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raを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 2467



例文

At this time, the consumption power is reduced by fully increasing the impedance of the resistor Ra.例文帳に追加

このとき、抵抗Raのインピーダンスを十分大きなものとして、その消費電力が小さくなるようにする。 - 特許庁

The transparent conductive film is formed on color filter pixels 3 which have their surfaces polished almost to 1.7 nm center line mean roughness (Ra).例文帳に追加

透明導電膜が、中心線平均粗さ(Ra)1.7nm近くまで表面を研磨したカラーフィルタ画素3上に形成されたこと。 - 特許庁

Surface roughnesses Ra of the PFA sheet and the PFA laminated polyimide sheet are respectively 0.01-0.05 μm and 0.7-0.8 μm therein.例文帳に追加

ここで、PFAシートおよびPFA積層ポリイミドシートの、夫々の表面粗さRaは、0.01〜0.05μm、0.7〜0.8μmである。 - 特許庁

A circumscribed circle Ra of diameter D1 and a core diameter circle Rb are formed by the rotating locus of the cutting edges 17 and an inscribed circle of diameter D2 inscribed on the bottom face 22, respectively.例文帳に追加

切刃17の回転軌跡で径D1の外接円Raを、底面22で内接する径D2の内接円で心厚円Rbを形成する。 - 特許庁

例文

The arithmetic mean roughness Ra of the embossing plate is 0.3 to 1.0 μm, the mean ruggedness period is 5 to 30 μm, and the Vickers hardness is 500 to 1,000 Hv.例文帳に追加

その算術平均粗さRaは0.3〜1.0μm、平均凹凸周期は5〜30μm、ビッカース硬度は500〜1000Hvである。 - 特許庁


例文

Continuously, the deviation in angles with respect to the optical axis of the lens 2 is corrected by rotating the base 4A in the radial direction Ra.例文帳に追加

引き続いて、ダンパベース4Aをラジアル方向Raに回転させて、対物レンズの光軸に対する角度ずれを修正する。 - 特許庁

Furthermore, into the power- conducting path of the heater is arranged relays RA 3, RB 4 selectively connecting the heater circuit to the power supply or the wall of the warehouse.例文帳に追加

また、ヒータ7の通電経路に、ヒータ回路を電源と庫壁とに選択的に接続するリレーRA3,RB4を設ける。 - 特許庁

The angle of the chamfer honing is -15° to 60° and a surface roughness Ra of the chamfer honing portion is 0.05 μm to 10 μm.例文帳に追加

チャンファホーニングの角度は−15〜60°とし、チャンファホーニング部の面粗さRaは0.05μm以上10μm以下とする。 - 特許庁

A surface roughness is set 0.3-2.0 μm in terms of Ra, so as to hold the toner of required amount.例文帳に追加

表面粗さはRaで0.3〜2.0μmに設定し、必要量のトナーを表面に保持できるようにする。 - 特許庁

例文

A sheet stock 1 consists of an aluminum alloy containing 2.0 to 6.0 mass% Mg and having surface roughness of 0.1 to 2 μm by Ra.例文帳に追加

素板1は、Mg含有量が2.0乃至6.0質量%、表面粗度がRaで0.1乃至2μmのアルミニウム合金からなる。 - 特許庁

例文

The arithmetic average roughness Ra of the surface of the high polymer film opposed to the toner carrier 12 is 0.01-2μm.例文帳に追加

高分子フィルムのトナー担持体12に対向する表面の算術平均粗さRaは0.01μm〜2μmである。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the thermoplastic resin film is pref. 0.20 μm or less and a thermoplastic resin is based on a polyester compsn.例文帳に追加

好ましくは熱可塑性樹脂皮膜の表面粗度Raが0.20μm以下で、熱可塑性樹脂がポリエステル組成物主体である。 - 特許庁

Unevenness 50 where Ra is 0.2-0.6 μm and Sm is 0.02-0.3 mm is formed throughout all the surfaces of the spacers.例文帳に追加

スペーサの表面全体に渡り、Raが0.2〜0.6μm、Smが0.02〜0.3mmの凹凸50が形成されている。 - 特許庁

(1) The surface with which the ground metal layer of the polyethylene naphthalate film is brought into contact has a mean roughness (Ra) at the central line of 0.5-4 nm.例文帳に追加

(1)前記ポリエチレンナフタレート系フィルムの下地金属層が接する表面は、その中心線平均粗さ(Ra)が0.5〜4nmである。 - 特許庁

The polytetrafluoroethylene powder is characterized in that the surface roughness Ra of a molded product a1 for determination is less than 0.92 μm.例文帳に追加

測定用成形体a1の表面粗度Raが0.92μm未満であることを特徴とするポリテトラフルオロエチレン粉末。 - 特許庁

Surface roughness Ra of the varistor element is desirable to be 0.06 μm to 0.11 μm.例文帳に追加

さらに、バリスタ素体の表面粗さRaが0.06μm以上0.11μm以下であることが好ましい。 - 特許庁

Therefore, the signals of the surface roughness cancellation are realized by normalizing the signals of V(a) and V(b) by Ra and Rb and subtracting each other.例文帳に追加

よって、V(a)とV(b)の信号をそれぞれRa、Rbで正規化して差し引くことにより、表面粗さの信号をキャンセルことを考える。 - 特許庁

An interpolator 460 generates a parameter PAA by interpolating a parameter PA for controlling sound quality etc., according to the rate control signal RA.例文帳に追加

補間器460は、レート制御信号RAに従い、音質等を制御するためのパラメータPAを補間してパラメータPAAを生成する。 - 特許庁

The surface roughness of the wall surfaces of the drainage grooves 10 is an arithmetic mean roughness (Ra) of2.0 μm defined by Japan Industrial Standard (JIS).例文帳に追加

排水溝10の壁面の表面粗さは、日本工業規格で規定する算術平均粗さ(Ra)で、2.0μm以下である。 - 特許庁

The tip 30 is equipped with the ball 50 and a holder 60 and the ball 50 is formed so that its surface roughness Ra is 0.010-0.080 μm.例文帳に追加

チップ20は、ボール50とホルダー60とを備え、ボール50は、その表面粗さRaを、0.010μm以上0.080μm以下に形成される。 - 特許庁

Average tilt angle θa on the surface is 0.2° to 1.5° and the arithmetic average roughness Ra is 0.05 to 0.4.例文帳に追加

表面における平均傾斜角θaが0.2°〜1.5°であり、かつ、算術平均粗さRaが0.05〜0.4である。 - 特許庁

Note that the average surface roughness Ra is measured by scanning an area of 10 μmx10 μm employing an interatomic force microscope (an AFM).例文帳に追加

ここで、平均表面粗さRaは、原子間力顕微鏡(AFM)を用いて、10μm×10μmの範囲を走査して測定されたものである。 - 特許庁

To provide a magnetoresistance effect-type element capable of having a high TMR ratio by a low area resistance (RA) and capable of performing the writing with a low current.例文帳に追加

低い面積抵抗(RA)で高いTMR比を有することができるとともに、低電流での情報の書き込みを行うことを可能にする。 - 特許庁

The apparatus of exhaust gas comprises a reactor 110 having formed fluidizing beds S1-S3 having plural areas Ra-Rf.例文帳に追加

本発明による排ガス処理装置は、複数の領域Ra〜Rfを有する流動層S1〜S3が形成された反応塔110を備える。 - 特許庁

The surface roughness (center line average roughness Ra) is 0.01-0.50 μm on the tape face 1a on the side unevenly distributed with the inorganic filler 2.例文帳に追加

無機フィラー2が偏在している側のテープ面1aの表面粗度(中心線平均粗さRa)は0.01〜0.50μmである。 - 特許庁

The pad side shim 2 has a smooth face 2b coming into contact with the pressing member side shim 3 and having average surface roughness Ra of 0.5 or less.例文帳に追加

そしてパッド側シム2は、押圧部材側シム3に接触しかつ平均面粗さRaが0.5以下の平滑面2bを有している。 - 特許庁

(II) From S point to a fixed resistor Ra (12)- a silicon control rectifying element SCR (14) anode A, cathode B- AC 2 are connected in series.例文帳に追加

(ロ)S点から固定抵抗Ra(12)→シリコン制御整流素子SCR(14)アノードA,カソードK→AC2を直列に接続しておく。 - 特許庁

The surface roughness of the roll is 5 μm Ra and 30 μm Rz or above and the friction coefficient is 0.22 or above.例文帳に追加

その表面粗さは5μmRa、30μm Rz以上であり、摩擦係数では0.22以上である。 - 特許庁

It is preferable that the secondary side resistance Ra of the secondary coil 1ws be nearly equalized to the secondary reactance Xa.例文帳に追加

2次コイル1wsの2次側抵抗値Raを2次リアクタンスXaにほぼ等しくすることが望ましい。 - 特許庁

An NSP information option containing the IPv6 address of an NSP edge router and an NSP name is defined in RA messages.例文帳に追加

RAメッセージ内で、NSPエッジルータのIPv6アドレスおよびNSP名を含むNSP情報オプションが定義される。 - 特許庁

On the other hand, the density filter 55 is oscillated when the pattern of each master reticle RA-RD is exposed onto the photosensitive substrate.例文帳に追加

これと共に、各マスターレチクルRA〜RDのパターンを感光基板上に露光する際に、濃度フィルタ55を振動させる。 - 特許庁

Here, a shape parameter Ra^4/La of the blowing outlet 3a is smaller than a shape parameter Rb^4/Lb of the suction inlet 3b.例文帳に追加

ここで吹き出し口3aの形状パラメタRa^4/Laは、吸い込み口3bの形状パラメタRb^4/Lbよりも小さい。 - 特許庁

The certification agency(CA) selects and executes a signature system corresponding to a registration agency(RA).例文帳に追加

認証局(CA)は、登録局(RA)に対応する署名方式に従って署名方式を選択して実行する。 - 特許庁

A mobile node MN converts the third address RA#2 of the destination mobile communication terminal MT#2 into the first address HoA of the destination mobile communication terminal MT#2.例文帳に追加

モバイルノードMNが、宛先移動通信端末MT#2の第3のアドレスRA#2を、宛先移動通信端末MT#2の第1のアドレスHoAに変換する。 - 特許庁

Thus, a customer uses the shopping bag or the like hung on the bag hanging rack RA instead of the shopping basket and shopping is facilitated.例文帳に追加

これにより、客は、この袋掛けラックRAに掛けられたレジ袋等を買い物カゴ代わりに利用し、スムーズな買い物を行うことが可能となる。 - 特許庁

The glass substrate for a magnetic disk has a conductive film having 0.1 to 1.5 nm average surface roughness (Ra) on a glass plate.例文帳に追加

ガラス板上に平均表面粗さ(R_a )が、0. 1〜1.5nmである導電性膜を有する磁気ディスク用ガラス基板。 - 特許庁

Further, a portion combined with the encoder 4 is set to have a rough surface with approximately 1.0 to 1.5 Ra so as to secure combination strength.例文帳に追加

これに対して、上記エンコーダ4を結合する部分を1.0〜1.5Ra程度の粗面として、上記結合強度を確保する。 - 特許庁

If a search target T enters a designated area frame Ra on the normal light image 205, a lock-on switch SW is pressed.例文帳に追加

通常光画像205上の指定領域枠Ra内に検索対象Tが入ると、ロックオンSWが押圧される。 - 特許庁

The surface roughnesses Ra of the raceway surfaces 1a, 2a subjected to these treatment are between 0.01 μm and 0.07 μm.例文帳に追加

これらの処理が施された軌道面1a,2aの表面粗さRaは、0.01μm以上0.07μm以下である。 - 特許庁

The thermoplastic resin sheet with an average thickness of 0.05-0.3 mm and an average surface roughness (Ra) of 0.15 μm or less is especially preferable.例文帳に追加

特にその平均厚さが0.05〜0.3mmで、平均表面粗さ(Ra)が0.15μm以下である熱可塑性樹脂シートが好ましい。 - 特許庁

The arithmetic average roughness Ra of the inside face of the recess part storing the semiconductor element 2 is 0.05-0.4 μm.例文帳に追加

半導体素子2を収容する凹部の内側面4の算術平均粗さRaが0.05〜0.4μmである。 - 特許庁

A current limiting resistance RA of the bypass path 7 limits the current returned to the rectifier 5 to a current low enough not to damage the rectifier 5.例文帳に追加

バイパス電路7の電流制限抵抗RAは、整流器5に還流する電流を整流器5が破損しない小さい電流に制限する。 - 特許庁

An annunciator 10 measures a sound pressure level of background noise in rooms RA and RB by microphones 20A and 20B.例文帳に追加

報知装置10は、マイクロホン20A,20Bにより部屋RA,RBにおける暗騒音の音圧レベルを求める。 - 特許庁

(2) Roughness of a surface (Ra), on which the insulator layer of the first ferromagnetic body layer is formed, is made to be ≤2.5.例文帳に追加

(2)第一の強磁性体層の絶縁体層を形成させる面の粗さを、Raにて2.5 以下とする上記素子の製造方法。 - 特許庁

(2) Roughness of a surface (Ra), on which the insulator layer of the first ferromagnetic body layer is formed, is made to be2.5 Å.例文帳に追加

(2)第一の強磁性体層の絶縁体層を形成させる面の粗さを、Raにて2.5Å以下とする上記素子の製造方法。 - 特許庁

A plane formed by connecting the peaks of the ribs Ra is determined by processing the distance data of the measured result to detect the waviness of the substrate K.例文帳に追加

そして、その測定結果の距離データを処理してリブRaの頂点を結ぶ面を求め、これによって基板Kのうねりを検出する。 - 特許庁

Also, the resistance value of the second feedback resistor Ra is set smaller than that of the first feedback resistor Rb.例文帳に追加

また、この第2帰還抵抗Raの抵抗値は第1帰還抵抗Rbよりも小さく設定されている。 - 特許庁

The rate converter 45 reflects the level signal LV and converts a rate control signal R into a rate control signal RA.例文帳に追加

レート変換器450は、レベル信号LVを反映させてレート制御信号Rをレート制御信号RAに変換する。 - 特許庁

An inner peripheral edge 15a of a grinding surface 15 is projected to the outside in the diametrical direction as a circular arc of a radius ra smaller than a circumference R1.例文帳に追加

研削面15の内周縁15aを円周R1より小さい半径raの円弧として径方向外側に突出させる。 - 特許庁

例文

The cleaning layer has an uneven shape having an arithmetic average roughness Ra of 0.05 μm or less and a maximum height Rz of 1.0 μm or less.例文帳に追加

クリーニング層は、算術平均粗さRaが0.05μm以下であり、かつ、最大高さRzが1.0μm以下である凹凸形状を有する。 - 特許庁

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