を時間依存のボルツマン方程式等により正確に算出して制御パラメータを決定するシミュレーション装置およびプラズマ放電処理装置支援システムを提供する。 - 特許庁

A control unit 8 introduces gas for cleaning by the gas introduction system 3 after completion of etching, forms plasma by the means 4 for plasma formation, and removes a film deposited on an exposure surface in the process chamber 1 by the action of plasma.例文帳に追加

制御部８は、エッチング終了後、クリーニング用ガスをガス導入系３により導入し、プラズマ形成用手段４によりプラズマを形成して、プロセスチャンバー１内の露出面に堆積した膜をプラズマの作用により除去する。 - 特許庁

A plasma etching system 1 comprises a processing chamber 2 normally performing plasma etching, and an automatic pressure controller 4 connected with the processing chamber 2 through an exhaust line 3 in order to control the inner pressure of the processing chamber 2.例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置１は、通常、プラズマエッチング処理を行う処理室２と、排気管路３を介して処理室２と接続され、処理室２の内圧を制御する自動圧力制御装置４とを備える。 - 特許庁

To freely and precisely control plasma density distribution by using a simple magnetic shielding member without requiring special revision to an RF antenna for plasma generation or a high frequency power supply system.例文帳に追加

プラズマ生成用のＲＦアンテナや高周波給電系統に特別な細工を必要とせずに、簡易な磁気シールド部材を用いてプラズマ密度分布を自在かつ精細に制御すること。 - 特許庁

To provide a plasma treatment system and method therefor capable of applying temperature control to a stage and applying plasma treatment to a sample depending on the process of the sample to be treated.例文帳に追加

処理される試料のプロセスに応じて、試料台の温度制御を行いプラズマ処理することのできるプラズマ処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

MASS FLOW CONTROLLER SYSTEM, PLASMA PROCESSING APPARATUS, FLOW RATE CONTROL METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスフローコントローラシステム、プラズマ処理装置、流量制御方法、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

To control the drive power of a plasma display panel capable of maintaining constantly power consumption, without imparting electrical shocks to a system.例文帳に追加

システムに電気的衝撃を与えずに消費電力を一定に維持できるようにプラズマ表示パネルの駆動電力を制御する。 - 特許庁

A power supply system 61 of a plasma source includes a measuring device 22, a control device 23, and an AC power supply 24.例文帳に追加

プラズマ源の電源系６１は測定装置２２と制御装置２３と交流電源２４を有している。 - 特許庁

To reduce a setting space, and to reduce the usage of a cooling medium in the temperature control system of the plurality of members of a plasma treatment apparatus.例文帳に追加

プラズマ処理装置の複数の部材の温度制御システムについて，設置スペースを低減し，冷媒の使用量を低減する。 - 特許庁

To automatically measure a thickness of each tray and properly control the trays in a plasma processing system including the trays in which substrates are placed to be transferred.例文帳に追加

基板を載置して搬送するトレイを備えるプラズマ処理システムにおいて、トレイの厚さを自動的に測定して適切に管理する。 - 特許庁

In an ignition control system 10, an ECU (Electronic Control Unit) 30 generates spark discharge between counter electrodes of a spark plug 11 by an ignition coil 11 in the ignition timing, and generates the plasma discharge by the spark plug 11 by discharge of a plasma capacitor 18 with the spark discharge as a trigger.例文帳に追加

点火制御システム１０において、ＥＣＵ３０は、点火タイミングにて点火コイル１１により点火プラグ１１の対向電極間に火花放電を生じさせるとともに、該火花放電をトリガとしてプラズマコンデンサ１８の放電により点火プラグ１１にてプラズマ放電を生じさせる。 - 特許庁

To provide a temperature control system, a temperature control method, a plasma treatment device, and a computer storage medium that reduce power consumption and save energy as compared with a conventional system.例文帳に追加

従来に比べて消費電力を削減することができ、省エネルギー化を図ることのできる温度制御システム、温度制御方法、プラズマ処理装置及びコンピュータ記憶媒体を提供する。 - 特許庁

This exhaust emission control system is provided with an exhaust emission control device and a reducing agent supply means for supplying a reducing agent to the exhaust emission control device, separately from the plasma generator.例文帳に追加

プラズマ発生装置とは別に排気浄化装置および該排気浄化装置に還元剤を供給する還元剤供給手段が備えられている。 - 特許庁

The monitoring system comprises: an optical sensor 20 for detecting plasma emission caused by excitation of a gas molecule in the irradiation zone by radiation irradiated from the irradiation apparatus 1; and a controller 21 for outputting the control signal according to the light quantity of plasma emission detected by the optical sensor 20.例文帳に追加

放射線照射装置（１）から照射される放射線によりその照射域の気体分子が励起されて生ずるプラズマ発光を検出する光学センサ（２０）と、該光学センサ（２０）で検出したプラズマ発光の光量に応じて制御信号を出力するコントローラ（２１）とを備えた。 - 特許庁

To sufficiently reduce the emission of toxic material in the exhaust gas to the atmosphere by reducing the power consumption of a plasma processing device to the necessary minimum quantity in an exhaust emission control device of an internal combustion engine having the plasma processing device in the engine exhaust system.例文帳に追加

プラズマ処理装置を機関排気系に備える内燃機関の排気浄化装置において、プラズマ処理装置での電力消費を必要最小限として排気ガス中の有害物質の大気放出量を十分に低減することである。 - 特許庁

To control flow rates of carrier gas, plasma gas and coolant gas for forming plasma, without having to use using expensive mass flow controller or mass flowmeter plus a solenoid proportional valve, by a low-cost in a system that will not be affected by the ambient temperature, in an IPC emission spectrophotometer.例文帳に追加

ＩＣＰ発光分光分析装置において、プラズマを形成するための、キャリアガス、プラズマガス、クーラントガスの流量を、高価なマスフローコントローラ又はマスフローメータ＋電磁比例弁を使用することなく、安価で室温の影響を受けない方式で制御する。 - 特許庁

There are provided a power supply control system to a plasma catalyst and a method therefor, wherein plasma energy is controlled according to a measured value or an estimated value of an operation parameter of an engine or a vehicle to optimize the relation of the emission reduced amount to the energy cost.例文帳に追加

エネルギー・コストに対する排出物減少量の関係を最適化するために、エンジン又は車両の動作パラメーターの測定値或いは推定値に従ってプラズマ・エネルギーを制御する、プラズマ触媒への電力供給制御システムと方法が、提供される。 - 特許庁

To provide an emission control system and emission control method having sufficiently high NOx decomposability by combining a plasma reactor with an NOx selecting reducing catalyst.例文帳に追加

プラズマリアクタとＮＯ_x選択還元触媒とを組合せて充分高いＮＯ_x分解能を有する排ガス浄化システムおよび排ガス浄化方法を提供する。 - 特許庁

A control system is connected to the plasma forming means 124, the bias potential applying means 128 and the monitoring means 200, and is programmed to provide the feedback loop control of the deposition of the material.例文帳に追加

制御システムが、プラズマ形成手段１２４、バイアス電位印加手段１２８、およびモニタ手段２００に接続されており、材料の堆積のフィードバックループ制御を提供するようにプログラムされる。 - 特許庁

To suppress generation of plasma in a gap space (1) without preparing any external electrode for each container having different shape and (2) without providing any pressure difference control mechanism between an inner space and an outer space of the container even by any system of the induction-coupling type plasma or the microwave plasma when performing the film deposition on an inner wall surface of a plastic container.例文帳に追加

プラスチック容器の内壁面に成膜をする場合において、（１）形状の異なる容器ごとに外部電極を準備する必要をなくし、（２）誘導結合型プラズマ又はマイクロ波プラズマのいずれの方式によっても、容器の内部空間と外部空間との圧力差制御機構を設けることなく、前記隙間空間でのプラズマ発生を抑制すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing system in which an advanced control can be dealt with by solving the problems of the variation in the characteristics of the system (difference of system) and the error or variation of control signal and monitor signal, and completely identical process performance can be obtained in a plurality of systems of identical design.例文帳に追加

装置の特性のばらつき（機差）や制御信号、モニタ信号の誤差やばらつきの問題を解決し、高度な制御に対応するとともに、全く同じプロセス性能を複数の同じ設計の装置で得ることが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁