「processing chamber」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

VACUUM CHAMBER, LOAD LOCK CHAMBER, AND PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

真空チャンバ、ロードロックチャンバ、及び処理装置 - 特許庁

SUSCEPTOR FOR PLASMA PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

プラズマ処理チャンバ用のサセプタ - 特許庁

In a washing tank 26, a 1st processing chamber, a 2nd processing chamber, a 3rd processing chamber, a 4th processing chamber, and a 5th processing chamber which are independent are formed.例文帳に追加

水洗槽２６の内部には、夫々独立した第１処理室、第２処理室、第３処理室、第４処理室及び第５処理室が形成されている。 - 特許庁

LOAD LOCK CHAMBER, PROCESSING SYSTEM, AND PROCESSING METHOD例文帳に追加

ロードロック室、処理システム及び処理方法 - 特許庁

The chamber 2 may include a mixing chamber and a processing chamber.例文帳に追加

チャンバ２は混合室と処理室を有するようにしてもよい。 - 特許庁

COOLING MECHANISM, PROCESSING CHAMBER, COMPONENT IN PROCESSING CHAMBER, AND COOLING METHOD例文帳に追加

冷却機構、処理室、処理室内部品及び冷却方法 - 特許庁

GAS-SEALING MECHANISM WITHIN PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

処理室内のガス封止機構 - 特許庁

SEALING STRUCTURE FOR PROCESSING CHAMBER DEVICE例文帳に追加

処理チャンバ装置のシール構造 - 特許庁

Thereafter, the substrate is carried into a processing chamber from the load lock chamber and is processed in the processing chamber.例文帳に追加

その後、基板はロードロック室から処理室に搬送され、処理室の中で処理される。 - 特許庁

LAMP FOR RAPID THERMAL PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

急速熱処理チャンバ用のランプ - 特許庁

DUAL-CHAMBER PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

デュアル反応チャンバプラズマ処理装置 - 特許庁

A plasma processing chamber having a chamber wall is provided.例文帳に追加

チャンバ壁を持つプラズマ処理チャンバが提供される。 - 特許庁

LOAD LOCK CHAMBER FOR VACUUM PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

真空処理装置用ロードロック室 - 特許庁

SURFACE STRUCTURE FOR VACUUM PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

真空処理室用表面構造 - 特許庁

The substrate is transferred from the first processing chamber to a second processing chamber.例文帳に追加

該基板は、該第１の処理チャンバから第２の処理チャンバへ移送される。 - 特許庁

INNER WALL OF PROCESSING CHAMBER FOR PLASMA APPARATUS FOR THIN FILM PROCESSING例文帳に追加

薄膜加工用プラズマ装置加工室内壁 - 特許庁

MULTIPURPOSE PROCESSING CHAMBER HAVING REMOVABLE CHAMBER LINER例文帳に追加

取外し可能なチャンバライナーを有する多目的処理チャンバ - 特許庁

VACUUM CHAMBER FOR VACUUM PROCESSING APPARATUS例文帳に追加

真空処理装置用真空チャンバー - 特許庁

The vacuum processing device is provided with a load lock chamber 3, a conveyance chamber 4, a processing chamber 5, and further a middle passage 102 used as a sealing space between the conveyance chamber 4 and the processing chamber 5.例文帳に追加

ロードロック室３、搬送室４、処理室５、搬送室４と処理室５との間には密閉空間となる中間通路１０２を備えている。 - 特許庁

RING ASSEMBLY FOR SUBSTRATE PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

基板処理チャンバのためのリングアセンブリ - 特許庁

APPARATUS FOR PROCESSING SUBSTRATE AND TRANSFER CHAMBER例文帳に追加

基板処理装置及び経由チャンバー - 特許庁

An inner wall of the processing chamber 11 is heated by a processing chamber heater unit 50.例文帳に追加

処理室１１の内壁は、処理室ヒータユニット５０によって加熱される。 - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND CLEANING METHOD IN PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

基板処理装置および処理室内洗浄方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING CHAMBER AND BAFFLE PLATE ASSEMBLY例文帳に追加

プラズマ処理室及びバッフル板アセンブリ - 特許庁

SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS INCLUDING VACUUM CHAMBER例文帳に追加

真空室を有する基板処理装置 - 特許庁

DOOR DEVICE FOR WORK OF BLAST PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

ブラスト加工室のワーク用扉装置 - 特許庁

PROCESSING METHOD FOR SUBSTRATE, AND THERMOSTATIC CHAMBER例文帳に追加

基板の処理方法及び恒温室 - 特許庁

VACUUM CHAMBER AND VACUUM PROCESSING DEVICE例文帳に追加

真空チャンバおよび真空処理装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND PROCESSING CHAMBER INNER WALL SURFACE STABILIZING PROCESSING METHOD例文帳に追加

プラズマ処理装置および処理室内壁面安定化処理方法 - 特許庁

PRESSURE CONTROL DEVICE OF DEPRESSURIZED PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

減圧処理室の圧力制御装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING EQUIPMENT AND PLASMA GENERATION CHAMBER例文帳に追加

プラズマ処理装置及びプラズマ生成室 - 特許庁

WAFER TRANSFER EQUIPMENT FOR TRANSFERRING WAFER TO PROCESSING CHAMBER OR FROM PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

加工チャンバにまたは加工チャンバからウェーハを移送するためのウェーハ搬送装置 - 特許庁

MOVABLE GROUND RING FOR PLASMA PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

プラズマ処理チャンバ用の可動接地リング - 特許庁

MULTIPLE PROCESSING CHAMBER SET AND USE THEREOF例文帳に追加

複数処理チャンバセットおよびその使用 - 特許庁

The processing fluid is supplied to a processing chamber.例文帳に追加

そして、この処理流体を処理チャンバーに供給する。 - 特許庁

The heat processing chamber 102 includes a heat processing part 106.例文帳に追加

加熱処理室１０２は加熱処理部１０６を含む。 - 特許庁

CHAMBER EQUIPMENT FOR ELECTRON BEAM PROCESSING DEVICE例文帳に追加

電子ビーム処理装置用のチャンバー設備 - 特許庁

VACUUM REACTION CHAMBER AND ITS PROCESSING METHOD例文帳に追加

真空反応室及びその処理方法 - 特許庁

The processing chamber is supplied with coating gas and the inside of the processing chamber is coated.例文帳に追加

処理室内部は、処理室にコーティング用ガスが供給されてコーティングされる。 - 特許庁

In another embodiment, the chamber is one of a chemical vapor deposition chamber, a load lock chamber, a metrology chamber, a thermal processing chamber, or a physical vapor deposition chamber, a load lock chamber, a substrate transfer chamber or a vacuum chamber.例文帳に追加

他の実施形態において、チャンバは、化学気相成長チャンバ、ロードロックチャンバ、計測チャンバ、熱処理チャンバ、又は物理気相成長チャンバ、ロードロックチャンバ、基板搬送チャンバ、又は真空チャンバの１つである。 - 特許庁

The plasma processing device includes the chamber 4 constituted of an outer chamber 11 and an inner chamber 12.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、アウターチャンバ１１とインナーチャンバ１２からなるチャンバ４を備える。 - 特許庁

The vacuum processing apparatus 10 has a loading/unloading chamber 11, a preliminarily heating chamber 12, and a processing chamber 13.例文帳に追加

真空処理装置１０は、ロード／アンロード室１１、真空予備加熱室１２および処理室１３を備える。 - 特許庁

To prevent gas supplied into a processing chamber from entering a gap on the outside of the processing chamber.例文帳に追加

処理室内に供給したガスの処理室外の間隙への進入を抑制する。 - 特許庁

CHAMBER, VACUUM PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE TRANSFER METHOD例文帳に追加

チャンバ、真空処理装置、基板移載方法 - 特許庁

PROCESSING CHAMBER FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION PROCESS例文帳に追加

原子層成長プロセスのための処理チャンバ - 特許庁