「processing chamber」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve the quality of board processing by removing harmful matter adhering to the walls of an airtight chamber such as a load lock chamber, a carrying chamber and a processing chamber.例文帳に追加

ロードロック室、搬送室、処理室等気密室の壁面に付着した有害物質を除去し、基板処理の品質を向上する。 - 特許庁

The wafer delivery apparatus is installed outside the processing chamber, and is prevented from being carried into the processing chamber so that the processing chamber is restrained from being contaminated thereinside.例文帳に追加

ウエハ授受装置は処理室外に設置され、処理室内に搬入されないために、処理室内が汚染されるのを防止できる。 - 特許庁

This is a scanning wheel for ion implantation processing chamber.例文帳に追加

イオン注入装置用スキャン・ホイールである。 - 特許庁

A chamber (34) communicates with the processing space (22).例文帳に追加

室（３４）がプロセス空間（２２）と連通する。 - 特許庁

A 1st subtank 100 is connected to the 1st processing chamber, a 2nd subtank 102 to the 2nd processing chamber, a 3rd subtank 104 to the 3rd processing chamber, a 4th subtank 106 to the 4th processing chamber 106, and a 5th subtank 108 to the 5th processing chamber.例文帳に追加

第１処理室には第１サブタンク１００、第２処理室には第２サブタンク１０２、第３処理室には第３サブタンク１０４、第４処理室には第４サブタンク１０６、第５処理室には第５サブタンク１０８が連結されている。 - 特許庁

A Sabatier reaction chamber 20 is stored inside a processing chamber 3.例文帳に追加

処理室３の内部にはサバティエ反応室２０が収容されている。 - 特許庁

The mixing chamber and the processing chamber are formed by a partition for partitioning the chamber 2 into two upper and lower chambers.例文帳に追加

混合室、処理室はチャンバ２を上下二つの室に区画する仕切りによって成る。 - 特許庁

A processing chamber is seasoned by providing a flow of season precursors to the processing chamber.例文帳に追加

処理チャンバは、シーズン前駆体流を該処理チャンバに提供することによってシーズニングされる。 - 特許庁

To provide a processing chamber having a high conductance and a method of manufacturing the processing chamber.例文帳に追加

高いコンダクタンスを有する処理チャンバ及び当該処理チャンバの製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF CONTROLLING PARTICLE AND PLASMA PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

パーティクル制御方法及びプラズマ処理チャンバー - 特許庁

The apparatus is provided with a processing chamber 1 for executing processing using the processing liquid for a wafer W, and a processing liquid cabinet 2 for supplying the processing liquid to the processing chamber 1.例文帳に追加

ウエハＷに対して処理液による処理を実施するための処理室１と、この処理室１に処理液を供給するための処理液キャビネット２とを備えている。 - 特許庁

A processing gas is introduced into the processing chamber, and a plasma is formed from the processing gas.例文帳に追加

処理ガスは、処理チャンバ内に導入され、プラズマが処理ガスから形成される。 - 特許庁

A processing gas is introduced into the processing chamber, and a plasma is formed from the processing gas.例文帳に追加

処理ガスは、処理チャンバ内に導入され、プラズマが処理ガスから形成される。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING CHAMBER, PLASMA REACTOR, ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA PROCESSING SYSTEM AND PLASMA PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

プラズマ処理チャンバ、プラズマ反応器、大気圧プラズマ処理システム及びプラズマ処理システム - 特許庁

The plasma processing device includes: a processing chamber 1 for processing a processing object 2; a plasma generation chamber 11 for generating plasma by a process gas to extract a radical component; and a transport chamber 21 for transporting the radical component to the processing chamber 1.例文帳に追加

被処理体２を処理するための処理室１と、プロセスガスによりプラズマを生成しラジカル成分を抽出するためのプラズマ生成室１１と、そのラジカル成分を処理室１に輸送する輸送室２１を備える。 - 特許庁

The substrate processing module consists of a process chamber PM and a vacuum lock chamber VL.例文帳に追加

基板処理モジュールは、プロセスチャンバＰＭとバキュームロックチャンバＶＬとからなる。 - 特許庁

The induction coupled plasma processing chamber has a chamber having an upper wall.例文帳に追加

誘導結合型プラズマ処理チャンバは、上壁を有するチャンバを備えている。 - 特許庁

To obtain a processing system comprising a processing chamber and a gas source being coupled with the processing chamber in order to supply gas thereto.例文帳に追加

処理チャンバ、およびそこへガスを供給するために処理チャンバへ結合されるガスのソースを含む処理システム - 特許庁

To sufficiently perform heating according to processing before gas to be supplied to a processing chamber is supplied to the processing chamber.例文帳に追加

処理室に供給するガスを処理室に供給する前に、処理に応じて充分に加熱できるようにする。 - 特許庁

CHAMBER INNER WALL PROTECTING MEMBER AND PLASMA PROCESSING EQUIPMENT例文帳に追加

チャンバー内壁保護部材及びプラズマ処理装置 - 特許庁

REMOTE PLASMA CLEANING METHOD FOR PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

処理チャンバのための遠隔式プラズマクリーニング方法 - 特許庁

PROCESS KIT AND TARGET FOR SUBSTRATE PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

基板処理チャンバのためのプロセスキット及びターゲット - 特許庁

DEVICE FOR SAVING ENERGY IN PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

処理チャンバ内でエネルギーを節約するための装置 - 特許庁

To provide an induction coupled plasma processing chamber.例文帳に追加

誘導結合型プラズマ処理チャンバを提供する。 - 特許庁

In the semiconductor workpiece processing system including the loadlock chamber, the transfer chamber and one or more processing chambers, the transfer chamber provided with a transfer device is positioned between the loadlock chamber and the processing chamber provided so as to surround the transfer chamber.例文帳に追加

ロードロック室と、移載室と、一つ或いは複数の処理チャンバとを含む半導体ワークピース処理システムにおいて、移載装置を備える移載室が、ロードロック室と移載室を囲んで設けられている処理チャンバとの間に位置する。 - 特許庁

A first processing chamber 10, a second processing chamber 20 and a third processing chamber 30 are laminated in this order from the bottom side, in a housing space inside of a housing 2.例文帳に追加

ハウジング２の内部の収容空間に、第１処理チャンバ１０、第２処理チャンバ２０および第３処理チャンバ３０が、下方から順に積層されている。 - 特許庁

In one aspect, the processing chamber is adapted to allow the conductive member to be removed from the processing chamber without removing any major components from the processing chamber.例文帳に追加

１の態様において、処理チャンバは、処理チャンバから大型の要素を取り外さなくても、導電部材を処理チャンバから取り出せるようになされている。 - 特許庁

To provide a vacuum processing apparatus and a vacuum processing method for downsizing vacuum chamber and processing only a required part of a substrate.例文帳に追加

真空チャンバを小型にするとともに、必要な部分だけの処理を可能とする。 - 特許庁

In this case, no robot is provided to the processing module, and the wafers are transferred to the processing chamber or to the cooling chamber or from the processing chamber to the cooling chamber by the robot provided to the wafer transfer module.例文帳に追加

但し、プロセス・モジュールでは、ロボットを設けず、ウェーハ搬送モジュールのロボットによって、ウェーハを処理室、冷却室に搬送する、或いは処理室から冷却室に搬送する。 - 特許庁

The load lock chamber 2, the processing chamber 1, and the unload lock chamber can be evacuated, and the carrier chamber can have an airtight structure.例文帳に追加

ロードロック室２、処理室１、アンロードロック室は真空排気可能であり搬送室を密閉構造とすることが可能である。 - 特許庁

To improve maintenability inside a vacuum processing chamber of a vacuum processing apparatus.例文帳に追加

真空処理装置の真空処理室内部のメンテナンス性を改善する。 - 特許庁

A preliminary processing chamber 120 is positioned in the upper part of a vacuum transfer chamber 102 of a processing apparatus 100.例文帳に追加

処理装置１００の真空搬送室１０２の上部には，予備処理室１２０が配置される。 - 特許庁

To stably support a wafer in a processing chamber electrostatically.例文帳に追加

処理チャンバ内にウェハを安定に静電支持する。 - 特許庁

LOAD LOCK CHAMBER FOR LARGE AREA SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM例文帳に追加

大面積基板処理システムのためのロードロックチャンバ - 特許庁

Oxygen gas is introduced into the processing chamber (step S11).例文帳に追加

処理室に酸素ガスを導入する（ステップＳ１１）。 - 特許庁

Thereafter, a halogen scavenger is flowed to the substrate processing chamber to react with residual halogen in the substrate processing chamber.例文帳に追加

この後、ハロゲンスカベンジャーが該基板処理チャンバに流されて、該基板処理チャンバで残渣ハロゲンと反応する。 - 特許庁

METHOD OF GUIDING GAS FLOW IN SUBSTRATE PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

基板プロセス・チャンバ内のガスの流れを導く方法 - 特許庁

Reaction gas is introduced into the processing chamber 10.例文帳に追加

処理チャンバー１０内に反応ガスを導入する。 - 特許庁

ELECTROSTATIC SUPPORT SYSTEM FOR SUPPORTING WAFER IN PROCESSING CHAMBER例文帳に追加

処理チャンバ内にウェハを支持する静電支持システム - 特許庁

The third processing chamber 30 is laminated above the second processing chamber 20 with a second lid 21 between.例文帳に追加

第２処理チャンバ２０の上方には、第２蓋２１を介して、第３処理チャンバ３０が積層されている。 - 特許庁

SUBSTRATE HEATING DEVICE AND MULTI CHAMBER SUBSTRATE PROCESSING DEVICE例文帳に追加

基板加熱装置及びマルチチャンバー基板処理装置 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS, CHAMBER INTERNAL PART, AND METHOD OF DETECTING LONGEVITY OF CHAMBER INTERNAL PART例文帳に追加

プラズマ処理装置、チャンバ内部品及びチャンバ内部品の寿命検出方法 - 特許庁

The substrate processing system comprises a processing furnace 28 having a chamber 88 for processing a substrate 36, a means for supplying gas to the processing chamber 88, and a means 92 for heating the processing chamber.例文帳に追加

基板処理装置の処理炉２８は、基板３６を処理する処理室８８と、この処理室８８にガスを供給するガス供給手段と、処理室を加熱する加熱手段９２とを有する。 - 特許庁

A processing system, based on previously loaded plasma, is provided with a preliminary reaction plasma processing chamber, a power source connected to the preliminary reaction plasma processing chamber so as to drive the chamber and a wafer plasma processing chamber connected to the preliminary reaction plasma processing chamber through fluid.例文帳に追加

事前ロードしたプラズマに基づく処理システムは、予備反応プラズマ処理チャンバと、この予備反応プラズマ処理チャンバと動作可能に連通して配置された電力源と、予備反応プラズマ処理チャンバと流体連通して配置されたウエハプラズマ処理チャンバとを具備する。 - 特許庁

The plasma processing apparatus is provided with a processing chamber 100 which can be evacuated, and a first electrode (a high frequency electrode) arranged inside the processing chamber.例文帳に追加

真空排気可能な処理室１００、処理室内に配置された第１の電極（高周波電極）１０を具備する。 - 特許庁