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raを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 2467



例文

Moreover, after the roughening treatment, the surface roughness in a direction orthogonal to the rolling direction and in the parallel direction with the rolling direction is Ra≥0.4 μm.例文帳に追加

また、粗化処理後、圧延直角方向及び圧延平行方向の表面粗さがRa≧0.4μmであることを特徴とする。 - 特許庁

The indoor units 2a-2c are installed within a building RA as an air conditioning target and perform air conditioning operation.例文帳に追加

室内機2a〜2cは、空調対象空間である建物RA内に対し設置され、空調運転を行う。 - 特許庁

The metallic material for a wiring connection fixture has an average roughness Ra of ≤0.3 μm and a maximum roughness Rt of2.0 μm.例文帳に追加

平均粗さRaが0.3μm以下で、かつ、最大粗さRtが2.0μm以下である配線接続器具用金属材。 - 特許庁

The glass decorative layer 3 consists of a glass composition and has a thickness of 0.5-15 μm and a surface roughness Ra of ≤1.5 μm.例文帳に追加

ガラス装飾層3は、ガラス組成物からなり、厚みが0.5〜15μmであると共に、表面粗さRaが1.5μm以下である。 - 特許庁

例文

In the rolling slide surface (raceway surface) 1a, center line surface roughness (Ra) is set in a range of 0.02-0.2 μm.例文帳に追加

そして、この転がり摺動面(軌道面)1aは、その中心線表面粗さ(Ra)を0.02〜0.2μmの範囲内に設定した。 - 特許庁


例文

Pilot symbols ps_1, ..., ps_M of reception data ra are extracted by PS extraction sections 42_1, ..., 42_M in a distortion compensation means (e.g., data radio unit 28).例文帳に追加

歪み補償手段(たとえば、データ無線部28)では、PS抽出部42_1 ,…,42_M で受信データraのパイロットシンボルps_1 ,…,ps_M が抽出される。 - 特許庁

The surface hardness of the track surfaces 2a and 3a of the inner and outer rings 2 and 3 is Hv 720 or higher and the surface roughness thereof is Ra 0.015μm or higher.例文帳に追加

内外両輪2、3の軌道面2a、3aの表面硬さをHv720以上とし、表面粗さをRa0.015μm以下とする。 - 特許庁

By such a structure, RA can be suppressed to a small value and the rate of the change of the resistance valueR/R) can be made high compared with a prior art.例文帳に追加

これにより、従来に比べてRAを小さく抑えつつ抵抗変化率(ΔR/R)を高くすることが可能となる。 - 特許庁

The pneumatic pulverizer 2 manufactures the powder by pulverizing and primarily classifying raw material while pneumatically conveying it by rotating air stream RA.例文帳に追加

気流式粉砕機2は、原料を旋回気流RAで気流搬送しながら粉砕および第一の分級をして粉末を製造可能なものである。 - 特許庁

例文

It is preferable that the protective member is as thick as 3 mm or above, and its peripheral surface is 2.0 μm or below in average roughness (Ra).例文帳に追加

保護部材の厚さは3mm以上、外周面の平均面粗さ(Ra)は2.0μm 以下であることが好ましい。 - 特許庁

例文

A surface of the environmentally resistant film 22 is processed so that surface finish of the film 22 is less than Ra 2.0 μm.例文帳に追加

耐環境性皮膜(22)の表面を、皮膜(22)の表面仕上げがRa2.0μm未満となるように加工する。 - 特許庁

The RC series circuit 11 is constituted by a resistance Ra and a capacitor Ca connected in series each other.例文帳に追加

RC直列回路11は、互いに直列に接続された抵抗Ra 及びコンデンサCa から構成される。 - 特許庁

The parts have a surface composed of a rugged rough surface, and the surface of a recessed part and the surface of a projected part of this rugged rough surface have practically identical roughness (Ra).例文帳に追加

凹凸粗面の表面を有し且つ凹部の表面と凸部の表面とが実質的に同一の粗度(Ra)を有している。 - 特許庁

The substrate K is provided with stripe like ribs Ra or lattice like ribs Rb as shown by figure 3 to form the projecting and recessed parts.例文帳に追加

基板Kには、図3に示すような、ストライプ状のRaや井桁状のリブRbが設けられ、凸凹状をなしている。 - 特許庁

The ARs 111 to 118 transmit the router advertisement RA generated by the MAP 101 to an MN (e.g., MN 107) during communication.例文帳に追加

AR111〜118は、MAP101が生成したルータ広告RAを通信中のMN(例えばMN107)に送信する。 - 特許庁

The surface hardness of a rolling surface of the ball 5 is Hv 890 or higher and the surface roughness thereof is Ra 0.003 μm or lower.例文帳に追加

玉5の転動面の表面硬さをHv890以上とし、表面粗さをRa0.003μm以下とする。 - 特許庁

The substrate K is provided with stripe-like ribs Ra or ribs Rb of parallel crosses and has an uneven surface as shown by figure 2.例文帳に追加

基板Kには、図2に示すように、ストライプ状のRaや井桁状のリブRbが設けられ、凹凸状をなしている。 - 特許庁

Then, the position of the axis RA is adjusted based on the results of the measurement so as to agree with the real center axis AA of the tunnel.例文帳に追加

次いで、測定結果に基づいて回転軸線(RA)の位置を調整し、トンネルの現実の中心軸線(AA)と一致させる。 - 特許庁

Then, stray light components δR, δG, δB for each of colors are obtained on the basis of the mean values Ra, Ga, Ba.例文帳に追加

そして、平均値Ra、Ga及びBaに基づいて、各色に対する迷光成分δR、δG及びδBを求める。 - 特許庁

Further, the surface roughness (Ra) is controlled to 1 to 4 or 1 to 2 or 3 to 4 μm, and the surface temperature is controlled to 70 to 90°C.例文帳に追加

また、表面仕上げをダル、表面粗度(Ra)を1〜4または1〜2または3〜4μm、表面温度を70〜90℃とした。 - 特許庁

Al and the balance Zn with impurities and no η phase to form the surface layer consisting essentially of Zn compound in the coated layer.例文帳に追加

表面の算術平均粗さ[Ra]が0.5 μm以上、1.5 μm以下で、表面層中のZn量[Zn](mg/m^2) が次式を満たすようにする。 - 特許庁

In the casing 41, outlets 41aa-41ad, 41ba-41bd are formed for blowing out the air-conditioned air into an air conditioning room RA.例文帳に追加

ケーシング41には、空調空気を空調対象室RAに吹き出すための吹き出し口41aa〜41ad,41ba〜41bdが形成されている。 - 特許庁

Furthermore, it is preferable that an inner face of the V-groove 5 (a contact surface with the fiber) has average roughness Ra=1.6 μm or less.例文帳に追加

また、V溝5の内面(ファイバとの接触面)は、平均粗さRa=1.6μm以下であることが望ましい。 - 特許庁

The wafer host material may be formed with a sintered SiC, and surface roughness of the monitoring wafer is desirably as Ra=0.5 nm or lower.例文帳に追加

ウェハ母材は焼結体SiCにより形成することがよく、当該ウェハの表面粗さがRa=0.5nm以下とすることが望ましい。 - 特許庁

In this case, the major surfaces 52 and 53 have uneven faces 58 each of which exhibit a surface roughness Ra of 0.249 μm and a surface roughness Rz of 0.793 μm.例文帳に追加

なお、主面52,53は凹凸部58を有しており、表面粗さRaは0.249μm、表面粗さRzは0.793μmとなる。 - 特許庁

A surface roughness Ra is 0.03-0.2 μm in a portion covered with the DLC layer D out of the base material.例文帳に追加

母材のうちDLC層Dが被覆されている部分の表面粗さRaは0.03〜0.2μmである。 - 特許庁

The resistors Ra to Rc and resistances Rx, Ry which determine the magnitude of the reference current Ii are chosen so that VCi>Vave if Vp>Vm.例文帳に追加

但し、抵抗Ra〜Rc、及び基準電流Iiの大きさを決める抵抗Rx,Ryは、Vp>VmであればVCi>Vave となるように設定する。 - 特許庁

The massive phosphor is composed of only an inorganic material and has a surface roughness (Ra) in the range of 0.05-3 μm.例文帳に追加

本発明の塊状蛍光体は、無機材料のみから構成され、表面粗さ(Ra)が0.05〜3μmの範囲内にあることを特徴とする。 - 特許庁

By providing Ra and Rz×D within the ranges, a form and directivity of a crystal comprising the stimulable phosphor layer 3 can be optimized.例文帳に追加

Ra、Rz・Dを上述の範囲とすることで、輝尽性蛍光体層3をなす結晶の形状、指向性を最適化できる。 - 特許庁

An integral similarity calculating part V43 calculates integral similarity Ra from the weights Wc and Wt and the similarity Rc and Rt.例文帳に追加

総合類似度算出部V43はウェイトWc,Wt及び類似度Rc,Rtから総合類似度Raを求める。 - 特許庁

Since mobility of a hole is large in the crystal orientation <100>, parasitic resistors Ra and Rb on the path can be reduced.例文帳に追加

結晶方位<100>では正孔の移動度が大きいので、上記経路における寄生抵抗Ra,Rbを低減することができる。 - 特許庁

When the safety factor is 2, the operation frequency of 6000 is satisfied when the surface roughness Ra is 0.080 μm or less.例文帳に追加

また、安全係数を2として、動作回数6000回を満足させようとすれば、表面粗さRaは0.080μm以下であればよい。 - 特許庁

The roughened surface 162 of the conductor circuit 158 exposed by the etching is set to a mean roughness Ra of 1 μm or smaller.例文帳に追加

当該エッチング処理により露出した導体回路158の粗化層162の平均粗度(Ra)を1μm以下にする。 - 特許庁

In such a case, the upper limit of Ra is set preferably at 3.0 μm, further preferably at 2.5 μm.例文帳に追加

Ra≧0.015Cw ……(1)この場合、Raの上限値を好ましくは3.0μm、さらに好ましくは2.5μmとするのが良い。 - 特許庁

Besides, surface coarseness Ra on the surfaces of the conductors 8, 9, 10, 11 and 20 on the side of the insulating layers 1, 2, 3, 4 and 5 is less than 1 μm.例文帳に追加

また、導体8、9、10、11、20の絶縁層1、2、3、4、5側の面の表面粗さRaが1μm以下のものである。 - 特許庁

Surface roughness Ra of the polishing work-applied first and second margin parts is set in a range of 0.1 μm to 0.3 μm.例文帳に追加

ポリッシュ加工が施された第1,第2マージン部の表面粗さRaを、0.1μm〜0.3μmの範囲に設定する。 - 特許庁

In the formulas, Ra is the center line average height (μm) and PPI is the peak count.例文帳に追加

Ra×PPI≦600 …(1) Ra×PPI≦1000 …(2) 但し、Raは中心線平均粗さ(μm)、PPIはピークカウントである。 - 特許庁

In the stage 24 for projecting the solid particles, the average roughness Ra of the surface of the steel sheet is adjusted to 0.5-2.0 μm.例文帳に追加

固体粒子を投射する工程24では、鋼板表面の平均粗さRa0.5〜2.0μmに調整する。 - 特許庁

A copper or copper alloy sheet is annealed and is thereafter subjected to mechanical grinding to control the surface roughness Ra to 0.05 to 0.5 μm, and, after that, final cold rolling is executed.例文帳に追加

銅又は銅合金板を焼鈍後、機械研磨を行なって表面粗さRaを0.05〜0.5μmとした後、最終冷間圧延を行う。 - 特許庁

Means 1: the cam lobe comprises iron-based sintered material, and surface roughness Ra of its outer circumferential surface is set to be 0.4-2.2 μm.例文帳に追加

(手段1)鉄系焼結材からなるカムロブを用い、その外周面の表面粗さRaを0.4〜2.2μmとする。 - 特許庁

High-frequency signals are supplied to paired electrodes 4A1 and 4A2, 4B1 and 4B2, and 4C1 and 4C2 respectively through resistors RA, RB, and RC and transformers 5A, 5B, and 5C.例文帳に追加

発振部1より高周波信号を抵抗R_A 、R_B 、R_C 、トランス5_A、5_B 、5_C を介して、それぞれ一対の電極4_A1、4_A2、4_B1、4_B2、4_C1、4__C2に加える。 - 特許庁

One end of a resistor Ra is connected to the positive input terminal of the boost circuit, and the other end is connected to low-voltage GND.例文帳に追加

抵抗Raの一端は昇圧回路の正極入力端子に、他端は低電圧GNDに接続されている。 - 特許庁

Here, Ra=(1/L)∫_0Lf(x)dx, where L is a reference value of length and 0.8 mm and f(x) represents a roughness curve.例文帳に追加

Ra=(1/L)∫_0^Lf(x)dx 上記式中、Lは長さの基準値でありL=0.8mm、f(x)は粗さ曲線を表す。 - 特許庁

Roughness of the uppermost surface is preferably 0.1 to 3 μm expressed by the arithmetic mean roughness Ra specified by JIS B0601.例文帳に追加

最表面の粗さは、JIS B0601に規定される算術平均粗さRaで表して0.1〜3μmであることが好適である。 - 特許庁

Regarding the surface roughness of the developing sleeve 68, the surface roughness Ra of the part except the parts where the grooves 74 are formed is ≤0.3 μm.例文帳に追加

現像スリーブ68は、溝74が形成されている以外の表面粗さがRa0.3μm以下である。 - 特許庁

The porous ceramic 1 is characterized in that the surface roughness (Ra) is <0.5 μm and the porosity is30%.例文帳に追加

本発明に係る多孔質セラミックスは表面面粗度(Ra)が0.5μm未満で、気孔率が30%以上のセラミックス1からなる。 - 特許庁

The surface roughness (Ra) of a workpiece installation surface 12 is required to be 0.08 to 1.0 μm.例文帳に追加

ダイ10として、素板設置面12の表面粗さ(Ra)が0.08〜1.0μmに設定されたものを用いるものである。 - 特許庁

In this case, even in the case of V(Ra)≠0, vibration is not generated at a position having a state of sin(nθ)=0, relative to displacement in the Tangential direction.例文帳に追加

このとき、V(Ra)≠0であっても、Tangential方向の変位は、sin(nθ)=0となる位置においては振動が生じない。 - 特許庁

The equipment B calculates an authentication value Sb by using the ID and the number Ra received from the equipment A, and transmits the value Sb to the equipment A.例文帳に追加

機器Bは、IDと機器Aから受け取った乱数Raとを使って認証値Sbを計算し、認証値Sbを機器Aに送信する。 - 特許庁

例文

The surface roughness of an outer-periphery end 5AG of a top part 5A of the projecting part 5 is set to Ra=0.3 μm or more.例文帳に追加

この凸部5の頂部5Aの外周縁5AGの表面粗さは、Ra=0.3μm以上である。 - 特許庁

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