「plasma-processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a susceptor that maintains stable plasma and deposits a uniform film by improving design of a susceptor for a plasma processing device.例文帳に追加

プラズマ処理装置用サセプタの設計を改良し、安定的なプラズマの維持及び均一な膜の堆積を可能にするサセプタを提供する。 - 特許庁

A plasma radiation spectrum under a condition with no blackbody radiation is measured by a spectroscopic luminance meter, in measurement processing S1 for the plasma radiation spectrum.例文帳に追加

プラズマ輻射スペクトルの計測処理Ｓ１では、分光輝度計により、黒体輻射のない状態のプラズマ輻射スペクトルを測定する。 - 特許庁

This plasma processing device 1 is provided with a plasma generation unit 10 including a pair of electrodes 11 and 12 for forming the discharge space 14.例文帳に追加

プラズマ処理装置１は、放電空間１４を形成する一対の電極１１，１２を含むプラズマ生成ユニット１０を備えている。 - 特許庁

To suppress abnormal discharge for improving the excitation efficiency of microwave plasma in a microwave plasma processing apparatus, having a radial slotted line antenna.例文帳に追加

ラジアルラインスロットアンテナを有するマイクロ波プラズマ処理装置において、異常放電を抑制し、マイクロ波プラズマの励起効率を向上させる。 - 特許庁

To obtain a plasma processing system in which the plasma density is made uniform easily and exactly while reducing the loss of high frequency energy.例文帳に追加

プラズマ処理装置において高周波エネルギーの損失を少なくしてプラズマ密度の均一化を容易に、しかも精確に行うこと。 - 特許庁

To provide a non-destructive and simple analytical method which allows in-situ monitoring of plasma damage during the plasma processing, such as, resist stripping.例文帳に追加

レジスト剥離などのプラズマ処理の際、プラズマ損傷の監視がその場(in situ)で可能な、非破壊で簡単な分析方法を提供する。 - 特許庁

As a result, plasma processing of stable process quality is performed with high efficiency.例文帳に追加

これにより、効率よくしかも安定した処理品質のプラズマ処理を行うことができる。 - 特許庁

This plasma processing apparatus comprises a meshed supporter for mounting, fixing, and conveying a porous material.例文帳に追加

多孔性素材を載置、固定又は搬送する多孔性支持体を有するプラズマ処理装置。 - 特許庁

To obtain a plasma processing apparatus which can prevent an inner surface of a container from wearing.例文帳に追加

容器の内面が損耗されることを防止し得るプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING SYSTEM AND METHOD, AND COMPUTER-READABLE STORAGE MEDIUM例文帳に追加

プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法、ならびにコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁

To provide an inductively coupled high frequency plasma reactor and method of processing a semiconductor wafer.例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマ・リアクタと半導体ウェハの処理方法とを提供する。 - 特許庁

The opening removes even an unobstructed-view passage for a light between the plasma cavity and the processing space.例文帳に追加

この開口は、プラズマ・キャビティと処理空間の間の光の見通し通路も無くする。 - 特許庁

To increase a throughput by reducing the transfer time of a substrate in a plasma processing system.例文帳に追加

プラズマ処理装置において、基板搬送時間の低減によるスループット向上を図る。 - 特許庁

Thus deposition of the copper sulfide produced during the plasma processing process can be suppressed.例文帳に追加

これによりプラズマ処理過程で生成した硫化銅の付着を抑制することができる。 - 特許庁

The openings also eliminates line-of-sight paths for light between the plasma cavity and processing space.例文帳に追加

この開口は、プラズマ・キャビティと処理空間の間の光の見通し通路も無くする。 - 特許庁

The element isolation region 16 is formed through exposure to CF_4 gas plasma and insulating processing.例文帳に追加

素子分離領域１６は、ＣＦ_4 ガスプラズマに晒して絶縁化させることで形成した。 - 特許庁

The plasma processing device includes the chamber 4 constituted of an outer chamber 11 and an inner chamber 12.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、アウターチャンバ１１とインナーチャンバ１２からなるチャンバ４を備える。 - 特許庁

To provide an inductively coupled high frequency plasma reactor and a method for processing a semiconductor wafer.例文帳に追加

誘導結合高周波プラズマ・リアクタと半導体ウェハの処理方法とを提供する。 - 特許庁

To improve the quality of plasma processing by correctly measuring the surface temperature of an electrode plate.例文帳に追加

電極板の表面温度を正確に測定して、プラズマ処理の品質を向上させる。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING EQUIPMENT, ITS USING METHOD, AND PROCESS FOR MANUFACTURING GAS SUPPLY PIPE PARTS例文帳に追加

プラズマ処理装置、プラズマ処理装置の使用方法およびガス供給管パーツの製造方法 - 特許庁

A plate member 30X is attached to the first electrode 11 of the plasma processing device M2.例文帳に追加

プラズマ処理装置Ｍ２の第１電極１１には、板部材３０Ｘが添えられている。 - 特許庁

To provide a plasma processing device which can process a fast semiconductor circuit at high yield.例文帳に追加

高速の半導体回路を高歩留まりで加工できるプラズマ処理装置の提供にある。 - 特許庁

HIGH-FREQUENCY POWER SUPPLY DEVICE, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR THIN FILM例文帳に追加

高周波電力供給装置、プラズマ処理装置、及び半導体薄膜の製造方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR INSPECTING VENT HOLES OF SILICON ELECTRODE PLATE FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

プラズマ処理装置用シリコン電極板の通気孔検査装置および通気孔検査方法 - 特許庁

After forming the hole injection electrode 2, a plasma processing of the hole injection electrode 2 is carried out.例文帳に追加

ホール注入電極２を形成した後、ホール注入電極２をプラズマ処理する。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND ITS CLEANING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

プラズマ処理装置、プラズマ処理装置のクリーニング方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a method and device by which the plasma processing of a semiconductor wafer can be controlled precisely.例文帳に追加

半導体ウェーハのプラズマ処理を精密に制御する方法及び装置に関する。 - 特許庁

This enables operation of the etching processing using lower power application for plasma generation.例文帳に追加

このため、プラズマ発生のため、低い電力を適用して、エッチング処理を行うことが出来る。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus that can uniformly process a workpiece.例文帳に追加

被処理体を均一にプラズマ処理することができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a matching circuit with a wide consistency range, and to provide a method and a device for plasma processing.例文帳に追加

整合可能範囲が広い整合回路、プラズマ処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a novel branch RF antenna for use in plasma material processing operation.例文帳に追加

プラズマ材料処理動作で使用するための新規の分岐ＲＦアンテナを提供する。 - 特許庁

To improve the uniformity of plasma processing conditions within a wafer plane and between wafers.例文帳に追加

ウエハ面内およびウエハ相互間のプラズマ処理状況の均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of depositing a high quality film efficiently.例文帳に追加

効率的に高品質な膜を成膜することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

Operation of the etching processing in a stable plasma region enables use of a timed etch end point.例文帳に追加

安定プラズマ領域でエッチング処理を行うと、時限エッチング終了点を使用できる。 - 特許庁

To provide a method of processing an organic film through plasma etching where damages to a base film are small.例文帳に追加

下地膜へのダメージが少ないプラズマエッチングによる有機膜加工方法を提供する。 - 特許庁

PROCESSING METHOD OF THIN FILM, MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM TRANSISTOR AND HIGH DENSITY PLASMA ETCHING DEVICE例文帳に追加

薄膜の加工方法と薄膜トランジスタの製造方法および高密度プラズマエッチング装置 - 特許庁

The preprocessing step and film forming step are carried out through low-frequency plasma processing.例文帳に追加

これらの前処理工程および成膜工程は低周波プラズマ処理により行う。 - 特許庁

The plasma processing system further comprises an electrode 152 disposed at the lower end of the process chamber.例文帳に追加

プラズマ処理システムは、さらに、処理チャンバの下端に配置された電極１５２を備える。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND MAINTENANCE METHOD AND ASSEMBLING METHOD OF THE SAME例文帳に追加

プラズマ処理装置、プラズマ処理装置のメンテナンス方法及びプラズマ処理装置の組み立て方法 - 特許庁

In the removing method of the contaminant in the plasma processor where a prescribed plasma processing is performed on a workpiece W in the vacuumed processing container 4, the plasma processing for removing contaminant is performed by using a substrate where a silicon oxide film is formed on a surface.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器４内にて被処理体Ｗに対して所定のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置の汚染物の除去方法において、表面にシリコン酸化膜が形成された基板を用いて汚染除去用のプラズマ処理を行う。 - 特許庁

PLASMA DISPLAY PANEL LIGHTING STABILIZATION PROCESSING DEVICE, AND LIGHTING CIRCUIT USED BY THE SAME例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの点灯安定化処理装置およびそれに用いられる点灯用回路 - 特許庁

To perform uniform processing by generating uniform plasma with microwaves.例文帳に追加

マイクロ波により一様なプラズマを発生させることで均一な処理ができるようにする。 - 特許庁

Thereby, the stability of the density of plasma generated in a processing chamber 2 can be enhanced.例文帳に追加

このため、処理室２に生成されるプラズマの密度の安定性を高めることができる。 - 特許庁

MATERIAL HANDLING SYSTEM FOR PLASMA PROCESSING SYSTEM OF MULTIPLE WORK PIECE AND METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

複数の工作物のプラズマ処理システムのための材料ハンドリングシステムとその方法 - 特許庁

SEPARATION METHOD FOR ALUMINUM CHASSIS OF PLASMA DISPLAY PANEL FROM GLASS PANEL, AND PROCESSING METHOD AFTER SEPARATION例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルのアルミシャーシとガラスパネルの分離方法及びその分離後の処理方法 - 特許庁